【技术实现步骤摘要】
一种提高光场相干度自修复能力的方法及装置
[0001]本专利技术涉及光场自修复
,特别是涉及一种提高光场相干度自修复能力的方法及装置。
技术介绍
[0002]本部分的陈述仅仅是提供了与本专利技术相关的
技术介绍
信息,不必然构成在先技术。
[0003]光场自修复特性是指光束被障碍物阻挡并传输到一定距离后,可以自行恢复的一种光束特性。由于该特性可以减少光束的散射和扩散,所以能发生自修复的光束已广泛应用于多种应用中,包括:自修复光束可以在多个分离的空间平面中进行粒子捕获,减少散射伪影,提高图像质量和显微镜的穿透深度,适用于自由空间量子通信和成像,同时也可用作光与物质相互作用的探针等。针对光束可以实现自修复的特性,研究人员从几何光学、波动光学、能流等多方面进行了解释,但是,上述自修复特性研究都局限于完全相干光场范围内。
[0004]直到2016年,王飞等人首次提出部分相干光束自修复的概念,他们发现部分相干光束的光强和偏振特性都具有强大的自修复能力。之后,刘显龙等人指出,部分相干光束的相干度虽然也具有自修复能力,但 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种提高光场相干度自修复能力的方法,其特征在于,包括:光束由光源面传输到障碍物的过程中,通过加载交叉相位因子的空间光调制器对光束进行调制后,控制光束穿过障碍物后的相干度自修复。2.如权利要求1所述的一种提高光场相干度自修复能力的方法,其特征在于,含交叉相位因子的光束交叉谱密度函数为:W
in
(r1,r2)=τ(r1)τ
*
(r2)μ(r2‑
r1)exp[iu(x1y1‑
x2y2)]其中,r=(x,y)表示入射光源面的矢量坐标,τ(r)是复变函数,μ(r2‑
r1)是相干度函数,exp(iuxy)是交叉相位因子,u表示交叉相位因子的强度大小。3.如权利要求1所述的一种提高光场相干度自修复能力的方法,其特征在于,光束由光源面经传输到达障碍物处和焦平面处的交叉谱密度函数分别为:到达障碍物处和焦平面处的交叉谱密度函数分别为:其中,O(ρ)表示障碍物方程,ρ为障碍物处的矢量坐标,η为焦平面处的矢量坐标。4.如权利要求1所述的一种提高光场相干度自修复能力的方法,其特征在于,光束的相干度分布表示为:其中,W...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘瑞萱,马普娟,梁春豪,蔡阳健,
申请(专利权)人:山东师范大学,
类型:发明
国别省市:
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