制造具有透明导电膜的设备制造技术

提供了一种用于制造具有透明导电膜的基底的设备，其可防止发生非正常放电并使馈送辊持久耐用。一承载器支持一托架，该托架经若干支持部件保持一绝缘基底，各支持部件由一空心圆柱部件（分离器元件）和一空心圆柱部件（支持元件）形成。该承载器通过馈送辊（３８）在一ＩＴＯ烧结体的蒸发颗粒的气氛中被传送，馈送辊３８的轴由刚性更大的金属制成。分离器元件将该蒸发颗粒的气氛与支持元件的外表面分离开以在这些蒸发颗粒的迁移和附连的路径中形成一曲径。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于制造具有透明导电膜的设备，且更具体地涉及一种用于通过使用等离子体在真空下，在一基底上形成一透明导电膜的设备。如图9至12所示，该常规的基底生产设备包括一离子电镀设备，其通过使用一膜形成夹具(jig)900和馈送辊1000，通过在自一ITO烧结体蒸发且通过一等离子束被离子化的ITO的颗粒的气氛中馈送一绝缘基底，而在该绝缘基底上形成一ITO膜，在该膜形成夹具900中，该绝缘基底被固定地配置。下面进行详细的描述。图9是在该常规的离子电镀设备中使用的用于一绝缘基底的一膜形成夹具的透视图。如图9所示，该用于一绝缘基底的膜形成夹具900包括一用于保持该绝缘基底901的托架902、和用于在其上承载该托架902的一承载部件903。该托架902由一在其底部902a上形成有一矩形开口902b的箱形部件和从其上部边缘902c的相对侧横向向外延伸的两对伸出部分902d形成。该托架902在该箱形部件的底部902a上保持该绝缘基底901。而且，该承载部件903由一在其中接收该托架902的一框架部件形成，并通过驻留在其上的托架902的伸出部分902d来保持该托架902。在自一ITO烧结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造具有透明导电膜的基底的设备，该设备包括：一保持部件，用于保持一绝缘基底；第一承载装置，用于支持所述保持部件；馈送装置，用于馈送所述第一承载装置；和第二承载装置，其具有配置在第一承载装置上的至少一支持元件和配置在所 述第一承载装置上并沿所述支持元件延伸的至少一分离器元件，其中所述第一承载装置经所述第二承载装置支持所述保持部件，且所述分离器元件在用于形成所述透明导电膜的蒸发颗粒的迁移并附连至所述支持元件的一表面上的一路径中连同所述支持元件一起形成一曲 径。

【技术特征摘要】
JP 2000-10-18 318410/001.一种用于制造具有透明导电膜的基底的设备，该设备包括一保持部件，用于保持一绝缘基底；第一承载装置，用于支持所述保持部件；馈送装置，用于馈送所述第一承载装置；和第二承载装置，其具有配置在第一承载装置上的至少一支持元件和配置在所述第一承载装置上并沿所述支持元件延伸的至少一分离器元件，其中所述第一承载装置经所述第二承载装置支持所述保持部件，且所述分离器元件在用于形成所述透明导电膜的蒸发颗粒的迁移并附连至所述支持元件的一表面上的一路径中连同所述支持元件一起形成一曲径。2.一种用于制造具有透明导电膜的基底的设备，该设备包括一保持部件，用于保持一绝缘基底；第一承载装置，用于支持所述保持部件；馈送装置，用于馈送所述第一承载装置；和第二承载装置，其具有配置在所述第一承载部件上的至少一支持元件和配置在所述第一承载部件上并沿所述支持元件延伸的至少一分离器元件，其中所述第一承载装置经所述第二承载装置的支持元件支持所述保持部件，且所述分离器元件在高度上低于所述支持元件以使所述分离器元件部分地将所述支持元件与所述设备内的用于形成所述透明导电膜的蒸发颗粒的气氛分离开。3.根据权利要求2的设备，其中，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：和田俊司，
申请(专利权)人：日本板硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]