一种清洗池制造技术

本实用新型专利技术公开了一种清洗池，涉及清洗池技术领域，包括：池体，池体下端设置有出水口；沉淀池，设置于池体的下方，沉淀池内由左向右依次并排设置有多个沉淀仓，出水口与沉淀池内最左侧的沉淀仓连通，沉淀池的右端底部开设有下水口，沉淀仓的右侧壁上开设有排水口，多个排水口的开设高度由左向右依次降低；仓门，设置于沉淀仓的底部；该清洗池在池体的下方设置沉淀池，沉淀池内的多个沉淀仓具有多级沉淀效果，能够有效去除水中的泥砂，避免下水管路堵塞，并且可以通过打开仓门方便的清理沉淀仓，使用方便。使用方便。使用方便。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗池


[0001]本技术属于清洗池
，更具体地，涉及一种清洗池。

技术介绍

[0002]清洗池的下水管路容易堵塞，堵塞后清理困难，特别是从事砂浆研发工作人员，日常试验会使用到水泥、河砂等原材料，试验结束后需要清洗试验设备、仪器，在清洗过程中，会析出大量河砂等颗粒物质，被冲进下水道，长时间积累容易引起清洗池的下水管路堵塞。
[0003]传统的做法是在实验室旁边建造一个大型沉淀池，用于河砂沉淀过滤，然后再将水排入污水管道。该方法虽然可以有效过滤河砂，但存在的问题是大型沉淀池造价高，并且一般需要定期处理，需要用到专门的工具，处理起来相对来说较麻烦，很费力，清理起来也很脏。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是针对现有技术中存在的不足，提供一种清洗池，在池体的下方设置沉淀池，沉淀池内的多个沉淀仓具有多级沉淀效果，能够有效去除水中的泥砂，避免下水管路堵塞，并且可以通过打开仓门方便的清理沉淀仓，使用方便。
[0005]为了实现上述目的，本技术提供一种清洗池，包括：
[0006]池体，所述池体下端设置有出水本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗池，其特征在于，包括：池体，所述池体下端设置有出水口；沉淀池，设置于所述池体的下方，所述沉淀池内由左向右依次并排设置有多个沉淀仓，所述出水口与所述沉淀池内最左侧的沉淀仓连通，所述沉淀池的右端底部开设有下水口，所述沉淀仓的右侧壁上开设有排水口，多个所述排水口的开设高度由左向右依次降低；仓门，设置于所述沉淀仓的底部。2.根据权利要求1所述的清洗池，其特征在于，所述池体的下端为锥状，所述出水口开设在所述池体的下端的最低处。3.根据权利要求1所述的清洗池，其特征在于，靠近所述下水口的所述排水口上设置有过滤网。4.根据权利要求1所述的清洗池，其特征在于，所述排水口内穿设有Z形的排水管，所述排水管的两端分别设置在相邻的两个所述沉淀...

【专利技术属性】
技术研发人员：何小荣，朱成珍，胡刚，黄凯，
申请(专利权)人：芜湖东方雨虹建筑材料有限公司，
类型：新型
国别省市：