一种磁介质沉淀池系统技术方案

本发明专利技术提供一种磁介质沉淀池系统，包括：沉淀装置、磁介质循环装置和壳体，所述沉淀装置用于处理污水，所述磁介质循环装置用于处理磁介质，其中：所述沉淀装置和所述磁介质循环装置位于所述壳体内部，所述壳体设有污水口和出水口；所述沉淀装置的第一入口连接污水口，所述沉淀装置的第一出口连接出水口；所述沉淀装置的第二入口连接所述磁介质循环装置的第一出口，所述沉淀装置的第二出口连接所述磁介质循环系统的入口。本发明专利技术通过将沉淀装置和磁介质循环装置设在壳体内部，成为一个整体，结构紧凑，同时可采用地上，半地埋或全地埋形式，能够有效提高空间利用率。能够有效提高空间利用率。能够有效提高空间利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种磁介质沉淀池系统


[0001]本专利技术涉及污水处理
，尤其涉及一种磁介质沉淀池系统。

技术介绍

[0002]城市和工业用水量较大，且经过使用的水资源会被一定程度的污染，造成水资源的减少和浪费。具有混凝沉淀工艺的污水处理设备常被用来来降低污水中的悬浮颗粒、磷等污染物的含量，以提高出水水质。但在现有技术中，污水处理设施由于工艺本身限制，对水力负荷或水力停留时间有要求，导致水处理设施对占地有一定的要求。
[0003]以上可见，现有技术中存在污水处理设备空间利用率不足的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种磁介质沉淀池系统，以解决现有技术中存在着污水处理设备空间利用率不足的问题。
[0005]为达到上述目的，本专利技术实施例提供一种磁介质沉淀池系统，包括：沉淀装置、磁介质循环装置和壳体，所述沉淀装置用于处理污水，所述磁介质循环装置用于处理磁介质，其中：
[0006]所述沉淀装置和所述磁介质循环装置位于所述壳体内部，所述壳体设有污水口和出水口；
[0007]所述沉淀装置的第一入口连接污水口，所述沉淀装置的第一出口连接出水口；
[0008]所述沉淀装置的第二入口连接所述磁介质循环装置的第一出口，所述沉淀装置的第二出口连接所述磁介质循环系统的入口。
[0009]可选的，所述沉淀装置包括：第一处理池、第二处理池、第三处理池、第四处理池，其中：
[0010]所述第一处理池的的入口连接所述污水口，所述第一处理池的出口连接所述第二处理池的第一入口，所述第二处理池的出口连接所述第三处理池的入口，所述第三处理池的出口连接所述第四处理池的第一入口，所述第四处理池的第一出口连接所述出水口；
[0011]所述第四处理池的第二出口连接所述磁介质循环装置的第一入口，所述磁介质循环装置的出口连接所述第二处理池的第二入口；
[0012]所述第四处理池的第三出口连接所述第二处理池的第三入口。
[0013]可选的，所述第一处理池设有第一搅拌器，所述第二处理池设有第二搅拌器，所述第三处理池设有第三搅拌器，其中，
[0014]所述第一搅拌器设在第一处理池中心，所述第二搅拌器设在第二处理池中心，所述第三搅拌器设在所述第三处理池中心。
[0015]可选的，所述第四处理池包括集水槽、斜管、沉淀池和泥斗，所述集水槽、所述斜管、所述沉淀池和所述泥斗按照标高从高到低设置，其中：
[0016]所述斜管的入口和所述第三处理池的出口连接，所述斜管的第一出口和所述集水
槽的入口连接，所述集水槽的出口连接出水口；
[0017]所述斜管的第二出口和所述沉淀池的入口连接，所述沉淀池的出口和所述泥斗的入口连接，所述泥斗的第一出口通过第一污泥泵与所述第二处理池的第三入口连接；
[0018]所述泥斗的第二出口通过第二污泥泵与所述磁介质循环装置的第一入口连接。
[0019]可选的，所述第四处理池还包括挡流板和刮泥机，其中，
[0020]所述刮泥机设在所述沉淀池的中心位置；
[0021]所述挡流板位于所述第四处理池的入口。
[0022]可选的，所述沉淀装置还包括混凝剂投加装置和絮凝剂投加装置，其中，所述第一处理池的第二入口连接所述混凝剂投加装置，所述第三处理池的第二入口连接所述絮凝剂投加装置。
[0023]可选的，所述磁介质沉淀池系统还包括第一冲洗系统和第二冲洗系统，所述第一冲洗系统通过气泵与所述第四处理池的第二入口连接，所述第二冲洗系统通过水泵与所述磁介质循环装置的第二入口连接。
[0024]可选的，所述磁介质沉淀池系统还包括储泥池，其中，所述储泥池位于所述壳体的内部，所述磁介质循环装置的第二出口连接所述储泥池的入口；
[0025]所述储泥池内设有潜污泵，所述潜污泵连通排污口。
[0026]可选的，所述磁介质循环装置包括污泥剪切机和磁介质回收机，其中：
[0027]所述沉淀装置的第二出口与所述污泥剪切机的入口连接，所述污泥剪切机的第一出口与所述磁介质回收机的第一入口连接；
[0028]所述磁介质回收机的第一出口连接所述第二处理池的第二入口，所述磁介质回收机的第二出口连接所述储泥池的入口。
[0029]可选的，所述沉淀池系统还包括弧形盖棚，所述弧形盖棚设有入料口、维修平台、通风系统和检修口，其中，
[0030]所述入料口连接所述沉淀装置的第三入口，所述检修口连通壳体的内部和外部，且所述检修口设有爬梯。
[0031]上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果：
[0032]本专利技术实施例中，通过将沉淀装置和磁介质循环装置设在壳体内部，能够提高空间利用率，同时壳体可以设置在地面上、半埋或者全部埋在地下，从而减小了装置的占地面积。
附图说明
[0033]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0034]图1是本专利技术实施例提供的一种磁介质沉淀池系统的示意图；
[0035]图2是本专利技术实施例提供的另一种磁介质沉淀池系统的示意图；
[0036]图3是本专利技术实施例提供的一种磁介质沉淀池系统的俯视图；
[0037]图4是本专利技术实施例提供的一种磁介质沉淀池系统的侧视图；
[0038]图5是本专利技术实施例提供的另一种磁介质沉淀池系统的俯视图；
[0039]图6是本专利技术实施例提供的另一种磁介质沉淀池系统的侧视图；
[0040]图7是是本专利技术实施例提供的另一种磁介质沉淀池系统的示意图。
具体实施方式
[0041]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0042]如图1所示，本专利技术实施例提供一种沉淀池系统，包括：沉淀装置10、磁介质循环装置20和壳体30，沉淀装置10用于处理污水，磁介质循环装置20用于处理磁介质，其中：
[0043]沉淀装置10和磁介质循环装置20位于壳体30内部，壳体30设有污水口和出水口；
[0044]沉淀装置10的第一入口连接污水口，沉淀装置10的第一出口连接出水口；
[0045]沉淀装置10的第二入口连接磁介质循环装置20的第一出口，沉淀装置10的第二出口连接磁介质循环装置20的第一入口。
[0046]本实施方式中，通过将沉淀装置10和磁介质循环装置20设在壳体30内部，能够提高空间利用率，从而减小了装置的占地面积。
[0047]具体的，沉淀装置10和磁介质循环装置20设在壳体30内部，实现设备的一体化和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁介质沉淀池系统，其特征在于，包括：沉淀装置、磁介质循环装置和壳体，所述沉淀装置用于处理污水，所述磁介质循环装置用于处理磁介质，其中：所述沉淀装置和所述磁介质循环装置位于所述壳体内部，所述壳体设有污水口和出水口；所述沉淀装置的第一入口连接污水口，所述沉淀装置的第一出口连接出水口；所述沉淀装置的第二入口连接所述磁介质循环装置的第一出口，所述沉淀装置的第二出口连接所述磁介质循环装置的第一入口。2.如权利要求1所述的沉淀池系统，其特征在于，所述沉淀装置包括：第一处理池、第二处理池、第三处理池、第四处理池，其中：所述第一处理池的的入口连接所述污水口，所述第一处理池的出口连接所述第二处理池的第一入口，所述第二处理池的出口连接所述第三处理池的入口，所述第三处理池的出口连接所述第四处理池的第一入口，所述第四处理池的第一出口连接所述出水口；所述第四处理池的第二出口连接所述磁介质循环装置的第一入口，所述磁介质循环装置的出口连接所述第二处理池的第二入口；所述第四处理池的第三出口连接所述第二处理池的第三入口。3.如权利要求2所述的沉淀池系统，其特征在于，所述第一处理池设有第一搅拌器，所述第二处理池设有第二搅拌器，所述第三处理池设有第三搅拌器，其中，所述第一搅拌器设在第一处理池中心，所述第二搅拌器设在第二处理池中心，所述第三搅拌器设在所述第三处理池中心。4.如权利要求2所述的磁介质沉淀池系统，其特征在于，所述第四处理池包括集水槽、斜管、沉淀池和泥斗，所述集水槽、所述斜管、所述沉淀池和所述泥斗按照标高从高到低设置，其中：所述斜管的入口和所述第三处理池的出口连接，所述斜管的第一出口和所述集水槽的入口连接，所述集水槽的出口连接出水口；所述斜管的第二出口和所述沉淀池的入口连接，所述沉淀池的出...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海明，黎锦雄，罗金稳，毕玉岩，
申请(专利权)人：安乐工程有限公司，
类型：发明
国别省市：