【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般性地涉及等离子体约束(containment)的领域,更具体地,涉及一种用于在相对紧凑的约束腔内建立稳定的等离子体的系统和方法。
技术介绍
核聚变是当两个较小质量的原子核熔合产生一个较大质量的原子核和反应产物的时候出现的。因为能量的基本量(substantial amount)与反应产物有关,所以受控的核聚变研究随着作为重要目标之一的高效的能量产生而处于一个正在进行的过程中。为了产生聚变,两个原子核需要在克服相互排斥的库仑势垒之后在核的能级上互相作用。能够采用不同的方法来促进这种互相作用。一个广泛采用的促进聚变过程的方法是提供一块具有足够密度和温度的可熔离子的大量的等离子体。这种等离子体需要约束得足够长时间,以使聚变反应能够发生。优选这样的约束基本上将等离子体从周围环境中隔离,以减少热量损失。约束该可熔等离子体的一个方法是使用磁场将此等离子体“收缩”和限制在一定的体积。一个通常称为“托卡马克”的磁约束设计将此等离子体限制在一个环形(螺旋管)块内。因为许多常规的磁约束聚变设备与电源产品传动,因此约束体积被设计得较大。因而,这种大设备以及各种支撑元件对于普遍的应用中的操作来说可能是复杂的和/或昂贵的。
技术实现思路
前述与大的聚变设备相关的缺点能够通过一种允许形成小块的可熔等离子体的约束方法和装置和通过增强稳定性加以克服。这种等离子体能够通过在无需实行准中性(quasi-neutrality)条件下确定该系统的稳定能量态而设计。具有较小尺寸的约束的可熔等离子体包括一个对该等离子体的稳定性作用很大的基本感应静电场。基于这种约束的等离子体的紧凑设备能 ...
【技术保护点】
一种两模式等离子体约束装置,包括: 等离子体,其设置在具有约束尺寸的约束块内,所述等离子体包括多个电子和多个离子,并且其中所述电子用作在所述等离子体中建立的电流的电荷载体;以及 磁场,其对所述电子比对所述离子的影响基本上更多,使得所述电子作为约束的第一模式被约束在电子约束块内,该电子约束块小于所述约束块,使得所述电子的数量和所述离子的数量的分布产生至少部分的分离,其中所述分离感应出静电场,该静电场促使所述离子约束在所述约束块内作为第二模式。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2003-3-21 60/456,8321.一种两模式等离子体约束装置,包括等离子体,其设置在具有约束尺寸的约束块内,所述等离子体包括多个电子和多个离子,并且其中所述电子用作在所述等离子体中建立的电流的电荷载体;以及磁场,其对所述电子比对所述离子的影响基本上更多,使得所述电子作为约束的第一模式被约束在电子约束块内,该电子约束块小于所述约束块,使得所述电子的数量和所述离子的数量的分布产生至少部分的分离,其中所述分离感应出静电场,该静电场促使所述离子约束在所述约束块内作为第二模式。2.如权利要求1的装置,其中该电子约束块具有的尺寸在大约1到大约1000电子趋肤深度的范围内。3.如权利要求1的装置,其中该电子约束块具有的尺寸在大约1到大约100电子趋肤深度的范围内。4.如权利要求1的装置,其中该电子约束块具有的尺寸在大约1到大约60电子趋肤深度的范围内。5.如权利要求1的装置,其中该电子约束块具有的尺寸在大约1到大约40电子趋肤深度的范围内。6.如权利要求1的装置,其中该电子约束块具有的尺寸在大约1到大约10电子趋肤深度的范围内。7.如权利要求1的装置,其中该电子约束块具有的尺寸在大约1到大约2电子趋肤深度的范围内。8.如权利要求1的装置,其中该电子约束块具有大约1.2电子趋肤深度的尺寸。9.如权利要求1的装置,其中该约束块大致为圆柱形。10.如权利要求1的装置,其中该约束块大致为圆环形。11.如权利要求1的装置,其中该电子是使用Z收缩约束由磁场约束的。12.如权利要求1的装置,其中该电子是使用θ收缩约束由磁场约束的。13.如权利要求1的装置,其中该电子是组合使用Z收缩约束和θ收缩约束由磁场约束的。14.如权利要求1的装置,其中该等离子体的操作参数遭受到在与该等离子体相关的β值方面的限制,其中该β值取决于包括该等离子体的平均数密度、温度和该磁场的强度的因素。15.如权利要求1的装置,其中该电子对于该电流的贡献比该离子对于该电流的贡献更多。16.如权利要求1的装置,其中该电子在该等离子体内的整体运动比该离子在该等离子体内的整体运动要多。17.如权利要求1的装置,其中该电子在该等离子体内的流动比该离子在该等离子体内的流动要多。18.一种等离子体腔,包括包含电子和离子的等离子体;和磁场,具有将所述电子基本上约束在一个受限块内的形状和尺寸,该受限块用块尺度长度表征,所述块尺度长度具有一个由位于所述受限块内的电子趋肤深度决定的尺寸,其中所述电子和所述离子在所述受限块内保持着重叠的空间分布,所述重叠空间分布在所述受限块内产生一个基本整体的静电场,该受限块稳定所述重叠空间分布并且将所述离子基本上约束在所述受限块内。19.如权利要求18的等离子体腔,其中所述块尺度长度在大约1到大约1000电子趋肤深度的范围内。20.如权利要求18的等离子体腔,其中所述块尺度长度在大约1到大约100电子趋肤深度的范围内。21.如权利要求18的等离子体腔,其中所述块尺度长度在大约1到大约60电子趋肤深度的范围内。22.如权利要求18的等离子体腔,其中所述块尺度长度在大约1到大约40电子趋肤深度的范围内。23.如权利要求18的等离子体腔,其中所述块尺度长度在大约1到大约10电子趋肤深度的范围内。24.如权利要求18的等离子体腔,其中所述块尺度长度在大约1到大约2电子趋肤深度的范围内。25.如权利要求18的等离子体腔,其中所述块尺度长度为大约1.2电子趋肤深度。26.如权利要求18的等离子体腔,其中所述受限块大致为圆柱形。27.如权利要求18的等离子体腔,其中所述受限块大致为圆环形。28.如权利要求18的等离子体腔,其中所述电子是使用Z收缩约束由所述磁场约束的。29.如权利要求18的等离子体腔,其中所述电子是使用θ收缩约束由所述磁场约束的。30.如权利要求18的等离子体腔,其中所述电子是组合使用Z收缩约束和θ收缩约束由磁场约束的。31.如权利要求18的等离子体腔,其中该等离子体的操作参数遭受到在与该等离子体相关的β值方面的限制,其中该β值取决于包括该等离子体的平均数密度、温度和该磁场的强度的一些因素。32.如权利要求18的等离子体腔,其中该等离子体是以一种允许该离子中至少一部分进行聚变反应的方式被封闭的。33.如权利要求32的等离子体腔,其中该聚变反应产生中子。34.如权利要求32的等离子体腔,其中该聚变反应产生电能。35.如权利要求18的等离子体腔,其中该等离子体是以一种允许产生软x射线的方式被封闭的。36.如权利要求18的等离子体腔,其中该电子对该等离子体中电流的贡献比该离子对于该电流的贡献要多。37.如权利要求18的等离子体腔,其中该电子在该等离子体内的整体运动比该离子在该等离子体内的整体运动要多。38.如权利要求18的等离子体腔,其中该电子在该等离子体内的流动比该离子在该等离子体内的流动要多。39.一种用于设计等离子体约束设备的方法,包括产生等离子体系统的能量的特征,该等离子体系统包括电子分布和离子分布,其中所述特征包括与整体静电场相关的能量项,该静电场是由于电子的所述分布与离子的所述分布的不同而在该等离子体内感应的;确定与该等离子体系统的该能量的所述特征相关的平衡态;以及确定与所述平衡态相关的一个或者多个等离子体参数。40.如权利要求39的方法,其中所述一个或者多个等离子体参数包括电子数密度和块尺度长度。41.一种等离子体聚变设备,包括具有在其中约束的等离子体的等离子体反应腔,其中该等离子体包括多个电子和多个离子;约束场产生器,其提供磁场到反应腔,由此使得该等离子体的约束基本上在等离子体约束块内;以及反应燃料供应源,其提供能够在等离子体条件下熔合以产生反应产物的离子的一种或者多种核素,其中电子用作为建立于该等离子体中的电流的电荷载体,由此使得该磁场影响电子比离子要多,从而使得磁约束引起电子的数量和离子的数量的分布至少有部分的分离,其中所述分离感应出静电场,该静电场促使位于该等离子体反应腔内的离子的约束,并且其中该等离子体约束块用块尺度尺寸来表征。42.如权利要求41的等离子体聚变设备,其中该块尺度尺寸在大约1到...
【专利技术属性】
技术研发人员:W法瑞尔爱德华斯,艾瑞克赫尔德,
申请(专利权)人:犹他州立大学,
类型:发明
国别省市:US[美国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。