一种光学元件超洗装置制造方法及图纸

技术编号:30869876 阅读:13 留言:0更新日期:2021-11-18 15:42
本实用新型专利技术公开了一种光学元件超洗装置,包括底座、第一循环管、第二循环管和排水管,所述底座上表面固定安装有清洗装置本体,所述清洗装置本体内设有清洗仓,所述清洗仓内壁中间呈环形阵列嵌入安装有制冷模块本体,所述清洗仓内壁一侧顶端与第一循环管的一端连通安装,所述清洗仓内壁一侧底端与第二循环管的一端连通安装,所述第二循环管上固定安装有过滤装置主体,所述清洗仓内壁另一侧底端与排水管一端连通安装。本实用新型专利技术解决了清洗液中的污物残留在光学元件表面导致需要二次清洗和清洗液温度过高导致光学元件受损的问题。液温度过高导致光学元件受损的问题。液温度过高导致光学元件受损的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种光学元件超洗装置


[0001]本技术涉及超声波清洗装置
,具体为一种光学元件超洗装置。

技术介绍

[0002]超声波清洗是指利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。
[0003]但是,目前在对光学元件进行超声波清洗时,通过超声波从光学元件上剥离的污物,依旧存在于清洗液中,当光学元件从清洗液中取出时,表面仍然带有一定的污物,需要进行二次清洗,同时,光学元件的清洗对温度要求较高,温度过高时容易导致光学元件表面的镀膜脱落,从而导致光学元件损坏。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种光学元件超洗装置,具备可过滤清洗液中的污物和避免清洗液温度过高对光学元件造成损伤的优点,解决了清洗液中的污物残留在光学元件表面导致需要二次清洗和清洗液温度过高导致光学元件受损的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种光学元件超洗装置,包括底座、第一循环管、循环泵、第二循环管和排水管,所述底座上表面固定安装有清洗装置本体,所述清洗装置本体内设有清洗仓,所述清洗仓内壁中间呈环形阵列嵌入安装有制冷模块本体,所述清洗仓内壁一侧顶端与第一循环管的一端连通安装,所述清洗仓内壁一侧底端与第二循环管的一端连通安装,所述第二循环管上固定安装有过滤装置主体,所述清洗仓内壁另一侧底端与排水管一端连通安装。
[0006]优选的,所述清洗装置本体外壁正面嵌入安装有温度表,清洗装置本体外壁一侧固定安装有控制装置本体。
[0007]优选的,所述清洗仓内活动放置有过滤篮,清洗仓下方的清洗装置本体内固定安装有换能器,换能器顶端固定安装有超声波发生器。
[0008]优选的,所述第一循环管另一端与循环泵一端连通安装,循环泵另一端与第二循环管另一端连通安装,循环泵通过固定支架安装在清洗装置本体外壁另一侧。
[0009]优选的,所述过滤装置主体内螺纹安装有滤芯本体。
[0010]优选的,所述排水管远离清洗装置本体的一端固定安装有电控阀。
[0011]与现有技术相比,本技术的有益效果如下:
[0012]本技术通过设置循环泵,并在分别通过第一循环管和第二循环管将循环泵与清洗装置本体内的清洗仓连通,通过循环泵工作,使清洗仓内的清洗液进行内部循环,在循环的过程中,通过安装在第二循环管上的过滤装置主体内的滤芯本体对清洗液进行过滤,并保证循环进入清洗仓内的清洗液不含污物,达到了清洗液在使用后内部污物有效过滤的效果,本技术通过设置制冷模块本体,并在清洗装置本体外壁上嵌入安装温度表,通过温度表显示的实时温度,启动制冷模块本体,使清洗仓内的清洗液温度降低,避免在进行清
洗过程中由于温度过高,导致光学元件表面脱膜,达到了保护光学元件不在清洗时受损的效果。
附图说明
[0013]图1为本技术的主视结构示意图;
[0014]图2为本技术的A处放大结构示意图;
[0015]图3为本技术的正视结构示意图。
[0016]图中:1、底座;2、清洗装置本体;3、电控阀;4、控制装置本体;5、制冷模块本体;6、过滤篮;7、第一循环管;8、固定支架;9、循环泵;10、第二循环管;11、清洗仓;12、超声波发生器;13、换能器;14、排水管;15、过滤装置主体;16、滤芯本体;17、温度表。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0018]在本技术的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0019]在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0020]请参阅图1至图3,本技术提供的一种实施例:一种光学元件超洗装置,包括底座1、第一循环管7、循环泵9、第二循环管10和排水管14,底座1上表面固定安装有清洗装置本体2,清洗装置本体2外壁正面嵌入安装有温度表17,清洗装置本体2外壁一侧固定安装有控制装置本体4。清洗装置本体2内设有清洗仓11,清洗仓11内活动放置有过滤篮6,清洗仓11下方的清洗装置本体2内固定安装有换能器13,换能器13顶端固定安装有超声波发生器12。清洗仓11内壁中间呈环形阵列嵌入安装有制冷模块本体5,通过设置制冷模块本体5,并在清洗装置本体2外壁上嵌入安装温度表17,通过温度表17显示的实时温度,启动制冷模块本体5,使清洗仓11内的清洗液温度降低,避免在进行清洗过程中由于温度过高,导致光学元件表面脱膜,达到了保护光学元件不在清洗时受损的效果。
[0021]清洗仓11内壁一侧顶端与第一循环管7的一端连通安装,第一循环管7另一端与循环泵9一端连通安装,循环泵9另一端与第二循环管10一端连通安装,循环泵9通过固定支架8安装在清洗装置本体2外壁另一侧。清洗仓11内壁一侧底端与第二循环管10的另一端连通安装,第二循环管10上固定安装有过滤装置主体15,清洗仓11内壁另一侧底端与排水管14
一端连通安装。排水管14远离清洗装置本体2的一端固定安装有电控阀3。通过设置循环泵9,并在分别通过第一循环管7和第二循环管10将循环泵9与清洗装置本体2内的清洗仓11连通,通过循环泵9工作,使清洗仓11内的清洗液进行内部循环,在循环的过程中,通过安装在第二循环管10上的过滤装置主体15内的滤芯本体16对清洗液进行过滤,并保证循环进入清洗仓11内的清洗液不含污物,达到了清洗液在使用后内部污物有效过滤的效果。
[0022]工作原理:本技术使用时,在清洗仓11内注入适量清洗液,并根据温度表17显示温度,通过制冷模块本体5对清洗仓11中的清洗液进行降温操作,将待清洗的光学元件放置在过滤篮6内,将过滤篮6放入清洗仓11中,启动换能器13并通过超声波发生器12对清洗液进行超声处理,从而对过滤篮6中的光学元件进行清洗,清洗的同时,循环泵9开始工作,将清洗液不断的通过第二循环管10吸入本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学元件超洗装置,包括底座(1)、第一循环管(7)、循环泵(9)、第二循环管(10)和排水管(14),其特征在于:所述底座(1)上表面固定安装有清洗装置本体(2),所述清洗装置本体(2)内设有清洗仓(11),所述清洗仓(11)内壁中间呈环形阵列嵌入安装有制冷模块本体(5),所述清洗仓(11)内壁一侧顶端与第一循环管(7)的一端连通安装,所述清洗仓(11)内壁一侧底端与第二循环管(10)的一端连通安装,所述第二循环管(10)上固定安装有过滤装置主体(15),所述清洗仓(11)内壁另一侧底端与排水管(14)一端连通安装。2.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置,其特征在于:所述清洗装置本体(2)外壁正面嵌入安装有温度表(17),清洗装置本体(2)外壁一侧固定安装有控制装置本体(4)。3...

【专利技术属性】
技术研发人员:林建国李旭沈玲霞
申请(专利权)人:苏州腾然光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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