GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法技术

本发明专利技术公开了一种GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法，包括以下步骤S1.预热；S2.刻蚀；S3.打底；S4.沉积TiN过渡层；S5.沉积TiN功能层，启动Ti靶材同时通入饱和状态氮气，保持炉压和温度，反复该步骤，且每次沉积前需要使前次沉积的功能层冷却至炉内温度从而消除功能层内应力，直至沉积达到规定厚度完成功能层沉积；S6.冷却出炉：零件随炉冷却至80℃以下取出；在沉积功能层时逐层沉积，且每次均需要冷却处理，从而消除功能层内应力。从而消除功能层内应力。

【技术实现步骤摘要】
GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法


[0001]本专利技术涉及镀膜工艺，尤其涉及GT35球碗曲面物理沉积(PVD)工艺方法。

技术介绍

[0002]球碗零件是航空惯导重要零部件，需要对其表面进行镀膜处理以达到更高的表面要求，传统工艺采用物理气相沉积技术(PVD)，通过氮离子轰击钛靶材将氮化钛沉积到零件表面形成镀层，传统沉积为一次沉积完成，但是其结合力不好，因此在2018年将技术改进后采用多次沉积将镀层分为纯钛层，过渡层以及氮化钛镀层，是镀层形成过度趋势从而提高镀层之间的结合力，但是这种镀膜方式也是持续进行，因此功能层内应力无法消除，在使用中会因为应力集中造成镀层破裂。

技术实现思路

[0003]为了解决现有技术中的不足，提供一种能有效消除功能层内应力，确保镀膜可靠的沉积TiN膜工艺方法，
[0004]GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法，其特征在于：
[0005]S1.预热，将球碗零件置于真空炉内保持抽真空状态对零件进行加热，增加零件表面活性；
[0006]S2.刻蚀，保持炉内温度，向真空炉内通入氩气，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.GT35球碗曲面沉积TiN膜工艺方法，其特征在于：S1.预热，将球碗零件置于真空炉内保持抽真空状态对零件进行加热，增加零件表面活性；S2.刻蚀，保持炉内温度，向真空炉内通入氩气，开启刻蚀电压，通过氩离子去除零件表面杂质；S3.打底，排出氩气后，保持炉内温度，启动Ti靶材，使零件表面形成一层纯Ti镀层；S4.沉积TiN过渡层，启动Ti靶材同时逐渐通入氮气，使氮气处于不饱和状态，保持炉压和温度，在纯Ti镀层表面形成Ti和TiN共存的...

【专利技术属性】
技术研发人员：仲银鹏，王昊，李文卓，
申请(专利权)人：陕西航天时代导航设备有限公司，
类型：发明
国别省市：