【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种用于垂直磁记录介质的基底,包括:软磁性基底层;和用于防止所述软磁性基底层腐蚀的抗蚀层,其中所述抗蚀层形成在所述软磁性基底层上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。