一种指纹成像模组、方法及电子设备技术

本发明专利技术提供一种指纹成像模组、方法及电子设备。所述指纹成像模组包括：基板；所述基板的一侧用于放置手指指纹；发光层，设置于所述基板远离手指的一侧，用于发出穿透所述基板的第一光线；所述第一光线经手指反射后形成穿透所述基板的反射光线；传输层，设置于所述发光层远离手指的一侧，用于传输所述反射光线至成像元件；成像元件，设置于所述传输层一侧，用于根据所述反射光线获得指纹图像。所述指纹成像模组能够扩大指纹成像的范围。组能够扩大指纹成像的范围。组能够扩大指纹成像的范围。

【技术实现步骤摘要】
一种指纹成像模组、方法及电子设备


[0001]本专利技术属于图形识别领域，涉及一种指纹成像模组，特别是涉及一种指纹成像模组、方法及电子设备。

技术介绍

[0002]近段时间来，高屏占比的电子设备逐渐受到用户的青睐。为此，越来越多的厂家选择采用屏幕指纹技术以尽可能提升设备的屏占比。作为屏幕指纹技术的重要组成部分，指纹成像模组主要用于获取用户的指纹信息并将其转化为指纹图像，所述指纹图像用于后续的指纹识别。然而，现有指纹成像模组的指纹成像区域受限于成像元件的尺寸，很难实现大范围的指纹成像。

技术实现思路

[0003]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种指纹成像模组、方法及电子设备，用于解决现有技术难以实现大范围指纹成像的问题。
[0004]为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术的第一方面提供一种指纹成像模组。所述指纹成像模组包括：基板；所述基板的一侧用于放置手指指纹；发光层，设置于所述基板远离手指的一侧，用于发出穿透所述基板的第一光线；所述第一光线经手指反射后形成穿透所述基板的反射光线；传输层，设置于所述发光层远离手指的一侧，用于改变所述反射光线的传输方向以使所述反射光线到达成像元件；成像元件，设置于所述传输层一侧，用于根据所述反射光线获得指纹图像。
[0005]于所述第一方面的一实施例中，所述成像元件与所述发光层设置在所述传输层的同一侧。
[0006]于所述第一方面的一实施例中，所述成像元件与所述发光层设置在所述传输层的两侧。
[0007]于所述第一方面的一实施例中，所述基板全涵盖所述发光层，且所述基板涵盖所述发光层的部位表面，可用于放置手指指纹。
[0008]于所述第一方面的一实施例中，所述传输层包括：第一衍射元件，设置于所述传输层靠近所述基板的一侧，用于改变所述反射光线的传输方向以形成第二光线；光波导，设置于所述第一衍射元件远离所述基板的一侧，用于传输所述第二光线；第二衍射元件，设置于所述传输层靠近所述成像元件的一侧，用于改变所述第二光线的传输方向以形成出射光线；所述成像元件根据所述出射光线获得所述指纹图像。
[0009]于所述第一方面的一实施例中，所述第一衍射元件为入射光栅；和/或所述第二衍射元件为出射光栅。
[0010]于所述第一方面的一实施例中，所述第一衍射元件与所述光波导通过压印或刻蚀形成；和/或所述第二衍射元件与所述光波导通过压印或刻蚀形成。
[0011]于所述第一方面的一实施例中，所述基板的尺寸、所述发光层的尺寸和所述传输
层的尺寸大致相同。
[0012]于所述第一方面的一实施例中，所述成像元件的尺寸小于所述发光层的尺寸。
[0013]于所述第一方面的一实施例中，所述发光层发出的第一光线为类平行光。
[0014]于所述第一方面的一实施例中，所述成像元件为电荷耦合元件传感器、互补金属氧化物半导体传感器或量子薄膜光电传感器。
[0015]本专利技术的第二方面提供一种指纹成像方法，所述指纹成像方法包括：产生一第一光线；所述第一光线穿透一基板后到达手指指纹并发生反射，形成一穿透所述基板的反射光线；改变所述反射光线的传输方向以使所述反射光线到达成像元件；利用所述成像元件对所述反射光线进行处理以获得指纹图像。
[0016]本专利技术的第三方面提供一种电子设备，所述电子设备包括本专利技术所述指纹成像模组。
[0017]如上所述，本专利技术所述的指纹成像模组、方法及电子设备，具有以下有益效果：
[0018]所述指纹成像模组包括传输层，所述传输层用于将携带有指纹信息的反射光线传输至所述成像元件，因此，无论手指放置在基板的任何位置，所述携带有指纹信息的反射光线均可以到达所述成像元件并形成指纹图像，故本专利技术所述指纹成像模组能够扩大指纹成像区域的范围，实现大范围的指纹成像。
附图说明
[0019]图1A显示为一些实施例中指纹成像模组的结构示意图。
[0020]图1B显示为另一些实施例中指纹成像模组的结构示意图。
[0021]图2A显示为本专利技术所述指纹成像模组于一具体实施例中的结构示意图。
[0022]图2B显示为本专利技术所述指纹成像模组于另一具体实施例中的结构示意图。
[0023]图3A显示为本专利技术所述指纹成像模组于一具体实施例中传输层的结构示意图。
[0024]图3B显示为本专利技术所述指纹成像模组于另一具体实施例中传输层的结构示意图。
[0025]图4显示为本专利技术所述指纹成像模组于一具体实施例中的衍射光栅部分衍射级示意图。
[0026]图5A显示为本专利技术所述指纹成像模组于又一具体实施例中的结构示意图。
[0027]图5B显示为本专利技术所述指纹成像模组于一具体实施例中出射光栅的结构示意图。
[0028]图6显示为本专利技术所述指纹成像方法于一具体实施例中的流程图。
[0029]元件标号说明
[0030]1a
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指纹成像模组
[0031]11a
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光源
[0032]12a
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屏下镜头
[0033]13a
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成像元件
[0034]14a
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指纹成像区域
[0035]1b
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指纹成像模组
[0036]11b
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
光源
[0037]12b
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
准直层
[0038]13b
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
成像元件
[0039]14b
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
指纹成像区域
[0040]2ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
指纹成像模组
[0041]21
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
基板
[0042]22
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发光层
[0043]23
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
传输层
[0044]231
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第一衍射元件
[0045]232
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
光波导
[0046]233
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第二衍射元件
[0047]24
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
成像元件
[0048]25
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
指纹成像区域
[0049]26
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第一光线
[0050]27
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反射光线
[0051]28
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第二光线
[0052]29
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
出射光线
[0053]41
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衍射光栅
[0054]42
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光线
[0055]5ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
指纹成像模组
[0056]51本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种指纹成像模组，其特征在于，所述指纹成像模组包括：基板；所述基板的一侧用于放置手指指纹；发光层，设置于所述基板远离手指的一侧，用于发出穿透所述基板的第一光线；所述第一光线经手指反射后形成穿透所述基板的反射光线；传输层，设置于所述发光层远离手指的一侧，用于改变所述反射光线的传输方向以使所述反射光线到达成像元件；成像元件，设置于所述传输层一侧，用于根据所述反射光线获得指纹图像。2.根据权利要求1所述指纹成像模组，其特征在于：所述成像元件与所述发光层设置在所述传输层的同一侧。3.根据权利要求1所述指纹成像模组，其特征在于：所述成像元件与所述发光层设置在所述传输层的两侧。4.根据权利要求1所述指纹成像模组，其特征在于：所述基板全涵盖所述发光层，且所述基板涵盖所述发光层的部位表面，可用于放置手指指纹。5.根据权利要求1所述指纹成像模组，其特征在于，所述传输层包括：第一衍射元件，设置于所述传输层靠近所述基板的一侧，用于改变所述反射光线的传输方向以形成第二光线；光波导，设置于所述第一衍射元件远离所述基板的一侧，用于传输所述第二光线；第二衍射元件，设置于所述传输层靠近所述成像元件的一侧，用于改变所述第二光线的传输方向以形成出射光线；所述成像元件根据所述出...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗亮，刘志伟，
申请(专利权)人：福州瑞芯微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：