一种防爆膜基材生产工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种防爆膜基材生产工艺，包括混合、涂布和烘烤步骤，该防爆膜基材生产工艺利用改性聚碳聚氨酯聚合物通过一系列的改良涂布工艺可以根据不同的客户的需求，制备不同的厚度的光学级的防爆膜基材，其厚度的可控制在20微米至200微米之间，在满足光学的要求下，同时也满足在基材的表面作硅胶，亚克力胶的涂布处理，以及在后加工的工艺上同样满足印刷、电镀、UV转印以及热弯且不影响基材的贴合起翘的性能，在3D热弯高拉伸工艺上有突出的优势。在3D热弯高拉伸工艺上有突出的优势。

【技术实现步骤摘要】
一种防爆膜基材生产工艺


[0001]本专利技术特别涉及一种防爆膜基材生产工艺。

技术介绍

[0002]现在有的光学级的薄膜PET(聚对苯二甲基乙二醇酯)作为防爆膜的基材，在热弯工艺上应用只能运用到2D的热弯效果，2.5D以上的使用上，只能用薄至23UM以下的，且产品的施工工艺难度大，良品率不高。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的技术问题是：为了克服现有技术的不足，提供一种防爆膜基材生产工艺。
[0004]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种防爆膜基材生产工艺，包括以下步骤：
[0005]1)混合搅拌：将酰胺类、醇类、酮类按3
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9:0.5
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7:0.3
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2.5的比例混合后在常温条件下进行搅拌，搅拌时间为20分钟；
[0006]2)涂布：采用挤压式、逗刀式或微凹式的方式进行涂布；
[0007]3)烘烤：完成涂布工艺后经过8
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50M的烤箱烘烤150
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240s，烤箱的温度为 50...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防爆膜基材生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：1)混合搅拌：将酰胺类、醇类、酮类按3
‑
9:0.5
‑
7:0.3
‑
2.5的比例混合后在常温条件下进行搅拌，搅拌时间为20分钟；2)涂布：采用挤压式、逗刀式或微凹式的方式进行涂布；3)烘烤：完成涂布工艺后经过8
‑
50M的烤箱烘烤150
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240s，烤箱的温度为50
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150度，该温度为梯式升温，经过烤箱的线速度为2
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【专利技术属性】
技术研发人员：黄世日，
申请(专利权)人：东莞精恒光学有限公司，
类型：发明
国别省市：