【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种磁头滑块组件,尤其关系到用作该滑块的材料。这种装有磁性传感器的滑块,一般用来浮置磁盘单元里的磁头。近年来,正如1980年3月1日的“电子设计”(Electronic Design)杂誌第5期第60~62页所述,薄膜磁头已被用作浮动磁头。迄今为止,可考虑用作薄膜磁头滑块材料的,是那些具有良好机加工性能,并适于成型加工为高精度部件的材料,例如象美国专利No4,251,841里所述的薄膜磁头。用作磁盘单元的磁头材料,尤其需要能经得起出现在磁盘与磁头间的事故接触-磁头的碰击。在稳态,磁头通常被维持在相距旋转磁盘表面0.2~0.5微米处浮动。另一方面,在磁盘趋于稳定旋转或停止的瞬态中,会出现磁盘与磁头滑板彼此处于滑动接触的现象。这就是通常所说的接触起停(CSS)。该装置的可靠性一般取决于这些滑动性能。然而至今,氧化铭与碳化钛烧结物(Al2O3·Tic-在前述美国专利4,251,841说明书中,作为为此目的而描述的一种材料,尚未为装置的这种可靠性提供保证。对于用作薄膜磁头组件的基片,要求具有如下性能第一,在形成薄膜元件的工艺过程中,未受腐蚀或变形的情况下 ...
【技术保护点】
一种磁头滑块组件,包括:a)一个滑块,b)在该滑块上至少安装一个磁性传感器,其特征在于:组件中所述滑块,由包含氧化锆的合成物加工而成。
【技术特征摘要】
1.一种磁头滑块组件,包括a)一个滑块,b)在该滑块上至少安装一个磁性传感器,其特征在于组件中所述滑块,由包含氧化锆的合成物加工而成。2.根据权项1的组件,其中所述的合成物包括氧化锆和氧化钙。3.根据权项1的组件,其中所述的合成物包括氧化锆和氧化钇。4.根据权项3的组件,其中所述合成物中氧化钇的具体含量范围是6~11克分子%。5.根据权项3的组件,其中所述合成物中氧化钇的具体含量范围是8~10克分子%。6.根据权项1的组件,其中所述滑块具有一空气负载承受面10。7.根据权项1或4的组件,其中所述合成物中的氧化锆,为立方晶体结构。8.用作磁头滑块的合成物,特征在于所述合成物包含氧化锆。9.根据权项8的合成物,其中所述氧化锆为立方晶体结构。10.根据权项8的合成物,还包含氧化钙。11.根据权项8的合成物,还包含氧化钇。12.根据权项11的合成物,其中氧化钇...
【专利技术属性】
技术研发人员:长池完训,中岛博泰,大浦正树,竹下幸二,
申请(专利权)人:株式会社日立制作所,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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