组合物和膜制造技术

一种组合物，其为有机硅化合物(A)、低沸点溶剂(C1)、高沸点溶剂(C2)和弱酸(E)的混合组合物，该有机硅化合物(A)在硅原子上键合有含有烃链的基团(AL6～20)和至少1个水解性基团，该含有烃链的基团(AL6～20)为亚甲基的一部分可取代为氧原子的碳原子数6～20的烷基，该低沸点溶剂(C1)在20℃下的蒸气压超过1000Pa且沸点小于120℃，该高沸点溶剂(C2)满足20℃下的蒸气压为1000Pa以下和沸点为120℃以上中的至少一者，该弱酸(E)的pKa为1～5。该弱酸(E)的pKa为1～5。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】组合物和膜


[0001]本专利技术涉及一种能够在各种基材上形成具有拒水
·
拒油性的被膜的组合物。

技术介绍

[0002]各种车辆、户外设备等中有时产生由窗玻璃表面的污物所致的可视性的恶化、外观不良等问题。因此，要求玻璃等基材表面的拒水
·
拒油性良好。还特别要求不仅防止液滴附着于基材表面，而且容易除去所附着的液滴。
[0003]例如，专利文献1中公开了将使有机硅烷、金属醇盐以规定比率混合并含有蒸气压大于水的有机溶剂、水、催化剂的溶液旋涂于玻璃基板上的例子。专利文献2中公开了将在含有氨基改性聚硅氧烷、酸和活性剂的拒水剂中进一步含有氨基硅烷的玻璃用拒水剂利用手动喷雾器进行涂布。另外，专利文献3中公开了将含有氨基改性二甲基聚硅氧烷、醇类和水的汽车用上光组合物利用喷雾器进行涂布。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2013－213181号公报
[0007]专利文献2：日本特开2009－173491号公报
[0008]专利文献3：日本特开2009－40936号公报
[0009]专利文献4：日本特开2017－201008号公报

技术实现思路

[0010]但是，专利文献1中需要使用用于旋涂的涂布装置，专利文献2、3中需要使用用于旋涂的涂布装置，简便性差。
[0011]专利文献4中公开了一种包含具有碳原子数6～20的烷基和水解性基团的有机硅化合物、高沸点溶剂和低沸点溶剂的组合物，记载了该组合物能够手工涂布于基材。其中，手工涂布这样简便性高的涂布作业无论作业场所如何都能够实施，例如，也可考虑在烈日下的户外实施。然而，已经表明将专利文献4的组合物在烈日下涂布时，滴到涂膜上的水开始滑动的角度(滑落角)变大。
[0012]本专利技术的目的在于提供一种能够进行手工涂布且即便在烈日下涂布、涂膜也能够维持较小的滑落角的组合物。
[0013]本专利技术如下所述。
[0014][1]一种组合物，其为有机硅化合物(A)、低沸点溶剂(C1)、高沸点溶剂(C2)和弱酸(E)的混合组合物，该有机硅化合物(A)在硅原子上键合有含有烃链的基团(AL6～20)和至少1个水解性基团，该含有烃链的基团(AL6～20)为亚甲基的一部分可取代为氧原子的碳原子数6～20的烷基，
[0015]该低沸点溶剂(C1)在20℃下的蒸气压超过1000Pa且沸点小于120℃，
[0016]该高沸点溶剂(C2)满足20℃下的蒸气压为1000Pa以下和沸点为120℃以上中的至
少一者，
[0017]该弱酸(E)的pKa为1～5。
[0018][2]根据[1]所述的组合物，其中，上述有机硅化合物(A)由下述式(AI)表示。
[0019][0020][上述式(AI)中，R
a1
表示上述含有烃链的基团(AL6～20)，多个A
a1
各自独立地表示上述水解性基团。Z
a1
表示含有烃链的基团(HC)或水解性基团，Z
a1
为含有烃链的基团(HC)时，R
a1
与Z
a1
可以相同或不同，Z
a1
为水解性基团时，Z
a1
与A
a1
可以相同或不同。另外，在多个式(AI)间R
a1
与Z
a1
可以相同或不同。][0021][3]根据[1]或[2]所述的组合物，其中，混合有至少1个水解性基团键合于金属原子、且含有烃链的基团(HC1～5)可键合于上述金属原子的金属化合物(B)，
[0022]该含有烃链的基团(HC1～5)为亚甲基的一部分可取代为氧原子的碳原子数1～5的烃基。
[0023][4]根据[3]所述的组合物，其中，上述金属化合物(B)由下述式(BI)表示。
[0024]M(R
b1
)
n
(A
b1
)
m
ꢀꢀꢀ
(BI)
[0025][上述式(BI)中，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr或Ta。
[0026]n表示0或1，m表示1以上的整数。n和m的合计与金属M的价数相等。
[0027]R
b1
表示上述含有烃链的基团(HC1～5)。A
b1
表示上述水解性基团，A
b1
为多个时，多个A
b1
可以分别相同或不同。][0028][5]根据[3]或[4]所述的组合物，其中，上述金属化合物(B)与上述有机硅化合物(A)的摩尔比为0.1倍～48倍。
[0029][6]根据[1]～[5]中任一项所述的组合物，其中，上述低沸点溶剂(C1)为醇系溶剂。
[0030][7]根据[1]～[6]中任一项所述的组合物，其中，上述高沸点溶剂(C2)的溶解度参数为14.0(cal/cm3)
1/2
以上。
[0031][8]根据[1]～[7]中任一项所述的组合物，其中，混合有水(D)，相对于该水(D)100质量％，上述高沸点溶剂(C2)的比率为0.01～30质量％。
[0032][9]根据[1]～[8]中任一项所述的组合物，其中，上述弱酸(E)为多元羧酸化合物或磷酸化合物。
[0033][10]根据[1]～[9]中任一项所述的组合物，其中，上述弱酸(E)的pKa为4.3以下。
[0034][11]根据[1]～[10]中任一项所述的组合物，其中，混合有催化剂(F)。
[0035][12]根据[11]所述的组合物，其中，上述催化剂(F)为pKa小于1的强酸。
[0036][13]一种膜，是将[1]～[12]中任一项所述的组合物固化而得的。
[0037][14]根据[12]所述的膜，其中，滑落角为30
°
以下。
[0038]根据本专利技术的组合物，能够在烈日下通过手工涂布而形成具有拒水
·
拒油性的被膜。
具体实施方式
[0039]本专利技术是一种组合物，其为有机硅化合物(A)、低沸点溶剂(C1)、高沸点溶剂(C2)和弱酸(E)的混合组合物(以下，有时称为拒水
·
拒油性被膜形成用组合物)，
[0040]该有机硅化合物(A)在硅原子上键合有含有烃链的基团(AL6～20)和至少1个水解性基团，该含有烃链的基团(AL6～20)为亚甲基(－CH2－的含意。以下同样)的一部分可取代为氧原子的碳原子数6～20的烷基，
[0041]该低沸点溶剂(C1)在20℃下的蒸气压超过1000Pa且沸点小于120℃，
[0042]该高沸点溶剂(C2)满足20℃下的蒸气压为1000Pa以下和沸点为120℃以上中的至少一者，
[0043]该弱酸(E)的pKa为1～5。这些有机硅化合物(A)、低沸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种组合物，其是有机硅化合物A、低沸点溶剂C1、高沸点溶剂C2和弱酸E的混合组合物，所述有机硅化合物A在硅原子上键合有含有烃链的基团即AL6～20和至少1个水解性基团，所述含有烃链的基团即AL6～20为亚甲基的一部分可取代为氧原子的碳原子数6～20的烷基，所述低沸点溶剂C1在20℃下的蒸气压超过1000Pa且沸点小于120℃，所述高沸点溶剂C2满足20℃下的蒸气压为1000Pa以下和沸点为120℃以上中的至少一者，所述弱酸E的pKa为1～5。2.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述有机硅化合物A由下述式(AI)表示，所述式(AI)中，R
a1
表示所述含有烃链的基团即AL6～20，多个A
a1
各自独立地表示所述水解性基团，Z
a1
表示含有烃链的基团即HC或水解性基团，Z
a1
为含有烃链的基团即HC时，R
a1
与Z
a1
可以相同或不同，Z
a1
为水解性基团时，Z
a1
与A
a1
可以相同或不同，另外，多个式(AI)间R
a1
与Z
a1
可以相同或不同。3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，混合有至少1个水解性基团键合于金属原子、且含有烃链的基团即HC1～5可键合于所述金属原子的金属化合物B，所述含有烃链的基团即HC1～5为亚甲基的一部分可取代为氧原子的碳原子数1～5的烃基。4.根据权利要求3所述的组合物，其中，所述金属化合物B由下述式(BI)表示，M(R
b1

【专利技术属性】
技术研发人员：上原小道，岛崎泰治，宫本知典，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：