感光性转印膜、抗静电图案的制造方法、感光性转印膜的制造方法、层叠体、触控面板、触控面板的制造方法及带触控面板的显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种感光性转印膜及其应用，该感光性转印膜依次具有厚度为10μm以下的感光性层和抗静电层，上述感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物及光聚合引发剂。化合物及光聚合引发剂。化合物及光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性转印膜、抗静电图案的制造方法、感光性转印膜的制造方法、层叠体、触控面板、触控面板的制造方法及带触控面板的显示装置


[0001]本专利技术涉及一种感光性转印膜、抗静电图案的制造方法、感光性转印膜的制造方法、层叠体、触控面板、触控面板的制造方法及带触控面板的显示装置。

技术介绍

[0002]在光刻法中，研究了各种抗静电技术。
[0003]在日本特开2016
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118727号公报中公开了一种干膜抗蚀剂用保护膜及感光性树脂层叠体，上述干膜抗蚀剂用保护膜的特征在于，在聚酯薄膜的一个表面上具有由含有含长链烷基的化合物及抗静电剂、丙烯酸树脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，上述涂布层表面的最大突起高度(Rt)为0.1～1.0μm，上述感光性树脂层叠体的特征在于，具有在形成于基膜上的感光性树脂层表面层叠有上述保护膜的结构。
[0004]在日本特开2016
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080964号公报中公开了一种抗蚀剂图案的形成方法，上述抗蚀剂图案的形成方法包括在一个表面上具有由负型化学放大型抗蚀剂构成的抗蚀剂(resist)层的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种感光性转印膜，其具有：厚度为10μm以下的感光性层；及抗静电层，所述感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物及光聚合引发剂。2.根据权利要求1所述的感光性转印膜，其依次具有透明膜1、所述感光性层、所述抗静电层及透明膜2。3.根据权利要求1或2所述的感光性转印膜，其中，所述抗静电层的表面电阻值为1.0
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以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性转印膜，其中，所述碱溶性丙烯酸系树脂的酸值为60mgKOH/g以上。5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光性转印膜，其中，所述抗静电层的厚度为0.4μm以下。6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光性转印膜，其中，所述抗静电层含有选自由离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及电子传导聚合物组成的组中的至少一种化合物作为抗静电剂。7.根据权利要求1至6中任一项所述的感光性转印膜，其中，在从所述感光性层的与所述抗静电层相反的一侧的表面至所述感光性层及所述抗静电层的总厚度的40％为止的区域中，未检测出抗静电剂。8.一种抗静电图案的制造方法，其依次包括：在基材上依次层叠权利要求1至7中任一项所述的感光性转印膜中的所述感光性层及所述抗静电层的工序；对所述感光性层进行图案曝光的工序；及对所述感光性层进行显影的工序。9.一种感光性转印膜的制造方法，其为权利要求2所述的感光性转印膜的制造方法，其包括在所述透明膜2上依次涂布抗静电层用组合物及感光性层用组合物的工序。10.一种层叠体，其依次具有：基材；透明电极层；具有图案形状的感光性组合物的固化物层；及具有与所述固化物层的所述图案形状相同的图案形状的抗静电层。11.根据权利要求10所述的层叠体，其中，所述抗静电层的表面电阻值为1.0
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以下。12.根据权利要求10或11所述的层叠体，其中，所述抗静电层的厚度为0.4μm以下。13.根据权利要求10至12中任一项所述的层叠体，其中，所述抗静电层含有选自由离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及电子传导聚合物组成的组中的至少一...

【专利技术属性】
技术研发人员：霜山达也，植木启吾，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：