一种玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖制造技术

本实用新型专利技术公开了一种玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖，包括池壁砖和设置于所述池壁砖内侧的突出部分，所述池壁砖设有第一通道，所述突出部分设置有第二通道；喉管安装在所述池壁砖的第一通道和突出部分的第二通道内用于玻璃液的流通；所述喉管位于玻璃窑炉内部的部分与所述突出部分的端面齐平；所述突出部分的端面呈向外的圆弧形。本实用新型专利技术实施例提供的抗侵蚀池壁砖，增加在喉管周围的圆弧状顶部突出部分，可以把原来玻璃液涡流向上抬起，以喉管为中心向周围扩散，玻璃液涡流的强度被稀释。同时增厚的池壁砖局部同样可以延长使用寿命。在涡流范围扩大稀释和池壁砖增厚的双重条件下，池壁砖的使用寿命会明显增加。池壁砖的使用寿命会明显增加。池壁砖的使用寿命会明显增加。

【技术实现步骤摘要】
一种玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖


[0001]本技术属于玻璃窑炉结构设备，特别涉及到玻璃窑炉流液洞喉管处池壁砖的抗侵蚀的结构，具体为一种玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖。

技术介绍

[0002]在玻璃窑炉池壁砖是形成玻璃窑炉熔池的关键材料，一般采用锆刚玉等抗侵蚀比较强的材料，在无碱玻璃等高熔点的窑炉中还会使用到电熔高锆这样的材料，提高抗侵蚀能力，延长窑炉的使用寿命。
[0003]但是，在一些特殊部位，池壁砖的侵蚀依旧很快，严重影响了窑炉的使用寿命。例如，在窑炉的流液洞口或玻璃液出口，由于玻璃流速突然加快，在喉管周围形成玻璃液的涡流，对池壁砖形成快速的冲刷，最后造成这些部位变薄，甚至穿透漏料。采用的常规措施，就是在侵蚀部位加冷却风，降低局部温度，使玻璃液流速下降，但是一般喉管外侧的区域空间狭小，冷却设备很难布局，最终效果并不明显。还有在内部增加贵金属护板的方式，也是效果甚微。如图1所示，在喉管12周围形成了玻璃液涡流14，经过旋转后进入喉管12，玻璃液侵蚀池壁砖形成了局部凹陷区域13，或者图3所示效果。最终造成局部的漏料。

技术实现思路

[0004]本技术解决的技术问题是：针对玻璃窑炉喉管或流液洞入口，池壁砖侵蚀速度过快，造成窑炉寿命缩短的问题。
[0005]为了解决该问题，采用如下技术方案：
[0006]一种玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖，包括池壁砖和设置于所述池壁砖内侧的突出部分，所述池壁砖设有第一通道，所述突出部分设置有第二通道；喉管安装在所述池壁砖的第一通道和突出部分的第二通道内用于玻璃液的流通。
[0007]优选的，所述突出部分包括本体，以及位于所述本体朝向玻璃液一端的圆弧形端面。
[0008]优选的，所述圆弧形端面的顶部到所述池壁砖的距离为L4；所述池壁砖的厚度为L5；1/3*L5<L4<1/2*L5。
[0009]优选的，所述本体的边缘到第二通道边缘的距离为L1；所述池壁砖顶部到第二通道边缘的距离为L2；所述圆弧形端面的周部边缘处到所述池壁砖的距离为L3；1/4*L2<L1<1/3*L2。
[0010]优选的，所述圆弧形端面上半部分圆弧的曲面半径为SR1，下半部分圆的弧曲面半径为SR2；SR1＝1.2*SR2，360mm<SR1<365mm。
[0011]优选的，所述突出部分与池壁砖为一体加工而成。
[0012]优选的，所述喉管位于玻璃窑炉内部的部分与所述突出部分的端面齐平。
[0013]优选的，所述突出部分的端面呈向外的圆弧形面。
[0014]本技术的有益效果如下：
[0015]本技术实施例提供的抗侵蚀池壁砖，增加在喉管周围的圆弧状顶部突出部分，可以把原来玻璃液涡流向上抬起，以喉管为中心向周围扩散，玻璃液涡流的强度被稀释。同时增厚的池壁砖局部同样可以延长使用寿命。在涡流范围扩大稀释和池壁砖增厚的双重条件下，池壁砖的使用寿命会明显增加。
附图说明
[0016]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0017]图1为现有窑炉喉管部位的侵蚀效果侧视图；
[0018]图2为本技术实施例玻璃窑炉喉管部位的效果侧视图；
[0019]图3为改进前的池壁砖结构效果图；
[0020]图4为本技术实施例抗侵蚀池壁砖的结构效果图；
[0021]图5为本技术实施例抗侵蚀池壁砖的剖面结构详图；
[0022]其中：11池壁砖；12喉管；13局部凹陷区域；14玻璃液涡流；21突出部分；211圆弧形端面；212本体；22新玻璃液涡流。
具体实施方式
[0023]下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0024]以下详细说明均是示例性的说明，旨在对本技术提供进一步的详细说明。除非另有指明，本技术所采用的所有技术术语与本申请所属领域的一般技术人员的通常理解的含义相同。本技术所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而并非意图限制根据本技术的示例性实施方式。
[0025]如图2所示，一种玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖，包括池壁砖11和设置于所述池壁砖11内侧的突出部分21，所述池壁砖11设有第一通道，所述突出部分21设置有第二通道；喉管12安装在所述池壁砖11的第一通道和突出部分21的第二通道内用于玻璃液的流通；所述喉管12位于玻璃窑炉内部的部分与所述突出部分21的端面齐平或者略微凸出，玻璃液形成的新玻璃液涡流22分布并扩散到上部台阶高度为L3周围，形成图2所示的效果。所述突出部分21的端面呈向外的圆弧形面。所述突出部分21包括本体212和圆弧形端面211，本体212设置为圆柱形，圆弧形端面211设置在所述本体212朝向玻璃液的一端。
[0026]如图4和5所示，所述本体212的边缘到第二通道边缘的距离为L1；所述池壁砖11顶部到第二通道边缘的距离为L2；所述圆弧形端面211的周部边缘处到所述池壁砖11的距离为L3；所述圆弧形端面211的顶部到所述池壁砖11的距离为L4；所述池壁砖11的厚度为L5；所述圆弧形端面211上半部分圆弧的曲面半径为SR1，下半部分圆的弧曲面半径为SR2；
[0027]有：
[0028]1/3*L5<L4<1/2*L5；
[0029]1/4*L2<L1<1/3*L2；
[0030]SR1＝1.2*SR2，360mm<SR1<365mm。
[0031]所述突出部分21与池壁砖11为熔融后一体制作加工而成，材质完全相同。
[0032]由技术常识可知，本技术可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此，上述公开的实施方案，就各方面而言，都只是举例说明，并不是仅有的。所有在本技术范围内或在等同于本技术的范围内的改变均被本技术包含。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖，其特征在于，包括池壁砖(11)和设置于所述池壁砖(11)内侧的突出部分(21)，所述池壁砖(11)设有第一通道，所述突出部分(21)设置有第二通道；喉管(12)安装在所述池壁砖(11)的第一通道和突出部分(21)的第二通道内用于玻璃液的流通。2.根据权利要求1所述的玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖，其特征在于，所述突出部分(21)包括本体(212)，以及位于所述本体(212)朝向玻璃液一端的圆弧形端面(211)。3.根据权利要求2所述的玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖，其特征在于，所述圆弧形端面(211)的顶部到所述池壁砖(11)的距离为L4；所述池壁砖(11)的厚度为L5；1/3*L5<L4<1/2*L5。4.根据权利要求2所述的玻璃窑炉用的抗侵蚀池壁砖，其特征在于，所述本体(212)的边缘到第二通道边缘的距离为L1；所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨国洪，张峰，杨威，
申请(专利权)人：彩虹显示器件股份有限公司，
类型：新型
国别省市：