磁带表面处理方法和装置制造方法及图纸

一种改善磁带的生产率和漏失信号特性的磁带表面处理方法和装置。在用于相互摩擦磁带和研磨带并由此从磁带的磁性表面上，除去凸块和粘着物的磁带表面处理方法和装置中，压缩空气从外侧吹在所述二带上，切去了在所述二带的接触表面之间的空气薄膜，由此提高了接触质量并增加了表面处理效率。此外，由于同时控制在所述二带接触之前和之后的磁带上的张力，从而消除了表面处理效果的散布。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于在磁带的制造过程中，从磁带的磁表面上，除去凸块和粘着物，并由此减少漏失信息的磁带表面处理装置，特别地涉及一种能同时改善表面处理效果和防止漏失信息特性散布的磁带表面处理装置。在磁带生产中，微小的凸块和粘着物常常出现在所生产的磁带的磁表面上。在进行磁记录和重放期间，这就构成通常所说的漏失信息的原因。因此，在磁带的生产过程中，使用一种用于从磁带的表面上，除去以上所提到的凸块和粘着物的磁带表面处理装置。磁带表面处理装置的原理在于将磁带的磁性表面用研磨带研磨，并由此靠二带之间发生的摩擦，从磁表面上除去凸块和粘着物。附图说明图1表示通常的磁带表面处理装置的结构实例。在图1中，为表面处理的对象的磁带1，最初从放出侧传送入进给压带轮2。该进给压带轮2是彼此接触，以互相相对的方向旋转的两个压带轮，并由电机3驱动。磁带1在两个进给压带轮2之间通过，并送给导向轮4。导向轮4改变磁带1的行进方向，当它绕该导向轮4通过的，其磁表面朝外，靠导向轮4改变其行进方向的磁带1，绕过用于与其朝内的磁表面进行研磨的导向轮5，通过θ角度的扇形距离，然后离开用于进行研磨的导向轮5，并送给导向轮6。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于传送磁带和研磨带而使磁带和研磨带接触，并由此从磁带的磁表面除去凸块和粘着物的磁带表面处理方法，其特征在于，在磁带和研磨带预定接触的初始位置侧，将空气吹在所述二带上。

【技术特征摘要】
JP 1994-10-25 260120/941.一种用于传送磁带和研磨带而使磁带和研磨带接触，并由此从磁带的磁表面除去凸块和粘着物的磁带表面处理方法，其特征在于，在磁带和研磨带预定接触的初始位置侧，将空气吹在所述二带上。2.按照权利要求1的磁带表面处理方法，其特征在于，吹出气压和磁带的行进速度，彼此之间相对是可调的。3.按照权利要求1的磁带表面处理方法，其特征在于，吹出气压和在磁带被放出的引入端侧的磁带的张力和在磁带被卷绕的引出端侧的磁带的张力，彼此之间相对是可调的。4.按照权利要求1的磁带表面处理方法，其特征在于，和磁带的行进速度相一致地，改变研磨带的运转速度。5.按照权利要求1的磁带表面处理方法，其特征在于，吹气是从磁带侧实现的。6.一种用于研磨带摩擦磁带，并从磁带的磁表面除去凸块和粘着物的磁表面处理装置，包括用于调节磁带的张力的调节设备，和用于在磁带和研磨带预定接触的初始位置侧，将空气吹在所述二带上的压缩空气设备。7.按照权利要求6的磁带表面处理装置，其特征在于，调节设备装有用于同时地对在磁带被放出的引入端侧的磁带的张力，和在磁带被卷绕的引出端侧的磁带的张力进行反馈控制的控制设备。8.按照权利要求7的磁带表面处理装置，其特征在于，控制设备使在磁带被放出的引入端侧的磁带的速度为参考并控制在磁带被卷绕的引出端侧的磁带的速度，由此反馈控制在引出端侧的磁带的张力，和控制压缩空气设备，由此反馈控制在引入端侧的磁带的张力。9.按照权利要求7的磁带表面处理装置，其特征在于，控制设备使在引入端侧的磁带的速度为参考并控制在引出端侧的磁带的速度，由此反馈控制在引入端侧的磁带的张力，和控制压缩空气设备，由此反馈控制在引出端侧的磁带的张力。10.按照权利要求8的磁带表面处理装置，其特征在于，在引入端侧的磁带的速度保持恒定不变。11.按照权利要求7的磁带表面处理装置，其特征在于，控制设备使在磁带被卷绕的引出端侧的磁带的速度为参考控制在磁带被送出引入端侧的磁带的速度，由此反馈控制在引入端侧的磁带的张力，和控制压缩空气设备，由此反馈控制在引出端侧的磁带的张力。12.按照权利要求7的磁带表面处理装置，其特征在于，控...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥和雄，小野光浩，本间巧，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]