光卡制造技术

本发明专利技术涉及包括由相对于高反射率部分具有良好的对比度的低反射率部分构成的前置格式部的光卡。制作对应于光卡１的前置格式部４、５的部分具有反锥体形立体结构的光卡用原版，使用该原版来复制光卡。反锥体形立体结构可以利用于单晶基板的各向异性刻蚀来形成。可以获得无缺陷的、无面不均匀的、可确保足够的低反射率的原版，从该原版制造的光卡包括由对高反射率部分的对比度良好的低反射率部分构成的前置格式部。能够把利用成型用树脂从原版复制的复制品作为树脂原版。进而，还能够把利用成型用树脂从该树脂原版复制的复制品作为光卡制作用压模。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
专利技术的背景本专利技术涉及可以进行光学信息记录的光卡及用于制造光卡的技术。迄今，已知有作为在塑料卡中内装作为光学信息记录部的光记录部的存储卡--所谓光卡。附图说明图1示出WORM(写一次读多次)型光卡之一例，作为前置格式(prefbrm)，在该光卡1的记录部2上，对于高反射率部分3形成由低反射率部分构成的轨迹引导区4及信息记录凹坑5。在这种类型的光卡中，作为制造工序比较简单、有关原料也不限定为特定的光记录材料、另外也适合于以工业规模进行大量复制的制造成本低的光记录媒体用的装置，提出了使低反射率部分由具有光散射的粗糙面部分构成的光卡(例如，参照特公平7-64141号公报)。该光卡从根据信息记录图制作具有表面变得粗糙的低反射率部分的表面粗糙的原版开始，借助于复制该原版，作为具有粗糙的表面的信息记录图的装置大量进行生产。下面，参照附图，顺序地说明该制作工序。作为第1阶段，如图2A所示，利用旋转型光致抗蚀剂(photoresist)涂覆机，在透明基体材料11(厚度为400μm的聚丙烯板)上以0.5μm厚度均匀涂覆正性光致抗蚀剂，形成光致抗蚀剂层12。其次，作为第2阶段，如图2B所示，在利用掩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括由光的低反射率部分构成的前置格式部的光卡，其特征在于，所述低反射率部分利用由锥体形状的凸部或反锥体形状的凹部构成的立体结构来构成。

【技术特征摘要】
JP 1996-3-27 72575/961.一种包括由光的低反射率部分构成的前置格式部的光卡，其特征在于，所述低反射率部分利用由锥体形状的凸部或反锥体形状的凹部构成的立体结构来构成。2.根据权利要求1中所述的光卡，其特征在于，所述锥体形状包括四坡屋顶形。3.根据权利要求1中所述的光卡，其特征在于，以给定的前置格式图形的形状形成由所述凸部或凹部构成的不连续的微细立体结构。4.根据权利要求1中所述的光卡，其特征在于，所述前置格式由ROM数据和/或前置组构成。5.根据权利要求1中所述的光卡，其特征在于，在包括所述前置格式部的光记录材料层上还形成透明保...

【专利技术属性】
技术研发人员：竹居滋郎，东义洋，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]