磁头滑块的制备方法技术

用干法刻蚀给硬盘驱动器等形成浮动型磁头滑块时，制备磁头滑块的方法提供了粘结要处理的滑块与合适的固定物的方法，并且当同一次处理多个磁头滑块时，将预先制备的滑块排（条）阵列粘结到金属或陶瓷底座上，然后用干法刻蚀方法形成空气支撑，干膜光致抗蚀剂用来粘结排与底座。可以用离子研磨或反应性离子刻蚀（ＲＩＥ）作为干法刻蚀方法。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于磁盘装置、磁带装置等的磁头，特别涉及适用高密度记录的有小的浮动高度的薄膜磁头、及其制备方法。
技术介绍
随着记录密度的提高，磁盘和磁头之间的间隔即浮动高度逐渐减小，以减小用于磁盘装置的浮动型磁头的空间损耗，同时也需要使磁盘外缘到磁盘内缘之间的距离保持不变。能满足这些需要的磁头滑块已经提出并付诸实用，这是一种根据空气动力学设计的有特别形状的滑块。这种有特别形状的滑块的特点是它有称作腔体的凹下部分，产生小于大气压的压力，该滑块也称为负压滑块。用过去所用的机械切割和研磨很难制备这种腔体，通常用光刻和干法刻蚀来制备。下面参照图2说明以前形成特别形状滑块的方法。首先将磁头处理成图2(A)所示称为排(row)1的条形。然后将排1从薄膜磁头晶片上切下，将其空气支撑表面(airbearing surface)研磨并处理到合适的极点深度。由于一次处理一个导致生产率很低，通常十个以上或二十个以上排列成一排，然后粘到称作底座2的支撑片上以进行处理，底座2不仅可以是这里所图示的片状，也可以是块状，并且可以用铝、不锈钢、或陶瓷等制备。考虑随后的切割操作，通常使用块状。用蜡基粘结剂3临时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备磁头滑块的方法，其中，用干法刻蚀处理与介质相对的磁头滑块表面，以得到预定的空气支撑形状，用插入其间的干膜光致抗蚀剂将要处理的所述滑块粘结到预定底座上，然后进行刻蚀。

【技术特征摘要】
JP 1997-4-22 104765/97;JP 1996-10-15 272102/961.一种制备磁头滑块的方法，其中，用干法刻蚀处理与介质相对的磁头滑块表面，以得到预定的空气支撑形状，用插入其间的干膜光致抗蚀剂将要处理的所述滑块粘结到预定底座上，然后进行刻蚀。2.根据权利要求1的制备磁头滑块的方法，其中，用干法刻蚀来处理与介质相对的磁头滑块的表面，以得到预定的空气支撑形状，所述方法包括下面步骤将干膜光致抗蚀剂粘结到能固定至少一个滑块或能变成一个滑块的材料的底座上；将所述滑块或能变成一个滑块的所述材料粘结到干膜光致抗蚀剂上；形成预定的掩模；用干法刻蚀方法刻蚀没被所述掩模保护的部分以得到空气支撑形状。3.根据权利要求1或2的制备磁头滑块的方法，其中，所述底座由金属或陶瓷制成，且有一个其上可以粘结至少一个滑块或将变成一个滑块的材料的表面。4.根据权利要求1或2的制备磁头滑块的方法，其中，所述干膜光致抗蚀剂的厚度为100μm或以下。5.根据权利要求2的制备磁头滑块的方法，其中，通过剥离所述干膜光致抗蚀剂一...

【专利技术属性】
技术研发人员：福岛信人，木川计介，
申请(专利权)人：西铁城钟表株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]