【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有改进的记录特性的磁记录材料。从比如Weinheim的VCH出版有限公司(VCH Verlagsgesellschaft mbH)的乌尔姆工业化学百科全书(Ullmann′s Encyclopedia of Industial Chemistry)的第5版第A14卷第172-176页，尤其是174-176页已知，磁记录介质必须满足有关存储密度的日益增加的高需求。但是，存储密度的增加和相关的记录波长的缩短导致和信息存储有关的问题，即和在记录介质上储存信息和从记录介质上读出信息有关的问题。这些问题以电磁性能变坏，比如在记录介质上存贮信号的干扰、较低的输出电平和信号/噪声比下降的形式显现出来。为了至少部分补偿这种电磁性能变坏，把特别磨碎的铁磁颜料用于存储信息。但是，含有这些颜料的磁记录层至今没有完全令人满意的特性。尤其是这种磁性层的表面分布被证明是不均匀的。这种不均匀转而导致依然太低的输出电平、明显的调制噪声和输出电平的强烈起伏-即不规则的包络线—而且还有大量的错误。本专利技术的目的是提供具有高存储密度和改进的表面分布的磁性记录材料。尤其是，这种新...
【技术保护点】
一种磁记录介质，包括非磁性的基片和加在它上面的一层或多层，这些后加层中的至少一层为适合信息存储的磁性层，其特征在于：面向用于信息记录的磁头的记录材料（３）的表面（３′）具有这样的表面分布：表面（３′）的５０％离开参考表面（２）不大于８０ 纳米，表面（３′）的９０％离开参考表面（２）不大于１４０纳米，记录材料（３）在约１４０－２００毫牛顿的张力下以它的表面（３′）和参考表面（２）靠在一起。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】DE 1997-5-27 19722137.81.一种磁记录介质，包括非磁性的基片和加在它上面的一层或多层，这些后加层中的至少一层为适合信息存储的磁性层，其特征在于面向用于信息记录的磁头的记录材料(3)的表面(3′)具有这样的表面分布表面(3′)的50％离开参考表面(2)不大于80纳米，表面(3′)的90％离开参考表面(2)不大于140纳米，记录材料(3)在约140-200毫牛顿的张力下以它的表面(3′)和参考表面(2)靠在一起。2.一种根据权利要求1的记录材料，其特征在于表面(3′)的50％离开参考表面(2)不大于40-80纳米，表面(3′)的90％离开参考表面(2)不大于50-130纳米。3.一种根据前面的权利要求中的任一项的记录材料，其特征在于分立的距离的频率的密度函数具有单峰分布。4.一种根据前面的权利要求中的任一项的记录材料，其特征在于A90和A50的距离比率是约1.0比约1.5，A90和A50的距离值分别对应于表面(3′)的低于90％和50％的距离值，并且可以从分立的距离值分布函数确定。5.一种根据前面的权利要求中的任一项的记录材料，其特征在于用于距离测量的张力为约170-180毫牛顿，尤其是177毫牛顿。6.一种根据前面的权利要求中的任一项的记录材料，其特征在于通过将光束(20)斜射到位于靠在参考表面(2)上的记录材料(3)的表面(3′)产生干涉线(22，22′)和等效于从参考表面(2)抬起的记录介质(3)的表面分布的干涉图象来确定表面(3’)的表面分布，光束(20)部分地被表面(3′)反射和部分地被表面(2)反射，通过这两部分光束(21，21′)的重叠来形成所述干涉图像。7.一种根据前面的权利要求中的任一项的记录材料，其特征在于在所述磁性层中包括适合于磁信...
【专利技术属性】
技术研发人员：P海曼，W伦兹，A伊尔梅，M慕赫，H雅库施，G尼科莱，N施内德，
申请(专利权)人：埃姆特克磁化股份有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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