元器件处理设备制造技术

本发明专利技术提供一种元器件处理设备，其包括:一个或多个真空吸嘴；一个或多个流量计，被配置的分别测量对应的一个或多个真空吸嘴的实时流量值；以及,控制装置，被配置的获得每个流量计对应的上限范围和/或下限范围，采集每个流量计的实时流量值，并基于采集的每个流量计的实时流量值与对应的上限范围和/或下限范围确定对应的真空吸嘴的工作情况。这样，可以为元器件处理设备的使用、维护和维修提供非常有效的帮助，实现机器的智能化管理。实现机器的智能化管理。实现机器的智能化管理。

【技术实现步骤摘要】
元器件处理设备


[0001]本专利技术涉及元器件处理领域，尤其涉及一种小型元器件处理设备。

技术介绍

[0002]现有小型元器件包装设备(有时也可以称为Taping设备，装带设备)主要利用真空吸附来实现小型元器件比如芯片(chip)的入料，主要利用真空吸附和出气的切换实现检测后正常小型元器件的排料，以及主要通过真空吸附将小型元器件植入载带的容纳槽中。
[0003]然而，现有的小型元器件包装设备并未实现对各种真空的有效管理。目前小型元器件包括设备的各种真空的管道中设置了多个流量计以及与多个流量计连接的流量计感应表。然而这些流量计感应表都是有操作人员设定报警限值，各路流量计的测量值超过操作人员设定的报警限值就会发生报警。
[0004]然而，现Taping设备真空使用中经常出现问题：
[0005]1、真空流量表报警方式为限值报警，设备会因为限值设定出现误报警或出现速度下降、设备故障、产品不良发生而真空未报警；
[0006]2、设备真空流量实际使用中是真空吸附chip状态与未吸附chip状态高速交替出现，流量计感应表限值设定不能区分状态；
[0007]3、真空因粉尘等问题出现吸嘴半堵塞或管道半堵塞时，流量计感应表不能做出正确的状态判定；
[0008]4、真空前端管道未连接出现异常状态时，流量计感应表显示流量正常，不能检出；
[0009]5、真空前端堵塞(吸嘴堵塞，管道堵塞)，堵塞部位与流量计安装部位间出现管道破损漏真空时，流量计感应表显示流量正常，不能检出；
[0010]6、设备生产中，物料更换，因物料尺寸偏差，引起真空吸附不良，出现设备故障及产品不良时，设备不能给出故障产生原因判断，导致故障定位和分析变得极为困难。
[0011]另外，现有的元器件筛选设备相较于现有的元器件筛选设备不需要将元器件植入载带内，只需要从所述元器件中挑选出部分合格的元器件，比如检测正常的元器件。这类元器件筛选设备的工作原理与元器件筛选设备的工作原理类似。当然，还有其他一些利用真空吸附来进行取料、放料、固料的元件处理设备，同样也存在类似的问题。
[0012]因此，有必要对现有的元器件处理设备的真空管理系统进行改善已解决上述问题。

技术实现思路

[0013]本专利技术的目的在于提供一种元器件处理设备，其采用改进真空管理方案，可以解决现有技术问题中的一个或多个。
[0014]为实现专利技术目的，根据本专利技术的一个方面，本专利技术提供一种元器件处理设备，其包括:一个或多个真空吸嘴；一个或多个流量计，被配置的分别测量对应的一个或多个真空吸嘴的实时流量值；以及控制装置，被配置的获得每个流量计对应的上限范围和/或下限范
围，采集每个流量计的实时流量值，并基于采集的每个流量计的实时流量值与对应的上限范围和/或下限范围确定对应的真空吸嘴的工作情况。
[0015]进一步的，至少有一个真空吸嘴具有持续无料状态以及有料无料交替状态，所述真空吸嘴的各种状态都设置有对应的上限范围和/或下限范围，所述流量计能够提供在所述有料无料交替状态的周期内的实时流量值，所述控制装置将所述实时流量值在所述有料无料交替状态的每个周期内的最高值与对应的上限范围的比较，将所述实时流量值在所述有料无料交替状态的每个周期内的最低值与对应的下限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在有料无料交替状态下的工作情况，所述控制装置将所述实时流量值在所述持续无料状态下的最高值与对应的上限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在所述持续无料状态下的工作情况；或者，至少有一个真空吸嘴具有持续无料状态以及有料转换至无料状态，所述真空吸嘴的各种状态都设置有对应的上限范围和/或下限范围，所述控制装置将所述实时流量值在所述持续无料状态下的最高值与对应的上限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在所述持续无料状态下的工作情况，所述控制装置基于所述实时流量值在所述有料转换至无料状态下的波形确定对应的真空吸嘴在所述有料转换至无料状态下的工作情况。
[0016]进一步的，所述的元器件处理设备还包括：机台；设置于机台上的转盘，其中所述转盘在工作时被驱动的转动，所述转盘包括设置于边缘上的多个凹槽；入料部，其包括设置于机台上的属于所述一个或多个真空吸嘴之一的入料真空吸嘴；排料部，其包括设置于机台上的属于所述一个或多个真空吸嘴之一的排料真空吸嘴，在所述转盘转动时位于所述转盘边缘的多个凹槽依次先后经过所述入料真空吸嘴和所述排料真空吸嘴；控制装置基于采集的每个流量计的实时流量值与对应的上限范围和/或下限范围确定对应的入料真空吸嘴和所述排料真空吸嘴的工作情况。
[0017]进一步的，所述的元器件处理设备还包括：检测装置；植入部，其包括属于所述一个或多个真空吸嘴之一的植入真空吸嘴；载带驱动部，其驱动载带经过所述植入部，所述载带上包括排成列的多个收纳槽；和，其中所述植入真空吸嘴通过管道与真空泵相连通，所述入料真空吸嘴通过管道与所述真空泵连通，所述排料真空吸嘴通过管道受控可选的与所述真空泵和出气泵中的一个连通，所述入料真空吸嘴通过真空吸力将元器件吸入位于所述入料真空吸嘴处的凹槽内，位于所述转盘的凹槽内的元器件会被所述检测装置检测，所述排料真空吸嘴通过真空吸力将检测正常的元器件吸附在位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内，所述排料真空吸嘴通过吹气推力将检测异常的元器件从位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内吹出，所述植入真空吸嘴将通过真空吸力将位于所述植入真空吸嘴处的凹槽内的元器件吸住并植入载带的收纳槽中。
[0018]与现有技术相比，本专利技术提供采用改进真空管理方案的元器件处理设备,其保存多个流量计对应的上限范围和/或下限范围，这样基于采集的各个流量计的流量值与对应的上限范围和/或下限范围确定各个吸嘴的真空工作情况，解决了现有技术问题中的一个或多个。
附图说明
[0019]图1为本专利技术中的元器件处理设备在一个实施例中的俯视示意图，其中部分部件未示出；
[0020]图2为图1中的元器件处理设备的部分结构的侧视放大示意图，其中仅示意性的示出了入料部的相关部分结构；
[0021]图3为图1中的元器件处理设备的部分结构的侧视放大示意图，其中仅示意性的示出了排料部的相关部分结构；
[0022]图4为图1中的元器件处理设备的部分结构的侧视放大示意图，其中仅示意性的示出了植入部的相关部分结构；
[0023]图5为图1中的元器件处理设备的气体通路结构示意图；
[0024]图6为图1中的元器件处理设备的电路结构示意图；
[0025]图7a-7c为本专利技术中的植入真空吸嘴处于不同状态下对应的流量计得到的实时波形数据图；
[0026]图8a为本专利技术中的植入真空吸嘴对应的流量计得到的实时流量值的波形数据与相应的动作信号配合的图形示意图；
[0027]图8b为图8a中的流量计得到的波形数据与相应的动作信号配合的图形的放大示意图。
具体实施方式
[0028]为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种元器件处理设备，其特征在于，其包括:一个或多个真空吸嘴；一个或多个流量计，被配置的分别测量对应的一个或多个真空吸嘴的实时流量值；以及控制装置，被配置的获得每个流量计对应的上限范围和/或下限范围，采集每个流量计的实时流量值，并基于采集的每个流量计的实时流量值与对应的上限范围和/或下限范围确定对应的真空吸嘴的工作情况。2.根据权利要求1所述的元器件处理设备，其特征在于，至少有一个真空吸嘴具有持续无料状态以及有料无料交替状态，所述真空吸嘴的各种状态都设置有对应的上限范围和/或下限范围，所述流量计能够提供在所述有料无料交替状态的周期内的实时流量值，所述控制装置将所述实时流量值在所述有料无料交替状态的每个周期内的最高值与对应的上限范围的比较，将所述实时流量值在所述有料无料交替状态的每个周期内的最低值与对应的下限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在有料无料交替状态下的工作情况，所述控制装置将所述实时流量值在所述持续无料状态下的最高值与对应的上限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在所述持续无料状态下的工作情况；或者，至少有一个真空吸嘴具有持续无料状态以及有料转换至无料状态，所述真空吸嘴的各种状态都设置有对应的上限范围和/或下限范围，所述控制装置将所述实时流量值在所述持续无料状态下的最高值与对应的上限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在所述持续无料状态下的工作情况，所述控制装置基于所述实时流量值在所述有料转换至无料状态下的波形确定对应的真空吸嘴在所述有料转换至无料状态下的工作情况。3.根据权利要求2所述的元器件处理设备，其特征在于，其还包括有：至少一个或多个动作部件，其被配置的与所述真空吸嘴相配合的动作，以使得所述真空吸嘴拾取或放下元器件；所述控制装置还被配置来采集所述动作部件的动作信号，基于采集的所述动作部件的动作信号以及所述真空吸嘴的实时流量值确定判定所述真空吸是处于持续无料状态以及有料无料交替状态中的哪个状态，或者，判定所述真空吸嘴是处于持续无料状态以及有料转换至无料状态中的哪个状态。4.根据权利要求1所述的元器件处理设备，其特征在于，其还包括：机台；设置于机台上的转盘，其中所述转盘在工作时被驱动的转动，所述转盘包括设置于边缘上的多个凹槽；入料部，其包括设置于机台上的属于所述一个或多个真空吸嘴之一的入料真空吸嘴；排料部，其包括设置于机台上的属于所述一个或多个真空吸嘴之一的排料真空吸嘴，在所述转盘转动时位于所述转盘边缘的多个凹槽依次先后经过所述入料真空吸嘴和所述排料真空吸嘴；控制装置基于采集的每个流量计的实时流量值与对应的上限范围和/或下限范围确定对应的入料真空吸嘴和所述排料真空吸嘴的工作情况。5.根据权利要求4所述的元器件处理设备，其特征在于，其还包括：检测装置；
植入部，其包括属于所述一个或多个真空吸嘴之一的植入真空吸嘴；载带驱动部，其驱动载带经过所述植入部，所述载带上包括排成列的多个收纳槽；和其中所述植入真空吸嘴通过管道与真空泵相连通，所述入料真空吸嘴通过管道与所述真空泵连通，所述排料真空吸嘴通过管道受控可选的与所述真空泵和出气泵中的一个连通，所述入料真空吸嘴通过真空吸力将元器件吸入位于所述入料真空吸嘴处的凹槽内，位于所述转盘的凹槽内的元器件会被所述检测装置检测，所述排料真空吸嘴通过真空吸力将检测正常的元器件吸附在位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内，所述排料真空吸嘴通过吹气推力将检测异常的元器件从位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内吹出，所述植入真空吸嘴将通过真空吸力将位于所述植入真空吸嘴处的凹槽内的元器件吸住并植入载带的收纳槽中。6.根据权利要求5所述的元器件处理设备，其特征在于，所述入料部还包括设置于机台上的入料轨道、分离针和入位检测器，所述分离针受控的在阻挡位置和敞开位置之间移动，在所述分离针处于阻挡位置时阻挡所述入料轨道上的元器件，在所述分离针处于敞开位置时所述入料真空吸嘴通过真空吸力将所述入料轨道上的元器件吸入位于所述入料真空吸嘴处的凹槽内，所述入位检测器被配置的检测所述元器件是否进入位于所述入料真空吸嘴处的凹槽内；所述排料部还包括电磁阀，所述电磁阀的第一端口与排料真空吸嘴连通，所述电磁阀的第二端口与所述真空泵连通，所述电磁阀的第三端口与所述出气泵连通，所述电磁阀受控可选的将第一端口与第二端口和第三端口中的一个连通，所述排料真空吸嘴通过所述电磁阀受控可选的与所述真空泵和出气泵中的一个连通；所述植入部还包括植入驱动部，所述植入驱动部驱动所述植入真空吸嘴在取料位置和植入位置之间往复运动，所述植入真空吸嘴在所述取料位置时从将位于所述植入真空吸嘴处的凹槽内的元器件吸住，在植入位置时将吸住的元器件植入所述载带的收纳槽中。7.根据权利要求5所述的元器件处理设备，其特征在于，所述流量计包括：设置于与所述入料真空吸嘴连通的管道上的第一流量计，其被配置的用来测量所述入料真空吸嘴的气体流量以得到第一流量值；设置于与所述排料真空吸嘴连通的管道上的第二流量计，其被配置的用来测量所述排料真空吸嘴的气体流量以得到第二流量值；设置于与所述植入真空吸嘴连通的管道上的第三流量计，其被配置的用来测量所述植入真空吸嘴的气体流量以得到第三流量值。8.根据权利要求5所述的元器件处理设备，其特征在于，所述流量计包括：设置于真空泵的管道上的第四流量计，其被配置的用来测量总流量值；与上位机进行通信的通信模块，所述通信模块被配置的接收所述上位机发送的所述各个流量计对应的上限范围和/或下限范围。9.根据权利要求8所述的元器件处理设备，其特征在于，所述上位机基于通信模块传送来真空泵的总流量值、元器件处理设备的设备类型和元器件类型生成并更新各个流量计对应的上限范围和/或下限范围。10.根据权利要求8所述的元器件处理设备，其特征在于，所述上位机与人工智能模块相连，所述人工智能模块根据一个或多个元器件处理设备的生产记录数据生成并更新各个<...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄德根，
申请(专利权)人：苏州优斯登物联网科技有限公司，
类型：发明
国别省市：