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光记录/再现设备,光旋转记录介质及该设备设计方法技术

技术编号:3068689 阅读:151 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种光记录/再现设备,用于对光旋转记录介质的记录层进行存取操作,通过使用安装有物镜且与所说光旋转记录介质表面具有预定间隙的存取装置实现,其中所说的光旋转记录介质的透明保护层厚度、缺陷面积与光束聚焦点面积的比率及上述的预定间隙由下面定义的不等式条件决定其值:(右上式),式中G为分开存取装置和光旋转记录介质表面的间隙,t为位于光旋转记录介质记录介质表面的透明层的厚度,n为透明层的折射率,和NA为包括物镜在内的光学系统的数值孔径。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光记录/再现设备,用于使用如磁光盘或光盘这样的光旋转记录介质来记录/再现数据。更具体地说本专利技术涉及一种关于缺陷(defect)方面提高可靠性的技术,在浮动光头类型的光记录/再现设备中,通过适当地设置光旋转记录介质的透明保护层厚度、浮动光头的浮动间隙(float)或电磁执行机构和光旋转记录介质间的距离来实现。近年来,短波长的激光二极管逐渐扩大用于提高使用在光硬盘驱动(光HDD)、光软盘驱动(光FDD)、视盘记录仪(VDR)、磁光盘(MO)驱动和激光唱盘(CD)驱动中的光旋转记录介质的记录密度。在此,将以磁光盘作为光旋转记录介质的例子加以说明。使用蓝激光等时,随着波长变短,装在拾取器(pickup)上的物镜的数值孔径(NA)变大。当数值孔径增加时,为了抑制提高记录密度时光的象差,光旋转记录介质上的保护覆盖玻璃层不得不变薄。当保护覆盖玻璃层变薄时,光旋转记录介质上磁性涂层和磁头间的距离变小,从而使在同一侧配置磁系统和光系统成为可能并使光记录/再现设备进一步变小。假设保护覆盖玻璃层的厚度为t,过去的光旋转记录介质此厚度为衬底本身的厚度,也就是1.2t。在近来的DVD、AS磁光盘(AS-MO)、高密度磁光盘等中,保护覆盖玻璃层的厚度已经被减半为0.6t。同样,VDR盘的保护覆盖玻璃层为0.1t,而光HDD盘大约为几十纳米等等。由于光旋转记录介质的衬底变薄,象由于附着在光旋转记录介质上的灰尘引起的缺陷而造成的读写错误频率增加。光旋转记录介质表面和拾取器(或电磁执行机构)中的光头之间的距离相同时,光旋转记录介质的衬底越薄,灰尘引起的缺陷造成的不可靠性越大。在这种情况下,如果光旋转记录介质的衬底厚度大于光头(电磁执行机构)和光旋转记录介质间的间隙,可以提高抗缺陷的能力。相反,如果光旋转记录介质的衬底(保护覆盖玻璃层)厚度与光头(电磁执行机构)和光旋转记录介质之间的间隙相当,则缺陷造成的影响更明显。在浮动光头系统中,光头以浮动状态对光旋转记录介质进行存取操作,由于光头与光旋转记录介质间的间隙(距离)很窄,进入到光束聚焦点内的例如为灰尘的缺陷可以被抑制到一定的范围之内。同样,使用电磁执行机构在非常靠近光旋转记录介质表面进行存取操作时,由于执行机构与光旋转记录介质之间的间隙很窄,进入到光束聚焦点内的例如为灰尘的缺陷可以被抑制到一定的范围之内。概括地说需由本专利技术解决上述不足,直到现在尚未提出一种合理的定量估算,确定灰尘或其它缺陷可允许的尺寸范围与保护覆盖玻璃层厚度、光头和光旋转记录介质之间间隙及其它因素之间的关系。进一步讲就是,不能非常容易地确定如下结果,即到底保护覆盖玻璃层的厚度应该是多少、光头到光旋转记录介质的浮动间隙(距离)应该多大及其它条件和设计因素如何考虑。因此,实现针对缺陷的高可靠性的光记录/再现设备非常困难。这个缺点在使用许多新型光旋转记录介质的光记录/再现设备中显得非常明显,比如最近的新超小型磁光盘。举例来说,直径约为35到64毫米采用蓝激光的超小型、高密度、大容量磁光盘可以具有2千兆字节(GB)或更大的存储容量,比如2到17千兆字节。在如此的新技术光记录/再现设备中,非常需要建立缺陷尺寸、保护覆盖玻璃层厚度、光头浮动间隙(光头和光旋转记录介质间的间隙)、数值孔径及其它需澄清因素之间的联系,并基于此结果设计光记录/再现设备和生产及使用光记录/再现设备。更进一步讲,在光HDD中物镜一侧排列磁场调制改写光头时,为了减小设备的尺寸需要减小间隙及衬底厚度的和。本专利技术的一个目的是提供一种设计光记录/再现设备的方法,通过求出光记录/再现设备抑制整个系统错误(可靠性)、光头和光旋转记录介质间的间隙、光旋转记录介质衬底的厚度之间的最优关系式的条件,以及依照这些条件设计光记录/再现设备。本专利技术的另一个目的是提供一种光记录/再现设备,是基于能够实现上述光记录/再现设备抑制整个系统错误(可靠性)、光头和光旋转记录介质间的间隙、光旋转记录介质衬底的厚度之间的最优关系式的条件生产的。本专利技术的另一个目的时提供一种光旋转记录介质,能够用于上述的光记录/再现设备。依照本专利技术的第一方面,提供一种光记录/再现设备,用于对光旋转记录介质的记录层进行存取操作,通过使用安装有物镜且与所说光旋转记录介质表面具有预定间隙的存取装置实现。其中所说光旋转记录介质的透明保护层厚度、缺陷面积与光束聚焦点面积的比率及上述的预定间隙由下面定义的不等式条件决定其值G1≤t·kπ×tan{sin-1(NAn)}--(A)]]>或t≥Gkπ·tan{sin-1(NAn)}--(B)]]>式中G为分开存取装置和光旋转记录介质表面的间隙,t为位于光旋转记录介质记录介质表面的透明层的厚度,n为透明层的折射率,和NA为包括物镜在内的光学系统的数值孔径。也就是说,本专利技术人发现保护透明层及存取装置与光旋转记录介质间间隙(或最大允许缺陷尺寸)充分满足不等式A或B的条件。使用这些关系式可以设计多种光记录/再现设备。依照上述设计的光记录/再现设备可以高可靠性地运行。优选的是,所说的存取装置是一光头,由所说的光旋转记录介质转动引起的空气流动与所说的光旋转记录介质分开;所说的预定间隙是指所说的光头和所说的光旋转记录介质间空气流通的间隙。更为优选的是,所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k范围介于0.02到0.2之间。特别优选的是,所说的保护透明层厚度及所说的间隙由所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k决定,并用来制造具有所说厚度的光旋转记录介质及与所说的光旋转记录介质分开并对该记录介质进行存取操作的光头。更为优选的是,所说的光旋转记录介质包括使用光和磁的磁光盘、仅使用光的相变光盘、只读光盘、激光唱盘(CD)、光硬盘、光软盘和视频盘。另外,所说的存取装置可以指电磁执行机构,其位置以一预定间隙与所说的光旋转记录介质分开;所说的预定间隙是指所说的电磁执行机构和所说的光旋转记录介质间的间隙。优选的是,所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k范围介于0.02到0.2之间。更为优选的是,所说的保护透明层厚度及所说的间隙由所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k决定,并且使用具有所说厚度的光旋转记录介质及其位置按所说间隙离开所说的光旋转记录介质的电磁执行机构。依照本专利技术的第二方面,提供一种光记录/再现设备,用于对光旋转记录介质的记录层进行存取操作,通过使用安装有物镜且与所说光旋转记录介质表面具有预定间隙的存取装置实现。其中所说的存取装置离开所说的光旋转记录介质表面距离由下面定义的不等式决定t≥Gkπ·tan{sin-1(NAn)}]]>式中G为分开存取装置和光旋转记录介质表面的间隙,t为位于光旋转记录介质记录介质表面的透明层的厚度,n为透明层的折射率,和NA为包括物镜在内的光学系统的数值孔径。依照本专利技术的第三方面,提供一种光旋转记录介质,用于光记录/再现设备。该设备通过使用安装有物镜且与所说光旋转记录介质表面具有预定间隙的存取装置实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光记录/再现设备,用于对光旋转记录介质的记录层进行存取操作,通过使用安装有物镜且与所说光旋转记录介质表面具有预定间隙的存取装置实现,其中所说的光旋转记录介质的透明保护层厚度、缺陷面积与光束聚焦点面积的比率及上述的预定间隙由下面定义的不等式条件决定其值: G↓[1]≤t.*×tan{sin↑[-1](NA/n)} 或 *** 式中 G为分开存取装置和光旋转记录介质表面的间隙, t为位于光旋转记录介质记录介质表面的透明层的厚度, n为透明层的折射率,和 NA为包括物镜在内的光学系统的数值孔径。

【技术特征摘要】
JP 1999-12-22 365660/991.一种光记录/再现设备,用于对光旋转记录介质的记录层进行存取操作,通过使用安装有物镜且与所说光旋转记录介质表面具有预定间隙的存取装置实现,其中所说的光旋转记录介质的透明保护层厚度、缺陷面积与光束聚焦点面积的比率及上述的预定间隙由下面定义的不等式条件决定其值G1≤t·kπ×tan{sin-1(NAn)}]]>或t≥Gkπ·tan{sin-1(NAn)}]]>式中G为分开存取装置和光旋转记录介质表面的间隙,t为位于光旋转记录介质记录介质表面的透明层的厚度,n为透明层的折射率,和NA为包括物镜在内的光学系统的数值孔径。2.如权利要求1所述的光记录/再现设备,其中所说的存取装置是一光头,由所说的光旋转记录介质转动引起的空气流动与所说的光旋转记录介质分开,和所说的预定间隙是指所说的光头和所说的光旋转记录介质间的空气流通的间隙。3.如权利要求2所述的光记录/再现设备,其中所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k范围介于0.02到0.2之间。4.如权利要求3所述的光记录/再现设备,其中所说的保护透明层厚度及所说的间隙由所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k决定,并用来制造具有所说厚度的光旋转记录介质及与所说的光旋转记录介质分开并对记录介质进行存取操作的光头。5.如权利要求4所述的光记录/再现设备,其中所说的光旋转记录介质包括使用光和磁的磁光盘、仅使用光的相变光盘、只读光盘、激光唱盘(CD)、光硬盘、光软盘和视频盘。6.如权利要求1所述的光记录/再现设备,其中所说的存取装置是一种电磁执行机构,其位置以一预定间隙与所说的光旋转记录介质分开,和所说的预定间隙是指所说的电磁执行机构和所说的光旋转记录介质间的间隙。7.如权利要求6所述的光记录/再现设备,其中所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k范围介于0.02到0.2之间。8.如权利要求7所述的光记录/再现设备,其中所说的保护透明层厚度及所说的间隙由所说的缺陷面积与光束聚焦点面积的比率k决定,并且使用具有所说厚度的光旋转记录介质及位于离开所说的光旋转记录介质预定间隙位置的电磁执行机构。9.如权利要求8所述的光记录/再现设备,其中所说的光旋转记录介质包括使用光和磁的磁光盘、仅使用光的相变光盘、只读光盘、激光唱盘(CD)、光硬盘、光软盘和视频盘。10.一种光记录/再现设备,用于对光旋转记录介质的记录层进行存取操作,通过使用安装有物镜且与所说光旋转记录介质表面具有预定间隙的存取装置实现,其中所说的存取装置离开所说的光旋转记录介质表面距离由下面定义的不等式决定t≥Gkπ·tan{sin-1(NAn)}]]>式中G为分开存取装置和光旋转记录介质表面的间隙,t为位于光旋转记录介质记录介质表面的透明层的厚度,n为透明层的折射率,和NA为包括物镜在内的光学系统的数...

【专利技术属性】
技术研发人员:渡边哲
申请(专利权)人:索尼公司
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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