光记录介质和用于制造该光记录介质的设备和方法技术

光记录介质（１０）具有：凹槽轨道（１１），其上记录信息被记录在第一区域，而预定数据作为压纹坑行（１９）被记录在第二区域，以阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取；被形成在第一区域和第二区域内彼此相邻的凹槽轨道之间的凸区轨道（１２）；以及，被设置在第一区域和第二区域内的凸区轨道上并包括地址信息的预坑（１３，４５，４６）。第二区域内所形成的预坑（４５，４６）的形状与第一区域内所形成的预坑（１３）的形状不同，使得在第二区域内获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种可以将信息光学地记录在其上的光记录介质和一种用于制造该光记录介质的设备和方法。
技术介绍
一种DVD-RW(可重记录DVD)光盘是众所周知的可以将信息光学地记录在其上的光记录介质。这种光记录介质具有在其上记录信息的凹槽轨道；和表示不同信息例如地址和类似信息的凸区预坑(pre-pits)(下文被称作预坑)，每个预坑被形成在凹槽轨道的相邻圈之间的凸区轨道上。凹槽轨道具有记录信息被记录在其上的第一区域；以及第二区域，其中预定数据作为一种压纹坑行(embossed pit row)被形成，以便由此阻止别的写在该压纹坑行上的数据被读取。一种用于从这种光记录介质上再现记录信息的再现设备是这样设计的，即光点被照射在凹槽轨道上，反射层所反射的反射光被光探测器PD所检测，已记录的记录信息因此被读取。光点的尺寸被这样设计，使得其一部分还被照射到形成在凹槽轨道邻近的预坑上。由此来自光盘的反射光被光探测器PD所检测，因此可读取被记录在凹槽上的记录信息和凸区轨道上例如地址等的各种信息。然而形成在第一区域内凸区轨道上的预坑被定位成靠近凹槽轨道，因此，形成在第一区域内的预坑对用于读取被记录在凹槽轨道内的记录信息的再现信号的操作具有坏的影响。所以专利技术人在公开的日本专利申请2000-132868中提出一种预坑的形状，能够使上述坏的影响最小化。然而光记录介质的凹槽轨道也包括压纹坑行被记录在其内的第二区域，如上文所述的公报中所描述的那样，如果在第一区域内的预坑的形状被优化以便使预坑对再现信号的影响最小，则这种优化会导致这样的问题，即难以满足所要求的、第二区域内的预坑检测信号的孔径比率ARe值(也就是ARe＞30％)，此时压纹坑行被形成在该第二区域内，该比率是由DVD-RW格式规定的。孔径比率ARe表示预坑检测信号中最小的幅度APmin与最大的幅度APmax的比率。
技术实现思路
鉴于上述问题提出本专利技术。所以本专利技术的一个目的是提供一种光记录介质，其中，形成在第一区域内的预坑几乎对再现信号没有坏影响，并且可能容易地满足在第二区域内的预坑检测信号的孔径比率值，以及本专利技术还提供一种用于制造该光记录介质的设备和方法。通过一种记录信息可以被光学地记录的光记录介质可以实现本专利技术的上述目的，所述光记录介质具有一基板；形成在所述基板上的记录表面，它具有第一区域和第二区域，记录信息被记录在第一区域内，而控制记录和/或再现记录信息的预定数据被记录在所述第二区域内；形成在第一区域和第二区域内的凹槽轨道，其上记录信息被记录在第一区域内，而预定数据作为压纹坑行被记录在第二区域，以便阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取；形成在彼此相邻的凹槽轨道之间的、第一区域和第二区域内的凸区轨道；以及被设置在第一区域和第二区域内的凸区轨道上的预坑，包括表示在凹槽轨道上的记录位置的地址信息，第二区域内所形成的预坑的形状与第一区域内所形成的预坑的形状不同，使得与第一区域相比，在第二区域内获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。根据本专利技术的光记录介质，第二区域内形成的预坑形状与第一区域内形成的预坑形状不同，以便获得更大幅度的预坑检测信号。因此，第二区域内的预坑检测信号的孔径比率ARe值变得更大，它能够容易地满足所要求的值，例如DVD-RW格式所规定的ARe＞30％。根据本专利技术光记录介质的一个方面，第一区域内的预坑被形成为使得该预坑对与从所述凹槽轨道中读取的记录信息相应的再现信号的影响最小。根据这个方面，在第一区域，预坑对再现信号的影响可以被最小化，同时在第二区域，可以使孔径比率ARe值相当大。根据本专利技术光记录介质的另一个方面，在扫描方向上，使第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更长。根据这个方面，在第二区域内，通过在第二区域内形成更长预坑，可能增加孔径比率ARe值。根据本专利技术光记录介质的另一个方面，使第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更深。根据这个方面，在第二区域内，通过在第二区域内形成更深预坑，可能增加孔径比率ARe值。根据本专利技术光记录介质的另一个方面，在光盘的沿半径方向上，使第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更大。根据这个方面，在第二区域内，通过在第二区域内形成更大预坑，可能增加孔径比率ARe值。根据本专利技术光记录介质的另一个方面，第二区域所在地址与其上记录有专用于再现的记录介质的再现控制信息的区域地址相同。根据这个方面，可保护RF(无线电频率)复制，例如从DVD-ROM光盘到DVD-RW光盘的RF复制。利用一种通过使用初始光盘而制造光记录介质的设备，本专利技术的上述目的可以被实现，记录信息可以被光学地记录在所述记录介质上，所述设备具有用于在所述初始光盘的表面上形成凹槽轨道的凹槽轨道形成设备，其上记录信息将被记录在第一区域，而用于控制记录和/或再现记录信息的预定数据作为压纹坑行被记录在第二区域，以便阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取；以及用于形成被设置在凸区轨道上的预坑的预坑形成设备，所述凸区轨道位于第一区域和第二区域内彼此相邻的凹槽轨道之间，包括表示在所述凹槽轨道上的记录位置的地址信息，所述预坑形成设备在第二区域内所形成的预坑的形状与第一区域内形成的预坑的形状不同，使得与第一区域相比，在第二区域内获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。根据本专利技术的制造设备，本专利技术上述光记录介质可以被容易地和确定地制造。在本专利技术制造设备的一个方面，预坑形成设备在第一区域内形成预坑，以便使该预坑对与从凹槽轨道中读取的记录信息相应的再现信号的影响最小。在本专利技术制造设备的另一个方面，在扫描方向上，预坑形成设备在第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更长。在本专利技术制造设备的另一个方面，预坑形成设备在第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更深。在本专利技术制造设备的另一个方面，在光盘的沿半径方向上，预坑形成设备在第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更大。在本专利技术制造设备的另一个方面，第二区域所在地址与其上记录有专用于再现的记录介质的再现控制信息的区域地址相同。利用一种通过使用初始光盘而制造光记录介质的方法，本专利技术的上述目的可以被实现，记录信息可以被光学地记录在所述记录介质上，所述方法包括用于在所述初始光盘的表面上形成凹槽轨道的凹槽轨道形成过程，其上记录信息将被记录在第一区域内，而用于控制记录和/或再现记录信息的预定数据作为压纹坑行被记录在第二区域内，以便阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取；以及用于形成被设置在凸区轨道上的预坑的预坑形成过程，所述凸区轨道位于第一区域和第二区域内彼此相邻的凹槽轨道之间，包括表示在所述凹槽轨道上的记录位置的地址信息，所述预坑形成过程在第二区域内所形成的预坑的形状与第一区域内所形成的预坑的形状不同，使得与第一区域相比，在第二区域内获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。根据本专利技术的制造方法，本专利技术上述光记录介质可以被容易地和确定地制造。在本专利技术制造方法的一个方面，预坑形成过程在第一区域内形成预坑，以便使该预坑对与从凹槽轨道中读取的记录信息相应的再现信号的影响最小。在本专利技术制造方法的另一个方面，在扫描方向上，预坑形成过程在第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更长。在本专利技术制造方法的另一个方面，预坑形成过程在第二区域内形成的预坑比第一区域内的预坑更深。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光记录介质（１０，６０，７０），记录信息可以被光学地记录在该光记录介质上，其特征在于，所述光记录介质包括： 一基板（１６）； 形成在所述基板上的一记录表面，它具有一第一区域和一第二区域，记录信息被记录在所述第一区域内，而控制记录和／或再现记录信息的预定数据被记录在所述第二区域内； 形成在所述第一区域和第二区域内的凹槽轨道（１１），其上记录信息被记录在所述第一区域内，且预定数据作为压纹坑行（１９）被记录在所述第二区域，以便阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取； 形成在所述第一区域和第二区域内的凸区轨道（１２），所述凸区轨道被形成于彼此相邻的所述凹槽轨道之间；以及 被设置在第一区域和第二区域内的所述凸区轨道（１２）上的预坑（１３，４５，４６，４８），包括表示在所述凹槽轨道上的记录位置的地址信息； 第二区域内所形成的预坑（４５，４６）的形状与第一区域内所形成的预坑（１３，４７）的形状不同，使得与第一区域相比，在第二区域内可获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。

【技术特征摘要】
JP 2000-9-14 279280/001.一种光记录介质(10，60，70)，记录信息可以被光学地记录在该光记录介质上，其特征在于，所述光记录介质包括一基板(16)；形成在所述基板上的一记录表面，它具有一第一区域和一第二区域，记录信息被记录在所述第一区域内，而控制记录和/或再现记录信息的预定数据被记录在所述第二区域内；形成在所述第一区域和第二区域内的凹槽轨道(11)，其上记录信息被记录在所述第一区域内，且预定数据作为压纹坑行(19)被记录在所述第二区域，以便阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取；形成在所述第一区域和第二区域内的凸区轨道(12)，所述凸区轨道被形成于彼此相邻的所述凹槽轨道之间；以及被设置在第一区域和第二区域内的所述凸区轨道(12)上的预坑(13，45，46，48)，包括表示在所述凹槽轨道上的记录位置的地址信息；第二区域内所形成的预坑(45，46)的形状与第一区域内所形成的预坑(13，47)的形状不同，使得与第一区域相比，在第二区域内可获得对应于该预坑的更大幅度的预坑检测信号。2.根据权利要求1的光记录介质(10，60，70)，其特征在于第一区域内的预坑(13，47)被形成为使得该预坑对与从所述凹槽轨道(11)中读取的记录信息相应的再现信号的影响最小。3.根据权利要求1或2的光记录介质(10)，其特征在于在扫描方向上，使第二区域内形成的预坑(45)比第一区域内的预坑(13)更长。4.根据权利要求1或2的光记录介质(60)，其特征在于使第二区域内形成的预坑(46)比第一区域内的预坑(13)更深。5.根据权利要求1或2的光记录介质(70)，其特征在于在光盘的沿半径方向上，使第二区域内形成的预坑(48)比第一区域内的预坑(47)更大。6.根据权利要求1～5之一的光记录介质(10，60，70)，其特征在于第二区域所在的地址与其上记录有专用于再现的记录介质的再现控制信息的区域地址相同。7.一种通过使用初始光盘(40)而制造光记录介质(10，60，70)的设备(50)，记录信息可以被光学地记录在所述光记录介质上，其特征在于，所述制造设备包括用于在所述初始光盘的表面上形成凹槽轨道(11)的凹槽轨道形成设备(33～37)，其上记录信息将被记录在第一区域，而用于控制记录和/或再现记录信息的预定数据作为压纹坑行(19)被记录在所述第二区域内，以便阻止别的写在压纹坑行上的数据被读取；以及用于形成被设置在凸区轨道(12)上的预坑(13，45～48)的预坑形成设备(20～23，33)，所述凸区轨道位于第一区域和第二区域内彼此相邻的凹槽轨道之间，包括表示在所述凹槽轨道上的记录位置的地址信息；所述预坑形成设备在第二区域内所形成的预坑的形状与第一区域内所形成的预坑的形状不同，...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正浩，
申请(专利权)人：日本先锋公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]