磁复录方法和磁复录装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种磁复录方法和磁复录装置，磁复录方法包括单一永久磁铁，磁极轴垂直于从属介质面并夹持着从属介质，通过将从属介质旋转，沿从属介质面的磁道方向施加磁场并预先将从属介质形成初期直流磁化，将磁复录用主载体和从属介质进行紧密接触，沿与从属介质初期直流磁化方向相反的磁道方向施加复录用磁场进行磁复录。利用磁复录，不管磁图形的位置如何，都可以从磁复录用主载体向从属介质复录高品位的复录图形。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种磁复录方法和磁复录装置。随着数字图像应用的进展，以电脑处理情报数量也气速地增加。由于情报量的增加，所以要求一种以大容量记录情报、谦价，而且能在短时间内进行复录，读取的磁性复录介质。硬盘等高密度复录介质和以ZIP(阿依可麦卡公司)为代表的高密度软盘型磁复录介质，与一般的软盘比较，情报复录区域是由狭窄的磁道构成，为了使磁头准确地扫描狭窄的磁道宽度，以很高的S/N比进行信号的复录和再生，需要使用跟踪伺服(tracking Servo)技术进行准确扫描。因此，在硬盘，リム-バル型磁性复录介质一类的大容量磁复录介质上，在盘中以1周的间隔复录着跟踪用的伺服信号，地址情报信号和再生时钟信号等，形成所谓的予格式化。磁头可读取这种予格式化的信号，并对自己的位置进行修正，准确地在磁道上移动。现在的予格式化是使用专用的伺服复录装置，每次一张，每次1个磁道进行复录，以此制作盘。存在的问题是伺服复录装置价格昂贵，由于予格式制作需要很长的时间，所以制造也就需要很长时间，而且也影响到制造费用。而且，还提出了不是每次1个磁道进行予格式化，而是以磁复录进行的方式。例如，特开昭63-18362号公报、特开平10-40544号公报和特开平10-269566号公报中介绍的复录技术。然而，该磁复录方法中，主要是复录时施加磁场的条件以及形成该磁砀的具体装置，但实际上所提方案没有执行。作为解决这种老问题的记录方法，也有提案，例如在特开昭63-1833623号公报和特开平10-40544号公报中提出一种复录方法，即，在基体表面上形成与情报信号相对应的凹凸形状，使凹凸形状中，至少是凸部表面形成强磁性薄膜的磁复录用主载体表面，与形成强磁性薄膜或强磁性粉涂布层的片状或盘状磁复录介质的表面接触，或者进一步施加交流偏置磁场，或直流磁场，对构成凸部表面的强磁性材料进行激磁，将与凹凸形状相对应的磁化图形复录在磁复录介质上。在该方法中，是将磁复录用主载体的凸部表面全部形成予格式化的磁复录介质，即，通过与从属介质紧密接触同时对构成凸部的强磁性材料进行激磁，在从属介质上形成规定予格式化的复录方法，具有的特征是磁复录主载体的从属介质的相对位置不发生变化，可静止进行复录，可复录下准确的予格式，而且还具有复录所用时间极短的特征。即，上述利用磁头进行复录的方法，存在的问题是通常需要数分钟到数十分钟，而且以复录容量进行比较，复录所用时间更长。但是，这种磁复录方法，所具有的特征，可以说是，与复录容量和复录密度无关，仅在1秒内就可完成复录。参照附图说明图1，对磁复录用主载体中予格式化用的图形复录进行说明。图1(A)是以模式说明磁复录用主载体磁性层面的平面图，图1(B)是说明复录过程的断面图。在磁复录用主载体1的磁道规定区域内，形成予格式化的区域2和数据区域3，而在予格式化区域2中全部复录形成跟踪用的伺服信号和地址信号的图形，由于将磁复录用主载体1和从属介质4紧密接触，通过施加磁道方向5的复录用外部磁场6，使予格式化情报以复录情报7可复录在从属介质一侧上，所以能够高效率地制作从属介质。但是，在利用这种方法进行复录时，有时使情报信号品位产生恶化，有时产生伺服工作不准确的现象，这种状况目前尚不明确。本专利技术的目的在于提供一种稳定的复录方法和装置，能够防止在通过将磁复录用主载体和从属介质紧密接触，施加外部磁场复录予格式化图形制作的从属介质中伺服工作不准确的现象。为达上述目的，本专利技术采用以下设计本专利技术的磁复录方法是，在将与基板表面的情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和由接受复录的磁复录介质形成的从属介质紧密接触施加复录用磁场的磁复录方法中，将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，以使磁极轴垂直于从属介质面，夹持着从属介质，使同极之间相对，使如此配置的一对永久磁铁，以二对邻接配置，并使邻接磁铁的极性不同，使从属介质或二对永久磁铁沿磁道方向旋转，通过在从属介质面的磁道方向上施加磁场，予先，使从属介质磁化，沿磁道方向形成初期直流磁化后，再使磁复录主载体和上述初期直流磁化的从属介质紧密接触，沿着和从属介质面的初期直流磁化方向相反方向的磁道方向施加复录用磁场，进行磁复录。本专利技术的磁复录方法是，在将与基板表面的情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和由接受复录的磁复录介质形成的从属介质紧密接触施加复录用磁场磁复录方法中，沿从属介质面的磁道方向施加磁场，予先使从属介质载体磁化，沿磁道方向形成初期直流磁化后，将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，使磁极轴垂直于将磁复录用主载体和从属介质紧密接触的紧密接触体的面，以夹持紧密接触体，同极彼此相对，将如此配置的一对永久磁铁，相邻接地配设二对，并使邻接磁铁的极性不同，沿着磁道方向旋转二对永久磁铁或磁复录用主载体和从属介质的紧密接触体，在和初期直流磁化方向相反向的磁道方向施加复录用磁场，进行磁复录。上述的磁复录方法是，将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，使磁极轴垂直于磁复录用主载体和从属介质的紧密接触体的面，并夹持紧密接触体，同极之间彼此相对，将如此配置的一对永久磁铁，以邻接磁铁的极性不同方式，相邻接配设二对时，产生磁场在磁道方向上的磁场强度分布，是在磁道方向位置上至少具有1处以上在从属介质保磁力Hcs以上的磁场强度部分。在上述的磁复录方法中，将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，使磁极轴垂直于从属介质面，并夹持着从属介质，使同极彼此相对，将如此配置的一对永久磁铁，以邻接磁铁极性不同的方式，相邻接配设二对时，产生磁场在磁道方向的磁场强度分布，在磁道方向位置上，仅在一个方向上具有在从属介质保磁力Hcs以上磁场强度部分，在任何一个磁道方向位置上，反方向的磁场强度低于从属介质的保磁力Hcs。上述的磁得录方法中，将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，使磁及轴垂直于从属介质面，并夹持着从属介质，使同极彼此相对，将如此配置的一对永久磁铁，以相邻接磁铁极性不同的方式，相邻接配设二对时，产生磁场在磁道方向的磁场强度分布，在任何一个磁道方向位置上不存在超过最适宜复录磁场强度范围最大值的磁场强度，但在一个磁道方向上，至少存在1处以上形成最适宜复录磁场强度范围内的磁场强度部分，在任何一个磁道方向位置上，与此反向的磁道方向的磁场强度都低于最适宜复录磁场范围的最小值。在上述磁复录方法中，相对于从属介质的保磁力Hcs，最适宜复录磁场强度为0.6xHcs~1.3xHcs。一种磁复录装置，是在将与基板表面情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和由接受复录的磁复录介质形成的从属介质紧密接触施加复录用磁场的磁复录装置中，包括如下装置，即，将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，使磁极轴垂直于从属介质面，并夹持着从属介质，同极彼此相对，如此设置的一对永久磁铁，以相邻接磁铁极性不同的方式邻接配设二对，沿磁道方向旋转从属介质或二对永久磁铁，通过在从属介质面的磁道方向上施加磁场，予先使从属介质磁化，在磁道方向上形成初期直流磁化的初期直流磁化的从属介质紧密接触的紧密接触装置，和在与从属介质面的初期直流磁化方向相反向的磁道方向上施加复录用磁场的复录磁场施加装置。一种磁复录装置，是在将与基板表面情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和由接受复录的磁复录介质本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁复录方法，其特征在于：在将与基板表面情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和由接受复录的磁复录介质形成的从属介质进行紧密接触，施加复录用磁场的磁复录方法中，包括将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，以磁极轴垂直于从属介质面，并夹持着从属介质，同极彼此相对，如此配置的一对永久磁铁，以邻接磁铁极性不同的方式，相邻接配置二对，沿磁道方向旋转从属介质或二对永久磁铁，沿从属介质面的磁道方向施加磁场，沿磁道方向予先使从属介质形成初期直流磁化后，将磁复录用主载体和上述初期直流磁化的从属介质紧密接触，再沿与从属介质面初期直流磁化方向相反的磁道方向施加复录用磁场，进行磁复录。

【技术特征摘要】
1.一种磁复录方法，其特征在于在将与基板表面情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和由接受复录的磁复录介质形成的从属介质进行紧密接触，施加复录用磁场的磁复录方法中，包括将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，以磁极轴垂直于从属介质面，并夹持着从属介质，同极彼此相对，如此配置的一对永久磁铁，以邻接磁铁极性不同的方式，相邻接配置二对，沿磁道方向旋转从属介质或二对永久磁铁，沿从属介质面的磁道方向施加磁场，沿磁道方向予先使从属介质形成初期直流磁化后，将磁复录用主载体和上述初期直流磁化的从属介质紧密接触，再沿与从属介质面初期直流磁化方向相反的磁道方向施加复录用磁场，进行磁复录。2.一种磁复录方法，其特征在于在将与基板表面情报信号相对应部分形成磁性层的磁复录用主载体和由接受复录的磁复录介质形成的从属介质紧密接触，施加复录用磁场的磁复录方法中，包括沿从属介质面的磁道方向施加磁场，沿磁道方向，予先将从属介质载体形成初期直流磁化后，将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，以磁极轴垂直于主载体和从属介质紧密接触的紧密接触体面，并夹持着紧密接触体，同极彼此相对，如此配置的一对永久磁铁，以相邻接磁铁极性不同的方式，邻接配置二对，沿磁道方向旋转二对永久磁铁或磁复录用主载体和从属介质的紧密接触体，沿与初期直流磁化方向相反的磁道方向施加复录用磁场，并进行磁复录。3.根据权利要求1所述的磁复录方法，其特征在于将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，以磁极轴垂直于磁复录用主载体和从属介质的紧密接触体面，并夹持着紧密接触体，同极彼此相对，如此配置的一对永久磁铁，以相邻接磁铁极性不同的方式，相邻接配置二对，此时产生的磁场，在磁道方向上的磁场强度分布，在磁道方向位置上，至少具有1处以上高于从属介质保磁力Hcs的磁场强度部分。4.根据权利要求1所述的磁复录方法，其特征在于将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，以磁极轴垂直于从属介质面，并夹持着从属介质，同极彼此相对，如此配置的一对永久磁铁，以相邻接磁铁极性不同的方式，邻接配置二对，此时产生的磁场，在磁道方向上的磁场强度分布，在磁道方向位置上仅在一个方向上具有高于从属介质保磁力Hcs的磁场强度部分，在任何一个磁道方向位置上，反方向的磁场强度都低于从属介质的保磁力Hcs。5.根据权利要求2所述的磁复录方法，其特征在于将具有与磁极轴对称磁场的单一永久磁铁，以磁极轴垂直于从属介质面，并夹持着从属介质，同极彼此相对，如此配置的一对永久磁铁，以相邻接磁铁极性不同的方式，相邻接配置二对，此时产生的磁场，在磁道方向的磁场强度分布中，在任何一个磁道方向位置上都不存在超过最适宜复录磁场强度范围最大值的磁场强度，而在一个磁道方向上，至少存在1处以上形成最适宜复录磁场强度范围内磁场强度的部分，在任何一个磁道方向位置上，与其相反磁道方向上的磁场强度都低于最适宜复录磁场强度范围的最小值。6.根据权利要求5所述的磁复录方法，其特征在于相对于从属介质的保磁力Hcs，最适宜复录的磁场强度为0.6xHcs~1.3xHcs。7.一种磁复录装置，其特征在于在将与基板表面情报信号...

【专利技术属性】
技术研发人员：小松和则，长尾信，西川正一，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]