用于去势抵抗性前列腺癌靶向疗法的化合物制造技术

技术编号:30664678 阅读:24 留言:0更新日期:2021-11-06 08:41
本发明专利技术整体涉及用于治疗用途的新化合物。具体地,本公开涉及可用于治疗癌症、尤其是去势抵抗性前列腺癌的新型四环化合物。用于通过单独施用治疗有效量的此类化合物或与其他治疗剂一起施用来治疗癌症患者的药物组合物物质和方法在本公开的范围内。质和方法在本公开的范围内。质和方法在本公开的范围内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于去势抵抗性前列腺癌靶向疗法的化合物
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本专利申请涉及并要求2019年2月28日提交的美国临时申请序列号62/811,747的优先权,该临时申请的内容据此全文以引用方式并入本公开。


[0003]本专利技术整体涉及用于治疗用途的新化合物。具体地,本公开涉及可用于治疗癌症、尤其是去势抵抗性前列腺癌的新型四环化合物。本文还描述了此类化合物的药物组合物,以及通过单独施用治疗有效量的此类化合物、与其他治疗剂一起施用或以药物组合物的形式施用来治疗癌症患者的方法。

技术介绍

[0004]本部分介绍了可能有助于更好地理解本公开的方面。因此,这些陈述应从这个角度来阅读,并且不应被理解为对是或不是现有技术的承认。
[0005]前列腺癌是老年男性中最常见的恶性肿瘤,也是美国男性癌症死亡的第二大原因。大多数前列腺癌的生长和进展依赖于雄激素(诸如睾酮),并且雄激素剥夺疗法(ADT)是晚期前列腺癌患者的主要疗法。然而,尽管存在初始响应,但前列腺癌最终几乎总是获得对雄激素耗竭的抵抗性,并且它被称为去势抵抗性前列腺癌(CRPC)。对于更有效地治疗癌症,尤其是CRPC,存在未满足的医疗需求。

技术实现思路

[0006]本专利技术整体涉及用于治疗用途的新化合物。具体地,本公开涉及可用于治疗癌症、尤其是去势抵抗性前列腺癌的新型四环化合物。
[0007]本文还描述了此类化合物的药物组合物,以及通过单独施用治疗有效量的此类化合物、与其他治疗剂一起施用或以药物组合物的形式施用来治疗癌症患者的方法。
[0008]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及具有式(I)的化合物
[0009][0010]或其药学上可接受的盐,其中
[0011]表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;
[0012]R1和R2独立地为氢、C1至C6烷基、烯基或炔基;
[0013]R3为氢、羟基、硫醇、卤基、叠氮基、硝基、氰基、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、硫烷基、巯基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且
[0014]R4为氢、羟基、卤基、叠氮基、硝基、氰基、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代。
[0015]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及具有式(II)的化合物
[0016][0017]或其药学上可接受的盐,其中
[0018]表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;
[0019]R1和R2独立地为氢、C1至C6烷基、烯基或炔基;
[0020]R3为氢、羟基、硫醇、卤基、叠氮基、硝基、氰基、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、硫烷基、巯基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且
[0021]R6为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代。
[0022]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及具有式(III)的化合物
[0023][0024]或其药学上可接受的盐,其中
[0025]表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;
[0026]R1和R2独立地为氢、C1至C6烷基、烯基或炔基;
[0027]R5为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且
[0028]R6为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代。
[0029]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及如本文所公开的具有式(III)的化合物,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;
[0030]R1和R2独立地为氢或甲基;
[0031]R5为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且
[0032]R6为氢或C1

C6烷基。
[0033]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及如本文所公开的具有式(III)的化合物,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;
[0034]R1和R2独立地为氢或甲基;并且
[0035]R5和R6为氢。
[0036]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及具有式(III)的化合物,其中所述化合物为图2的化合物1

6中的化合物。
[0037]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及具有式(III)的化合物,其中所述化合物为图2的化合物15

22中的化合物。
[0038]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及具有式(III)的化合物,其中所述化合物为图2的化合物23

40中的化合物。
[0039]在一些例示性实施方案中,本专利技术涉及如本文所公开的具有式(III)的化合物,其中表示双键,并且X为O、S、NH、N

OH N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种化合物,所述化合物具有下式:或其药学上可接受的盐,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;R1和R2独立地为氢、C1至C6烷基、烯基或炔基;R3为氢、羟基、硫醇、卤基、叠氮基、硝基、氰基、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、硫烷基、巯基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且R4为氢、羟基、卤基、叠氮基、硝基、氰基、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代。2.根据权利要求1所述的化合物,其中所述化合物具有下式:或其药学上可接受的盐,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;R1和R2独立地为氢、C1至C6烷基、烯基或炔基;R3为氢、羟基、硫醇、卤基、叠氮基、硝基、氰基、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、硫烷基、巯基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且R6为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代。
3.根据权利要求1所述的化合物,其中所述化合物具有下式:或其药学上可接受的盐,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;R1和R2独立地为氢、C1至C6烷基、烯基或炔基;R5为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且R6为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、烷氧基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代。4.根据权利要求3所述的化合物,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;R1和R2独立地为氢或甲基;R5为氢、烷基、烯基、炔基、烷基炔基、羟烷基、氨基烷基、杂烷基、杂烯基、杂炔基、杂环基、环烷基、环烯基、环杂烷基、环杂烯基、酰基、芳基、杂芳基、芳基烷基、芳基烯基或芳基炔基,它们中的每一者任选地被取代;并且R6为氢或C1

C6烷基。5.根据权利要求4所述的化合物,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;R1和R2独立地为氢或甲基;并且R5和R6为氢。6.根据权利要求4所述的化合物,其中所述化合物为图2的化合物1

6中的化合物。7.根据权利要求4所述的化合物,其中所述化合物为图2的化合物15

22中的化合物。8.根据权利要求4所述的化合物,其中所述化合物为图2的化合物23

40中的化合物。9.根据权利要求3所述的化合物,其中表示双键,并且X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;R1和R2独立地为氢或甲基;并且R5和R6为氢。
10.根据权利要求3所述的化合物,其中表示单键或双键,其中当表示单键时,X为羟基或烷氧基;或者当表示双键时,X为O、S、NH、N

OH、N

NH2或NR7,其中R7为C1

C6烷基;R...

【专利技术属性】
技术研发人员:G
申请(专利权)人:普渡研究基金会
类型:发明
国别省市:

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