台架及反应釜制造技术

本实用新型专利技术提供了一种台架及反应釜，涉及化工合成反应设备的技术领域，包括：架体和固定件；架体包括安装部，安装部一端与反应釜内壁连接；固定件一端与安装部连接，另一端悬挂有导电基底，通过悬挂的方式固定导电基底，使导电基底悬空，可使导电基底与反应母液充分接触，使得原位生长反应发生更彻底，反应产物在基底表面生长均匀，解决重力产物堆积影响均匀度的影响。同时最大化利用空间，导电基底通过悬挂的方式，可以节约空间，实现同时挂设多个导电基底，使得反应母液的利用率最大化，节约成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
台架及反应釜


[0001]本技术涉及化工合成反应设备
，尤其是涉及一种台架及反应釜。

技术介绍

[0002]近年来，人们对超级电容器、锂离子电池以及电解水产氢产氧等领域的电极材料研究颇多，其中，电极的导电率和电化学活性表面积对电极的性能影响至关重要。一般通过在导电基底上原位生长活性物质，一步法制备电极，可以大大降低成本，避免使用有机粘结剂制备电极对导电性能产生影响。
[0003]原位生长的原理是价键的连接，在电极测试过程中，通过原位生长反应制备的电极，活性物质不易剥落，导电基底用于导体导电，降低电极整体阻值，提高电子利用率。现有技术中，导电基底一般为：泡沫铜、泡沫镍、泡沫钴、泡沫银、碳纤维布、铜箔、铝箔、镍箔、铁箔等。
[0004]现有技术中，制备电极一般是通过将反应釜内衬直接改装成可导电基底斜躺在反应釜底部的固定架，虽然可以在导电基底上原位生长活性物质，但会导致原位基底的正反面生长活性物质不均匀，并且该反应釜内衬功能单一，只能用来做导电基底支撑固定的一种实验，是资源的严重浪费。而且由于反应釜面积有限，得到的原位基底电极数量有限，严重浪费药品和增加实验成本。

技术实现思路

[0005](一)本技术所要解决的问题是：反应产物受重力影响，在反应釜底部堆积，同时浪费药品，增加实验成本。
[0006](二)技术方案
[0007]本技术提供的，一种台架，用于反应釜内导电基底的原位生长反应，包括：架体和固定件；
[0008]所述架体包括安装部，所述安装部与反应釜内壁连接；
[0009]所述固定件一端与所述安装部连接，另一端悬挂有导电基底。
[0010]进一步的，所述安装部包括至少一个安装件，每个所述安装件上设有至少一个所述固定件。
[0011]进一步的，所述架体还包括至少一个连接件；
[0012]所述连接件一端与所述固定件连接，另一端与所述安装件连接，且所述连接件与所述固定件一一对应。
[0013]进一步的，所述台架还包括支撑部；
[0014]所述支撑部一端与所述安装部连接，另一端与反应釜内壁连接。
[0015]进一步的，所述支撑部包括支撑件和支撑框；
[0016]所述支撑框与反应釜的底壁连接；
[0017]所述支撑件一端与所述支撑框连接，另一端与所述安装件连接。
[0018]进一步的，所述安装部还包括安装框；
[0019]所述安装件为杆状结构，所述安装件设于所述安装框内，且每个所述安装件的两端均与所述安装框连接。
[0020]进一步的，所述支撑部包括多个所述支撑件；
[0021]所述支撑件为杆状结构，多个所述支撑件一端与所述支撑框连接；另一端与所述安装框连接，且多个所述支撑件之间平行。
[0022]进一步的，所述固定件一端与连接件连接，另一端设有用于悬挂导电基底的弯钩。
[0023]进一步的，所述导电基底一端悬挂于所述固定件，另一端与反应釜底壁之间的距离大于或等于一厘米。
[0024]本技术另一技术实施例提供了一种反应釜，包括内衬和安装架，所述安装架为上述任一实施例所述的台架；
[0025]所述内衬设于所述反应釜内，所述台架与所述内衬的内壁可拆卸连接。
[0026]本技术的有益效果：本技术提供了一种台架，用于反应釜内导电基底的原位生长反应，包括：架体和固定件；所述架体包括安装部，所述安装部一端与反应釜内壁连接；所述固定件一端与所述安装部连接，另一端悬挂有导电基底。
[0027]通过悬挂的方式固定导电基底，使所述导电基底悬空，可使导电基底与反应母液充分接触，使得原位生长反应发生更彻底，反应产物在基底表面生长均匀，解决重力产物堆积影响均匀度的影响。同时最大化利用空间，导电基底通过悬挂的方式，可以节约空间，实现同时挂设多个导电基底，使得反应母液的利用率最大化，节约成本。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0029]图1为本技术实施例提供的台架结构示意图；
[0030]图2为本技术实施例提供的导电基底安装结构示意图；
[0031]图3为本技术实施例提供的台架和反应釜内衬结构示意图；
[0032]图4为本技术实施例提供的台架的另一种结构示意图。
[0033]图标：1
‑
架体；11
‑
支撑件；12
‑
安装件；13
‑
安装框；14
‑
连接件；15
‑
支撑框；
[0034]2‑
固定件；
[0035]31
‑
内衬；32
‑
内衬盖；
[0036]4‑
导电基底。
具体实施方式
[0037]下面将结合实施例对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0038]需要说明的是，在本技术的描述中，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0039]需要说明的是，在本技术的描述中，术语“连接”和“安装”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介相连；可以是机械连接，也可以是电连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0040]如图1至图4所示，本技术一个实施例提供了一种台架，用于反应釜内导电基底4的原位生长反应，包括：架体1和固定件2；所述架体1包括安装部，所述安装部与反应釜内壁连接；所述固定件2一端与所述安装部连接，另一端悬挂有导电基底4。
[0041]本实施例中，台架应用于密封恒温恒压的水热或溶剂热环境中，在导电基底4上进行原位生长反应。其中，原位生长是一种制备复合材料的新方法，将不同元素或化合物之间在一定条件下发生化学反应，而在金属基体内生成一种或几种陶瓷相颗粒，以达到改善单一金属合金性能的目的。所述架体1安装在反应釜的内衬31中，再通过向内衬31中注入本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种台架，用于反应釜内导电基底(4)的原位生长反应，其特征在于，包括：架体(1)和固定件(2)；所述架体(1)包括安装部，所述安装部与反应釜内壁连接；所述固定件(2)一端与所述安装部连接，另一端悬挂有导电基底(4)。2.根据权利要求1所述的一种台架，其特征在于，所述安装部包括至少一个安装件(12)，每个所述安装件(12)上设有至少一个所述固定件(2)。3.根据权利要求2所述的一种台架，其特征在于，所述架体(1)还包括至少一个连接件(14)；所述连接件(14)一端与所述固定件(2)连接，另一端与所述安装件(12)连接，且所述连接件(14)与所述固定件(2)一一对应。4.根据权利要求2所述的一种台架，其特征在于，所述台架还包括支撑部；所述支撑部一端与所述安装部连接，另一端与反应釜内壁连接。5.根据权利要求4所述的一种台架，其特征在于，所述支撑部包括支撑件(11)和支撑框(15)；所述支撑框(15)与反应釜的底壁连接；所述支撑件(11)一端与所述支撑框(15)连接，另一端与所述安装件(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘平平，陈武峰，张晓平，
申请(专利权)人：昂星新型碳材料常州有限公司，
类型：新型
国别省市：