【技术实现步骤摘要】
一种多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元及电力调控方法
[0001]本专利技术涉及信息存储领域,特别是涉及一种多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元及电力调控方法。
技术介绍
[0002]基于电容结构的铁电存储器利用铁电材料的自发极化特性进行数据存储,具有抗辐射、耐疲劳、保持性好等优点,在航天器、飞机黑匣子、高铁等方面具有重要的应用。但是,基于电容结构的铁电存储器在数据读取的过程中,经常涉及到部分存储单元中极化翻转的现象,会破坏存储单元中已经写入的数据,为保证数据的再次可读性,还需要进行再写入的操作。这种模式极大地增加了器件单元的体积和电路复杂程度,不利于器件的小型化、高密度存储,也限制了存储、读取速度的提高。事实上,铁电材料除了可以利用材料自身的剩余极化来进行数据存储以外,还可以利用铁电材料中特殊的畴结构来进行数据存储。畴就是铁电材料中自发极化取向一致的区域,而畴结构就是铁电材料中畴的构成情况。在铁电材料中存在一种特殊的电畴结构,这种电畴结构内部的畴并不是的自发极化一致的,而是形成类似于涡旋的特殊结构,这类特殊的电畴结构被称为铁电涡旋畴 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元,其特征在于,由下往上包括依次设置的衬底、过渡层、下电极、铁电层、介电和铁电周期性多层复合薄膜层和上电极。2.根据权利要求1所述的多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元,其特征在于,过渡层、下电极、铁电层、介电和铁电周期性多层复合薄膜层为外延生长;过渡层的厚度为1~200 nm,下电极的厚度为1~30 nm,过渡层与下电极的厚度之比为1:1~10:1。3.根据权利要求1所述的多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元,其特征在于,所述下电极与所述铁电层的厚度为1:1~20:1。4.根据权利要求1所述的多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元,其特征在于,上电极与下电极的厚度比值为1:1~10:1。5.根据权利要求1所述的多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元,其特征在于,所述介电和铁电周期性多层复合薄膜层由n组组合膜复合而成,n大于或者等于3;每组组合膜为由下至上设置的介电膜、铁电膜。6.根据权利要求5所述的多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元,其特征在于,介电膜的厚度是1 nm~100 nm,铁电膜的厚度是 1 nm~5 nm,介电膜与铁电膜的厚度之比为1:10~20:1。7.根据权利要求6所述的多涡旋铁电畴的多逻辑态存储单元,其特征在于,过渡层是钛酸锶、钛酸锶钡、锆钛酸锶、钕掺杂钛酸锶中的任意一种;下电极是钌酸锶、钕掺杂钛酸锶、镧锶锰氧中的任意一种;铁电层是钛酸铅、锆掺杂钛酸铅、钛酸钡、锶掺杂钛酸钡中的任意一种...
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