【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及与活动磁性媒体一起使用的磁转换器(磁头)领域，更具体地说，涉及制造面对数据存储系统活动媒体的转换器的、包括空气轴承表面在内的滑块表面上衬垫的方法。
技术介绍
图1中绘制的是用现有方法制造的典型的磁头与磁盘系统。在运行中，磁转换器20在磁盘16上方扫描时为悬架13所支承。通常被称为磁头或滑块的这种磁转换器包括完成记录磁转换(记录头23)和读出磁转换(读出头12)任务的组件。进出读出头12和记录头23的电信号经安装于或嵌入悬架13的传导分支(引线)14传输。一般有两对电接触片(未显示)，分别用于读出头12和记录头23。电线或引线14连接于这两对电接触片并布于悬架内通到悬臂电子设备(未显示)。磁盘16安装于主轴18上，所述主轴为主轴马达24所驱动，从而使磁盘16旋转。磁盘16包括基底26，在其上沉积多层薄膜。薄膜21包含铁磁材料，写出头23把包括编码信息的磁转换记录于此铁磁材料中。读出头12当磁盘在磁头20的空气轴承表面下旋转时读取转变来的磁转换。在典型的制造薄膜磁转换器的过程中，在一个晶片上形成许多转换器。在基本结构完成后，把晶片切分为四分之一或多行...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制造磁转换器的滑块上衬垫的方法，包括以下步骤形成包括磁转换器的一个滑块主体；形成在光致抗蚀剂中的空白处，以限定在滑块主体上的衬垫的位置和形状，所述空白处有侧壁；在滑块主体上沉积衬垫层，所述衬垫层在所述空白处的侧壁上形成围栏状结构并具有一个表面；各向异性地沉积一个掩膜层，所述侧壁上的围栏状结构上的掩膜层比衬垫层表面上的掩膜层薄；为了除掉所述空白处以外的衬垫层和掩膜层，除去所述光致抗蚀材料；通过灰化从衬垫层上除去围栏状结构；除去掩膜层。2.根据权利要求1的方法，其特征在于还包括在形成所述空白处之后和沉积所述衬垫层之前各向异性地沉积粘结层或种子层这一步骤，在所述空白处侧壁上的粘结层或种子层比所述空白处底部表面上的粘结层或种子层薄。3.根据权利要求2的方法，其特征是，所述粘结层或种子层是一种形成碳化物的材料。4.根据权利要求2的方法，其特征是，所述粘结层或种子层是硅。5.根据权利要求1的方法，其特征是，各向异性地沉积掩膜层这一步骤还包括用离子束在基本与所述衬垫层表面垂直的方向沉积所述掩膜层。6.根据权利要求1的方法，其特征是，所述除去光致抗蚀材料这一步骤包括使用机械研磨。7.根据权利要求1的方法，其特征是，所述除去光致抗蚀材料这一步包括喷苏打。8.根据权利要求1的方法，其特征是，所述除去光致抗蚀材料这一步骤包括溶液擦洗。9.根据权利要求1的方法，其特征是，所述从衬垫层上除去围栏状结构这一步还包括把所述围栏状结构暴露于含氧等离子区。10.根据权利要求1的方法。其特征是，所述衬垫层是金刚石类碳。11.根据权利要求1的方法。其特征是，所述掩膜层是能形成钝化氧化物的材料。12.根据权利要求1的方法，其特征是，所述各向异性地沉积掩膜层这一步骤还包括使用偏压溅射方法在基本与所述衬垫层表面垂直的方向上沉积所述掩膜层。13.一种制造磁转换器的滑块上衬垫的方法，这种方法包括以下步骤形成包括磁转换器的一个滑块主体；在滑块主体的表面上沉积光致抗蚀材料；在所述光致抗蚀剂内制出空白处，以限定衬垫的位置和形状；在所述光致抗蚀剂和空白处上垂直沉积粘结层或种子层；在所述粘结层上沉积衬垫层，所述衬垫层包含暴露于氧等离子体时挥发的第一材料；垂直沉积掩膜层，所述掩膜层包含暴露于氧时能形成钝化氧化物的第二材料；为了除掉所述空白处以外的粘结层、衬垫层和掩膜层，除...
【专利技术属性】
技术研发人员：德特勒夫·加多，黄成一，卢恩卿，师宁，
申请(专利权)人：日立环球储存科技荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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