磁记录介质及其制造方法以及磁记录装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及磁记录介质及其制造方法及磁记录装置。本发明专利技术提供一种具有更优异的磁特性并且介质噪声低的垂直磁记录方式的磁记录介质及其制造方法以及磁记录装置。一种垂直磁记录方式的磁记录介质，包括由非磁性材料形成的基板，由软磁性材料形成、并形成在该基板上的软磁性衬里层，形成在该软磁性衬里层上的底层，及由以含有氧化物的ＣｏＰｔＣｒ为主体的合金磁性材料形成的、并形成在该底层上的记录层，其特征在于，记录层由氧化物含有率不同的２个以上磁性层构成，构成该记录层的２个以上磁性层当中，设置在最靠近该底层一侧的磁性层的氧化物含有率是该记录层内最高的。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及磁记录介质及其制造方法以及磁记录装置，特别是涉及适合高密度记录的垂直磁记录方式的磁记录介质及其制造方法以及磁记录装置。
技术介绍
近年来，信息化社会取得了令人瞩目的发展，不仅是文字信息，声音和图像信息也可以进行高速处理。作为可以高速处理这些信息的装置，安装在计算机(computer)等上的磁记录装置是其中之一。目前，在这种磁记录装置中，正在进行增大记录密度和实现小型化方面的开发。在典型的磁记录装置中，多个磁盘(disk)可旋转地安装在心轴(spindle)上。各磁盘由基板和形成在基板上的磁性膜(记录层)构成，信息的记录是通过在记录层上形成具有特定磁化方向的磁畴来进行。目前，记录在磁盘记录层上的磁化方向是记录层的面内方向，称为面内磁记录方式。面内磁记录方式的磁记录介质的高密度记录可通过减小记录层的膜厚度，使构成记录层的磁性晶粒的粒径微小化，并减小各磁性粒子间的磁相互作用来实现。但是，由于晶粒的微小化和各晶粒粒子间磁相互作用的减小，产生所记录的凹槽(pit)(磁标记(mark))的磁化热稳定性降低的问题。为解决上述面内磁记录方式的问题而提出的方案是垂直磁记录方式。在该方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质，属于垂直磁记录方式的磁记录介质，其特征在于，它包括由非磁性材料形成的基板，由软磁性材料形成、并形成在该基板上的软磁性衬里层，形成在该软磁性衬里层上的底层，及由以含有氧化物的ＣｏＰｔＣｒ为主体的合金磁性材料形成、并形成在该底层上的记录层；该记录层由氧化物含有率不同的２个以上的磁性层构成，构成该记录层的２个以上的磁性层当中，设置在最靠近该底层一侧的磁性层的该氧化物含有率是该记录层内最高的。

【技术特征摘要】
JP 2003-2-7 2003-0309051.一种磁记录介质，属于垂直磁记录方式的磁记录介质，其特征在于，它包括由非磁性材料形成的基板，由软磁性材料形成、并形成在该基板上的软磁性衬里层，形成在该软磁性衬里层上的底层，及由以含有氧化物的CoPtCr为主体的合金磁性材料形成、并形成在该底层上的记录层；该记录层由氧化物含有率不同的2个以上的磁性层构成，构成该记录层的2个以上的磁性层当中，设置在最靠近该底层一侧的磁性层的该氧化物含有率是该记录层内最高的。2.如权利要求1所述的磁记录介质，其特征在于，构成上述记录层的2个以上磁性层按照从上述底层一侧上述氧化物含有率高的顺序层叠。3.如权利要求1或2所述的磁记录介质，其特征在于，上述记录层与上述底层相接。4.如权利要求1～3中任何一项所述的磁记录介质，其特征在于，构成上述记录层的2个以上磁性层的氧化物含有率分别为5～20mol％。5.如权利要求4所述的磁记录介质，其特征在于，上述记录层由第1记录层和第2记录层构成，第1记录层配置在上述底层一侧，第1记录层中的氧化物含有率A1和第2记录层的氧化物含有率A2之间的关系为5mol％≤A2＜12mol％≤A1≤20mol％。6.如权利要求1～5中任何一项所述的磁记录介质，其特征在于，上述记录层中所含的氧化物为Si的氧化物。7.如权利要求1～6中任何一项所述的磁记录介质，其特征在于，上述记录层的膜厚度为8～20nm。8.一种磁记录介质的制造方法，其特征在于，它包括在基板上形成软磁性衬里层...

【专利技术属性】
技术研发人员：神田哲典，山中英明，藤田盐地，松沼悟，
申请(专利权)人：日立麦克赛尔株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]