当前位置: 首页 > 专利查询>TDK株式会社专利>正文

光记录材料、光记录材料溶液和光记录介质及其制造方法技术

技术编号:3055931 阅读:119 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及含有下述通式(1)表示的阳离子和偶氮化合物与金属的螯合物的光记录材料。式中,R↑[1]~R↑[4]分别独立地表示碳原子数为1~4的烷基或可以具有取代基的苄基,R↑[5]和R↑[6]分别独立地表示可以具有取代基的烷基,R↑[7]表示氢原子,Q↑[1]和Q↑[2]分别独立地表示构成可以具有取代基的芳香族环的原子群。R↑[1]~R↑[4]中的至少一个是可以具有取代基的苄基,R↑[5]和R↑[6]中的至少一个碳原子数在5以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
光记录介质通常是经过将在溶剂中溶解有含有色素的光记录材料的光记录材料溶液涂布在基板上、对基板上的光记录材料溶液进行干燥的工序而制造的。在光记录介质中,因为对记录密度有进一步高密度化的需求,因此在推进着其记录和再现光的短波长化。例如CD-R的现行记录、再现光波长为780nm,而在下一代CD-R或DVD-R中,波长缩短到635~680nm。为了与这类短波长的光对应,光记录介质使用的色素目前已知有花青(cyanine)系化合物等(日本特开2003-231359号公报)。除上述的短波长化以外,对应着也要求光记录介质的记录速度的高速化。为了实现高速化,优选使用灵敏度更高的色素,但随着色素的高灵敏度化,有再现信号的时间方向的摆动(抖动)增加、光稳定性(耐光性)降低的倾向。于是,在今后进一步的高速化中,对现有的色素,难以保持同时充分满足良好的灵敏度、抖动和光稳定性的水平。除上述要求的特性以外,还要求光记录材料,在为了制造光记录介质时使用而以光记录材料溶液的状态保存时,尽可能地长时间抑制来自光记录材料的结晶的析出。在将光记录材料溶解于溶剂中,配置光记录材料溶液后,如果直到产生结晶的析出的时间短,使得调制的光记录材料溶液的量必然变少,生产性降低。此外,也难以循环使用光记录材料溶液。再者,在光记录材料溶液中即使只析出少量的结晶,得到的光记录介质中也会产生来自结晶的微小缺陷,光记录介质的制造工序中的成品率显著降低。
技术实现思路
本专利技术即是考虑到上述实际情况而完成的专利技术,本专利技术的目的在于提供一种相对于高速的记录速度,显示出充分的灵敏度、抖动和光稳定性,并抑制光记录材料溶液中的结晶化的光记录材料。为了解决上述课题,本专利技术的光记录材料含有下述通式(1)表示的阳离子、偶氮化合物与金属的螯合物,且在通过光的照射可记录信息的光记录介质中使用。 式中,R1、R2、R3和R4分别独立地表示碳原子数为1~4的烷基或可以具有取代基的苄基,R5和R6分别独立地表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,R7表示氢原子、卤原子、氰基、可以具有取代基的烷基或也可以具有取代基的芳基,Q1和Q2分别独立地表示构成可以具有取代基的芳香族环的原子群。其中,R1、R2、R3和R4中的至少一个是可以具有取代基的苄基,R1和R2以及R3和R4可分别相互结合形成环状结构,R5和R6中的至少一个是可以具有取代基的碳原子数为5以上的烷基或可以具有取代基的碳原子数为5以上的芳基。上述本专利技术的光记录材料通过组合上述特定的化合物,对应于高速的记录速度,显示出充分的灵敏度、抖动和光稳定性,并可抑制光记录材料溶液中的结晶化。通式(1)所表示的阳离子,是在与平衡离子成盐的状态下,构成被称为所谓花青系色素的色素的阳离子。本专利技术人发现通过组合使用偶氮化合物与金属的螯合物和在特定位置具有苄基的花青系阳离子,得到对应于高速的记录速度,显示出充分的灵敏度、抖动和光稳定性的光记录材料。而且,本专利技术人还发现在这样的组合中,在花青系的阳离子中,用碳原子数5以上的烷基或芳基取代氮原子形成的物质,可长时间充分地抑制光记录材料溶液中的结晶析出。本专利技术的光记录材料溶液是将上述本专利技术的光记录材料溶解在含有氟化醇的溶剂中的溶液。在光记录介质的制造中,根据适于涂布在聚碳酸酯基板上等情况,优选使用将氟化醇作为溶剂的光记录材料溶液。于是,在将含有花青系的阳离子和螯合物的光记录材料溶解于氟化醇中的光记录材料溶液中,通过使阳离子形成具有上述特定取代基的物质,可长时间充分抑制结晶的析出。本专利技术的光记录介质的制造方法包括在基板上形成由上述本专利技术的光记录材料溶液形成的溶液层的工序;除去该溶液层中的氟化醇、形成含有光记录材料的记录层的工序。该光记录介质的制造方法,通过使用上述本专利技术的光记录材料溶液,可以以充分高的生产效率及高成品率制造相对于高速的记录速度,显示出充分的灵敏度、抖动及光稳定性的光记录介质。本专利技术的光记录介质包括含有上述本专利技术的光记录材料的记录层。通过使得记录层含有上述本专利技术的光记录材料,该光记录介质相对高速的记录速度显示出充分的灵敏度、抖动及光稳定性。其中,当本专利技术的光记录介质例如通过上述本专利技术的光记录介质的制造方法得到时,其记录层含有氟化醇。附图说明图1是表示本专利技术的光记录介质的光记录盘的一实施方式的局部剖面图。图2是表示本专利技术的光记录介质的光记录盘的一实施方式的局部剖面图。具体实施例方式以下,详细地说明本专利技术优选的实施方式。但本专利技术并不限定于以下的实施方式。(光记录材料)本专利技术的光记录材料包括用上述通式(1)表示的阳离子(以下有时也称为“花青色素阳离子”)、偶氮化合物与金属的螯合物。这些花青色素阳离子和螯合物即使各自单独也可起到作为用于光记录的色素的作用,但在本专利技术中,将这些组合使用。通式中,R1、R2、R3和R4分别独立地表示碳原子数1~4的烷基或可以具有取代基的苄基,R1、R2、R3和R4中的至少一个是可以具有取代基的苄基。此外,R1和R2、R3和R4可以分别相互结合形成环状结构。当R1、R2、R3或R4是碳原子数1~4的烷基时,优选为甲基、乙基或正丁基。此外,当R1、R2、R3或R4是也可具有取代基的苄基时,优选为无取代的苄基、或用甲基或卤原子取代苯基的苄基。当R1和R2以及R3和R4相互结合形成环状结构时,优选形成环丙烷环、环丁烷环、环戊烷环或环己烷环。R5和R6分别独立地表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,R5和R6中的至少一方是可以具有取代基的碳原子数5以上的烷基或可以具有取代基的碳原子数5以上的芳基。为了极大的增强光记录材料溶液中的结晶析出抑制的效果,特别优选R5和R6中的至少一个为碳原子数5以上的烷基。只要不显著损害作为光记录材料所要求的耐热性等的特性,可适宜决定R5和R6的碳原子数的上限,通常优选为R5和R6中至少一方是可以具有取代基的碳原子数5~8的烷基或可以具有取代基的碳原子数5~8的芳基。更具体地,R5和R6中至少一方优选为正戊基、异戊基、新戊基、正己基、异己基、正庚基、5-甲基己基、正辛基或3,4-二甲基戊基。R5和R6中,作为不是可以具有取代基的碳原子数5以上的烷基或可以具有取代基的碳原子数5以上的芳基的基,优选为可以具有取代基的碳原子数1~4的烷基,更优选为甲基或乙基。R7表示氢原子、卤原子、氰基、可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基。R7优选为氢原子、卤原子、碳原子数1~4的烷基、氰基、可以具有取代基的苯基或可以具有取代基的苄基,其中特别优选为氢原子。Q1和Q2分别独立地表示构成可以具有取代基的芳香族环的原子群。Q1和Q2优选为构成可以具有取代基的苯环或可以具有取代基的萘环的原子群。此外,作为具有该Q1或Q2的芳香族环的取代基,优选为甲基、乙基、异丙基、氟基、氯基、溴基、甲氧基、硝基或氰基。花青色素阳离子优选为用下述通式(1a)、(1b)、(1c)、(1d)、(1e)、(1f)、(1g)、(1h)、(1i)或(1j)表示的阳离子。 通式(1a)~(1j)中,R12、R13和R14分别独立地表示用下述通式(10)表示的苄基或碳原子数1~4的烷基,X1和X2分别独立地表示氢原子、卤原子或碳原子数1~4的烷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光记录材料,含有:用下述通式(1)表示的阳离子,和偶氮化合物与金属的螯合物,在通过光的照射可进行信息记录的光记录介质中使用,其中,***(1)式中,R↑[1]、R↑[2]、R↑[3]和R↑[4 ]分别独立地表示碳原子数为1~4的烷基或可以具有取代基的苄基,R↑[5]和R↑[6]分别独立地表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,R↑[7]表示氢原子、卤原子、氰基、可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,Q↑[1]和Q↑[2]分别独立地表示构成可以具有取代基的芳香族环的原子群,其中,R↑[1]、R↑[2]、R↑[3]和R↑[4]中的至少一个是可以具有取代基的苄基,R↑[1]和R↑[2]、以及R↑[3]和R↑[4]可分别相互结合形成环状结构,R↑[5] 和R↑[6]中的至少一个是可以具有取代基的碳原子数5以上的烷基或可以具有取代基的碳原子5以上的芳基。

【技术特征摘要】
JP 2005-4-28 2005-1325491.一种光记录材料,含有用下述通式(1)表示的阳离子,和偶氮化合物与金属的螯合物,在通过光的照射可进行信息记录的光记录介质中使用,其中, 式中,R1、R2、R3和R4分别独立地表示碳原子数为1~4的烷基或可以具有取代基的苄基,R5和R6分别独立地表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,R7表示氢原子、卤原子、氰基、可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,Q1和Q2分别独立地表示构成可以具有取代基的芳香族环的原子群,其中,R1、R2、R3和R4中的至少一个是可以具有取代...

【专利技术属性】
技术研发人员:新海正博田边顺志门田敦志
申请(专利权)人:TDK株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利