具有抗反射涂层的玻璃制品制造技术

玻璃制品包括玻璃基材与在玻璃基材上方形成的涂层。涂层包括沉积在玻璃基材上方的第一抗反射层，该第一层具有1.6以上的折射指数和小于λ/(4*n)的厚度。第二抗反射层沉积在第一抗反射层上方，该第二抗反射层的厚度大于第一抗反射层的厚度和折射指数小于第一抗反射层的折射指数。玻璃制品表现出小于6.0％的总可见光反射比。可见光反射比。可见光反射比。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有抗反射涂层的玻璃制品
[0001]专利技术背景
[0002]本专利技术涉及涂覆的玻璃制品。更具体地，专利技术涉及具有抗反射涂层的玻璃制品。
[0003]窗和触控屏电子器件常由玻璃制成。来自窗或触控屏器件中玻璃的过度反射可为不理想的。提供这样的玻璃将是有利的：其表现出低可见光反射和高可见光透射以便改进窗的性能或器件的可读性和可用性。

技术实现思路

[0004]玻璃制品包括玻璃基材与在玻璃基材上方形成的涂层。涂层包括沉积在玻璃基材上方的第一抗反射层，该第一层具有1.6以上的折射指数和小于λ/(4*n)的厚度。第二抗反射层沉积在第一抗反射层上方，该第二抗反射层的厚度大于第一抗反射层的厚度和折射指数小于第一抗反射层的折射指数。玻璃制品表现出小于6.0％的总可见光反射比。
附图说明
[0005]当根据附图考虑时，从以下详细描述，本专利技术的以上以及其它优点将对本领域技术人员变得显而易见，其中：
[0006]图1是按照本专利技术的玻璃制品的实施方案的截面图；和
[0007]图2是实施按照本专利技术实施方案的浮法玻璃制造方法的装置垂直截面的示意图。
具体实施方式
[0008]应理解，本专利技术可采取各种替代的取向和步骤顺序，除非有明确地相反规定。还应理解，附图中说明的和在以下说明书中描述的具体层、制品、方法和工艺仅是本专利技术构思的示例性实施方案。因此，不认为与所公开的实施方案相关的具体尺寸、方向或其它物理特性是限制性的，除非另外明确说明。
[0009]在一实施方案中，提供了玻璃制品10。将在以下参考图1
‑
2描述玻璃制品10的实施方案。玻璃制品10的实施方案可用作单个玻璃片。在一种这样的实施方案中，玻璃制品10用作窗组件的一部分。在另一实施方案中，玻璃制品10可用作显示组件。然而应理解，可在其它建筑、电子、住宅、商业、光伏、汽车和航空应用中利用玻璃制品10的实施方案。
[0010]玻璃制品10包含玻璃基材12。在例如图1和2中说明玻璃基材12的实施方案。玻璃基材12的厚度可在实施方案间变化。在一些实施方案中，玻璃基材12不限于特定的厚度。然而，在某些实施方案中，玻璃基材12可具有20.0毫米(mm)以下的厚度。优选地，玻璃基材12可具有0.5
‑
20.0mm的厚度。在一些实施方案中，玻璃基材12可具有2.0
‑
20.0mm的厚度。
[0011]玻璃基材12的透明度或吸收特性可在玻璃制品10的实施方案间变化。例如，在一些实施方案中，玻璃基材12是透明的。在玻璃基材12是透明的实施方案中，玻璃基材12可表现出在7.0％和9.0％之间的总可见光反射比(光源D65，十度观察角)。在其它实施方案中，可优选的是，玻璃基材12具有低的铁含量，这允许玻璃基材12表现出高可见光透射率。在一些实施方案中，玻璃基材12可包含0.15重量％Fe2O3(总铁)或更少。如本文所使用的，措辞
“
总铁”是指在玻璃中含有的铁氧化物(FeO+Fe2O3)的总重量。更优选地，玻璃基材12包含0.1重量％Fe2O3(总铁)或更少，并且甚至更优选0.02重量％Fe2O3(总铁)或更少。在一实施方案中，玻璃基材12可包含0.012重量％Fe2O3(总铁)。在这些实施方案中，玻璃基材12可表现出在CIELAB色度系统(光源C，10度观察角)中91％以上的总可见光透射率。此外，玻璃基材12的颜色可在实施方案间变化。在一实施方案中，玻璃基材12可基本上透明。在其它实施方案中，玻璃基材12可为有色的或着色的。
[0012]玻璃基材12可具有本领域已知的常规玻璃组成。然而，优选的是玻璃基材12是钠钙硅玻璃。当玻璃基材12是钠钙硅玻璃时，玻璃基材12可包含68
‑
74重量％SiO2、0
‑
3重量％Al2O3、0
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6重量％MgO、5
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14重量％CaO、10
‑
16重量％Na2O、0
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2重量％SO3、0.005
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2重量％Fe2O3和0
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5重量％K2O。玻璃还可含有其它添加剂例如精炼剂，其将通常以至多2％的量存在。在这些实施方案中，玻璃基材12可为浮法玻璃带。在玻璃基材12是浮法玻璃带的一部分的实施方案中，玻璃基材12可为透明的浮法玻璃。在这种实施方案的一些中，透明的浮法玻璃可意指具有如在相关标准例如BS EN 572
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1:2012+A1:2016和BS EN 572
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2:2012中定义的组成的玻璃。然而，玻璃基材12可具有另一组成，例如硼硅酸盐或铝硅酸盐组成。
[0013]涂层14在玻璃基材12上方形成。涂层14具有抗反射变化性，因为它能够使玻璃制品10表现出可见光反射率，其小于由玻璃基材12单独表现出的可见光反射率。有利地，还构造涂层14以提供比已知设计通过玻璃制品10的更大可见光透射率。
[0014]优选地，涂层14在玻璃基材12的第一主表面16上直接形成。当涂层14在玻璃基材12上直接形成时，在涂层14和玻璃基材12之间没有中介涂层。玻璃基材12的第二主表面18和玻璃制品10的相对侧可为未涂覆的。涂层14是抗反射的，因为它能够使玻璃制品10表现出可见光反射率，其小于由玻璃基材12表现出的可见光反射率。
[0015]在一实施方案中，涂层14是热解的。如本文使用的，术语“热解的”可指代与玻璃基材或另一层化学结合的涂层或其层。优选地，涂层14在动态沉积条件下形成。在这些实施方案中，玻璃基材12在其上或上方形成涂层14时移动。优选地，当形成涂层14时，玻璃基材12以例如大于3.175m/min(125in/min)的预定速率移动。在一实施方案中，当形成涂层14时，玻璃基材12以在3.175m/min(125in/min)和12.7m/min(600in/min)之间的速率移动。在这些实施方案中，可与玻璃基材12的制造一起形成一个或多个涂覆层20
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26。优选地，使用公知的浮法玻璃制造工艺来制造玻璃基材12。
[0016]涂层14包含两个或更多个层，包括抗反射层24和26。优选地，涂层14包含三个或更多个层，包括阻挡层22和抗反射层24和26。在一些实施方案中，涂层14包含四个或更多个层，其中层20和22充当在玻璃基材12和抗反射层24和26之间的抑制虹彩中间层。在一实施方案中，涂层14可由四个层20、22、24和26组成。在该实施方案中，在层20、22、24、26之间没有中介层，和在第一层20和玻璃基材12之间没有(一个或多个)中介层。
[0017]因此，在一些实施方案中，涂层14包括在玻璃基材12上方沉积的第一抑制虹彩层20。更优选地，层20沉积在玻璃基材12的第一主表面16上方。在一实施方案中，层20直接沉积在玻璃基材12的第一主表面16上。当层20直接沉积在玻璃基材12的第一主表面16上时，在层20和玻璃基材12的第一主表面16之间没有中介层。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.玻璃制品，包含玻璃基材和在玻璃基材上方形成的涂层，其中涂层包含：沉积在玻璃基材上方的第一抗反射层，该第一层具有1.6以上的折射指数和小于λ/(4*n)的厚度；和沉积在第一抗反射层上方的第二抗反射层，该第二抗反射层的厚度大于第一抗反射层的厚度且折射指数小于第一抗反射层的折射指数；其中玻璃制品表现出小于6.0％的总可见光反射比。2.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中玻璃制品表现出5.5％以下、优选4.0％
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5.5％的总可见光反射比。3.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中玻璃制品表现出中性反射颜色。4.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层的折射指数为2.0以上、优选在2.1和2.5之间。5.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层包含氧化锡。6.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层是未掺杂的。7.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层的厚度小于70nm。8.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层的厚度在20nm以上和60nm以下之间。9.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层包含氧化锡并具有在20以上和50nm以下之间的厚度。10.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第一抗反射层包含氧化铌或氧化钽并具有在5nm以上且40nm以下之间的厚度。11.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层具有80nm以上、优选80nm以上且125nm以下、最优选80nm以上且110nm以下的厚度。12.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层的折射指数为1.6以下、优选为1.2
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1.6、更优选1.2
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1.5。13.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层包含二氧化硅。14.根据权利要求1所述的玻璃制品，其中第二抗反射层是玻璃制品的最外层。15.根据权利要求1所述的玻璃制品，还包含在玻璃基材和第一抗反射层之间的抑制...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：皮尔金顿集团有限公司，
类型：发明
国别省市：