【技术实现步骤摘要】
匀强磁场的产生方法、磁场线圈、装置、设备和存储介质
[0001]本申请涉及电磁场
,特别是涉及一种匀强磁场的产生方法、磁场线圈、装置、设备和存储介质。
技术介绍
[0002]磁场线圈是计量仪表等设备中的关键部件,磁场线圈产生的磁场的均匀性是衡量设备质量的重要指标。
[0003]传统方法中,可以通过弧形和直线段组成的线圈,在圆柱形空间中产生匀强磁场。但是,由于上述线圈中包含了直线段,使得该线圈所产生的匀强磁场的均匀性低。
技术实现思路
[0004]基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种匀强磁场的产生方法、磁场线圈、装置、设备和存储介质。
[0005]一种匀强磁场的产生方法,包括:
[0006]向绕制于圆柱面上的至少一个磁场线圈组注入电流;磁场线圈组包括沿圆柱面的径向方向对称布置的两个鞍形线圈,鞍形线圈由圆形或椭圆形线圈包围在圆柱面上,并在圆柱面的高度方向上伸缩而成;
[0007]通过至少一个磁场线圈组,在圆柱面的径向方向上产生匀强磁场。
[0008]在其中一个实施 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种匀强磁场的产生方法,其特征在于,所述方法包括:向绕制于圆柱面上的至少一个磁场线圈组注入电流;所述磁场线圈组包括沿所述圆柱面的径向方向对称布置的两个鞍形线圈,所述鞍形线圈由圆形或椭圆形线圈包围在所述圆柱面上,并在所述圆柱面的高度方向上伸缩而成;通过所述至少一个磁场线圈组,在所述圆柱面的径向方向上产生匀强磁场。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述至少一个磁场线圈组包括第一磁场线圈组和第二磁场线圈组;所述向绕制于圆柱面上的至少一个磁场线圈组注入电流,包括:向所述第一磁场线圈组和所述第二磁场线圈组分别注入电流;在所述圆柱面围成的空间区域中,所述第一磁场线圈组和所述第二磁场线圈组在同一个坐标点的磁场偏差之和小于预设阈值;所述磁场偏差为所述坐标点的磁感应强度与所述空间区域的中心位置的磁感应强度的差值。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:按照预设步长对鞍形线圈的曲线参数的取值范围进行遍历,获得多个备选鞍形线圈;在所述多个备选鞍形线圈中,搜索满足预设条件的第一磁场线圈组的鞍形线圈,以及第二磁场线圈组的鞍形线圈。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述在所述多个备选鞍形线圈中,搜索满足预设条件的第一磁场线圈组的鞍形线圈,以及第二磁场线圈组的鞍形线圈,包括:针对每个备选鞍形线圈,计算备选磁场线圈组在所述空间区域的目标坐标点处的备选磁场偏差;其中,所述备选磁场线圈组由两个所述备选鞍形线圈组成;根据所述预设阈值,在各所述备选磁场偏差中选择第一磁场偏差和第二磁场偏差;所述第一磁场偏差与所述第二磁场偏差的和小于所述预设阈值;将所述第一磁场偏差对应的备选鞍形线圈,确定为所述第一磁场线圈组的鞍形线圈,将所述第二磁场偏差对应的备选鞍形线圈,确定为所述第二磁场线圈组的鞍形线圈。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述预设阈值,在各所述备选磁场偏差中选择第一磁场偏差和第二磁场偏差,包括:根据所述预设阈值和预设绕线要求,在各所述备选磁场偏差中选择所述第一磁场偏差和所述第二磁场偏差;所述绕线要求包括所述第一磁场线圈组和所述第二磁场线圈组等高,或所述第一磁场线圈组和所述第二磁场线圈组周向相接。6.根据权利要求3
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5任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:根据所述圆柱面的几何参数以及预设的结构...
【专利技术属性】
技术研发人员:丛楠,杨仁福,
申请(专利权)人:北京量子信息科学研究院,
类型:发明
国别省市:
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