【技术实现步骤摘要】
本专利技术一般地涉及盘装置中所用的磁头滑块，具体地涉及这样的磁头 滑块它在其表面中具有凹陷部分以保持恒定的飞行特性。
技术介绍
磁盘装置越来越大的记录密度已经造成了需要减小磁盘与在磁盘上方 飞行的磁头之间的距离。为了减小磁头与磁盘之间的距离，就需要减小磁 头滑块的飞行高度，其中磁头安装在磁头滑块上。最近的磁盘装置的磁头滑块飞行高度减小到了 lOnm或更小。日本专利公开No,2004-55127 (对应于美国专利申请公开 No.2004/0012887)公开了一种用于磁盘装置的磁头滑块，该磁头滑块在其 表面中有凹陷部分(也称为槽)，用于调整飞行高度并保持恒定的飞 行特性。在磁盘旋转所产生的空气流沿凹陷部分经过时，产生了适当水平 的静压。通过这种静压，磁头滑块可以稳定地在磁盘上方飞行，同时保持 与磁盘相距预定距离。通常，润滑剂(例如PFPE (全氟聚醚)油)被涂敷到磁盘表面上以 减小磁头滑块的摩擦。润滑剂是具有较高粘度的液体，因此即使在磁盘以 高速旋转时也保持在磁盘表面上。即，磁头滑块在涂覆于磁盘上的润滑剂 涂层上方飞行。如果减小磁头滑块与磁盘之间的距离，则磁头滑块...
【技术保护点】
一种磁头滑块，设置成通过空气流而使磁头在记录介质上方飞行，所述磁头滑块包括：凹陷部分，位于面向所述记录介质的表面中；其中，所述凹陷部分被形成为这样的形状：所述形状使得不会形成由所述空气流造成的剪应力集中的区域。
【技术特征摘要】
JP 2007-3-19 2007-071639;JP 2006-12-28 2006-3541421.一种磁头滑块，设置成通过空气流而使磁头在记录介质上方飞行，所述磁头滑块包括凹陷部分，位于面向所述记录介质的表面中；其中，所述凹陷部分被形成为这样的形状所述形状使得不会形成由所述空气流造成的剪应力集中的区域。1. 一种磁头滑块，设置成通过空气流而使磁头在记录介质上方飞行， 所述磁头滑块包括凹陷部分，位于面向所述记录介质的表面中；其中，所述凹陷部分被形成为这样的形状所述形状使得不会形成由 所述空气流造成的剪应力集中的区域。2. —种磁头滑块，设置成通过空气流而使磁头在记录介质上方飞行， 所述磁头滑块包括凹陷部分，位于面向所述记录介质的表面中；突出部分，位于所述凹陷部分中，所述磁头滑块的每个侧面附近设有 一个所述突出部分；其中，所述凹陷部分和所述突出部分被形成为这样的形状所述形状 使得不会在所述突出部分与所述磁头滑块的后缘之间形成由所述空气流造 成的剪应力集中的区域。3. —种磁头滑块，设置成通过空气流而使磁头在记录介质上方飞行， 所述磁头滑块包括凹陷部分，位于面向所述记录介质的表面中；其中，所述凹陷部分包括具有第一深度的第一凹陷部分和具有第二深 度的第二凹陷部分，所述第二深度小于所述第一深度。4. 如权利要求3所述的磁头滑块，其中，所述第二凹陷部分围绕安装 磁头元件的第一突出部分形成。5. 如权利要求4所述的磁头滑块，其中，所述第二凹陷部分的底面在所述第一突出部分的后侧围绕所述第一突出部分周边的一半或多于一半。6. 如权利要求3所述的磁头滑块，其中，所述第二凹陷部分设置在所 述磁头滑块的后缘与各个第二突出部分之间，所述磁头滑块的每个侧面附 近形成一个所述第二突出部分。7. 如权利要求6所述的磁头滑块，其中，所述第二凹陷部分的底面在 所述第二突出部分的后侧围绕每个所述第二突出部分周边的一半或多于一 半。8. 如权利要求6所述的磁头滑块，其中，所述第二凹陷部分的所述底面的宽度从每个所述第二突出部分附近起向后增大。9. 如权利要求3所述的磁头滑块，其中，所述第二凹陷部分的底面限 定所述磁头滑块的后缘。10. 如权利要求3所述的磁头滑块，其中，所述第一凹陷部分与所述 第二凹陷部分之间形成斜坡。11. 如权利要求3所述的磁头滑块，其中，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：窪寺裕之，今村孝浩，渡边徹，千叶洋，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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