一种离子注入用多功能样品架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种离子注入用多功能样品架，包括密封盖，所述密封盖中安装有推拉杆，所述推拉杆一侧设置有螺旋测微器，所述推拉杆远离所述螺旋测微器一侧安装有可加工氮化硼陶瓷棒，所述可加工氮化硼陶瓷棒一侧安装有样品台，所述样品台上均匀分布有四个样品区，所述密封盖一侧安装有真空密封O型圈，所述推拉杆上方设置有束流测量线BNC接头。本实用新型专利技术所述的一种离子注入用多功能样品架，通过三个样品分段注入的设置，实现了样品在不停机情况下的离子注入；通过监控和样品的统一设置，监控了离子束注入的剂量，增加了离子注入的一致性；通过样品的多位设置，减少了停机更换，节省了资源，提高了实验效率。提高了实验效率。提高了实验效率。

【技术实现步骤摘要】
一种离子注入用多功能样品架


[0001]本技术属于离子注入领域，特别是涉及一种离子注入用多功能样品架。

技术介绍

[0002]离子注入是集成电路半导体工艺流程中非常重要的一项技术。需要将一定能量的离子沉积到基片表面或注入到基片里，涉及两项关键工艺技术参数。一项是载能离子束的能量，这是由离子注入设备决定的；第二项是离子束的注入剂量，与离子束流的强度密切相关。一般接收离子束的装置是法拉第筒，与之相连接的束流积分仪能精确地给出离子束流强度和束流通量。
[0003]在大型工业化离子注入机设备中，注入样品都是大尺寸的晶圆片，采用机械扫描、静电扫描或两者结合的混合扫描方式实现离子束的均匀注入，其本身的束流参数监控是独立的。而对于试验化小型注入机装置，结构紧凑化设计和“多快好省”的设计定位是很重要的设计理念。在传统的这类小型装置中，用于测量束流的法拉第筒和装载基片的样品架是分立的，一旦完成一个样品的注入试验，就必须关闭注入靶室的阀门，充入高纯氩气或氮气破坏真空，以完成取样和装新样的过程，这段时间里，离子束流被白白浪费掉。所以为解决上述技术问题，兼顾小本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离子注入用多功能样品架，其特征在于：包括密封盖(1)，所述密封盖(1)中安装有推拉杆(3)，所述推拉杆(3)一侧设置有螺旋测微器(4)，所述推拉杆(3)远离所述螺旋测微器(4)一侧安装有可加工氮化硼陶瓷棒(11)，所述可加工氮化硼陶瓷棒(11)一侧安装有样品台(5)，所述样品台(5)上均匀分布有四个样品区(501)，所述密封盖(1)一侧安装有真空密封O型圈(2)，所述推拉杆(3)上方设置有束流测量线BNC接头(...

【专利技术属性】
技术研发人员：王泽松，邹长伟，田灿鑫，刘贵昂，庄瑞雪，
申请(专利权)人：岭南师范学院，
类型：新型
国别省市：