基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统及方法技术方案

本发明专利技术提供了一种基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统及方法，该系统包括单频激光器、电光调制器、VIPA色散分光模块、光束分隔器件、探测器阵列和反馈控制模块；所述单频激光器产生的单频线偏振光输入至电光调制器，经电光调制后输出多频率复合光；多频率复合光输入色散分光模块，不同频率的边带光在空间上被分隔成间距为毫米量级的多个光束；间距为毫米量级的多个光束通过光束分隔器件将所需要的几种频率成分的光分离开，同时输入到探测器阵列中；探测器阵列将光强信号转化为电信号，输入至反馈控制模块中，通过反馈控制模块实现对电光调制深度的实时测控；所述色散分光模块包括准直器、柱透镜、虚拟成像相位阵列和聚焦透镜。透镜。透镜。

【技术实现步骤摘要】
基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统及方法


[0001]本专利技术涉及激光调制
，具体是一种基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统及方法。

技术介绍

[0002]电光调制器(EOM)是利用晶体电光效应工作的光学调制器，通过晶体折射率的变化引起光波特性变化，最终实现对输入光的相位、幅值、强度和偏振状态的控制。典型电光调制器，如相位调制器和强度调制器，均是通过对光学载波施加射频调制，进而在光频域内产生载波之外的等间隔边带，各边带之间的频率间隔等于调制信号的频率，且各边带功率大小关系符合既定的函数模型。理想情况下，如果EOM的半波电压一定，那么所加调制信号的电压幅值便决定了各光学频率成分的功率比值，即调制深度，这一规律在单边带调制下也成立。但由于单个EOM的半波电压都略有差别，且半波电压大小也会因环境存在漂移问题，因此器件的半波电压值并非恒定，恒定的电光调制功率并不能让调制深度保持不变，载波和边带的功率所占比重会发生波动。当面对一些载波与边带光强之比有严格要求的应用需求时，如原子干涉拉曼光的功率比值需要恒定来消除跃迁频率抖动误差，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统，其特征在于，包括单频激光器、电光调制器、VIPA色散分光模块、光束分隔器件、探测器阵列和反馈控制模块；所述单频激光器用于产生单频线偏振光，所述单频线偏振光输入至电光调制器，经电光调制后输出由载波和边带组成的多频率复合光；所述多频率复合光输入至色散分光模块，不同频率的边带光在空间上被分隔成间距为毫米量级的多个光束；间距为毫米量级的多个光束通过光束分隔器件将所需要的几种频率成分的光分离开，并同时分别输入至探测器阵列中；探测器阵列将光强信号转化为电信号，输入至反馈控制模块中，通过反馈控制模块实现对电光调制深度的实时测控；其中，所述VIPA色散分光模块包括准直器、柱透镜、虚拟成像相位阵列和聚焦透镜；经电光调制后输出的多频率复合光依次通过准直器、柱透镜、虚拟成像相位阵列和聚焦透镜后，将不同频率的边带光在空间上被分隔成毫米量级的多个光束。2.根据权利要求1所述的基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统，其特征在于，所述虚拟成像相位阵列由两块相互平行的光学镀膜平板组成；靠近入射光的平板为前面板，所述前面板的底部设有窗口区域，窗口区域涂有增透膜，非窗口区域涂有反射率为100％的反射膜；远离入射光的平板为后面板，后面板涂有反射率为95％～98％的部分透射膜。3.根据权利要求2所述的基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统，其特征在于，所述虚拟成像相位阵列与入射光之间有入射角，入射光通过虚拟成像相位阵列的窗口区域射入，经过多次来回反射，在后面板的透射侧产生多个不同输出角度的平行光束；不同输出角度的平行光束通过聚焦透镜在空间上被分隔成间距为毫米量级的多个光束。4.根据权利要求3所述的基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统，其特征在于，所述聚焦透镜与所述光束分隔器件之间的距离为聚焦透镜的一倍焦距。5.根据权利要求1所述的基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统，其特征在于，所述光束分隔器件包括光阑和分光棱镜；间距为毫米量级的多个光束先经过光阑将不需要的光束遮挡，再通过分光棱镜将所需要的几种频率成分的光分离开。6.根据权利要求5所述的基于VIPA标准具的电光调制深度实时测控系统，其特征在于，所述分光棱镜为刀锋棱镜；所述刀锋棱镜的两个反射镜面交汇...

【专利技术属性】
技术研发人员：王国超，杨俊，颜树华，朱凌晓，杨明月，王杰，王亚宁，贾爱爱，李期学，张旭，章欢开，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：