一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物制造技术

本发明专利技术属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物，按质量百分数之和为100%计，包括0.1

【技术实现步骤摘要】
一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物


[0001]本专利技术属于表面活性剂
，具体涉及一种用于OLED领域的化学品制剂，用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料的清洗。

技术介绍

[0002]在OLED显示器制造工艺中比较成熟的是OLED蒸镀技术。蒸镀技术需要精密的蒸镀设备，以及用于蒸镀的精细金属掩膜版(FMM)。FMM决定了OLED显示屏幕像素高低和尺寸大小，其通常由30
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50微米厚的invar合金刻蚀出图案后绑定到金属掩膜版框架上。坩埚具有纯度高、加热一致性好、优异的热导率和抗热震性等性能，且其化学惰性强，在高温下不易发生化学反应，因此广泛应用于OLED蒸镀设备中。在重复的蒸镀过程中，阴极材料氟化锂会在FMM和坩埚上沉积，造成堵塞与污染，严重影响后续蒸镀的效果。在生产时，坩埚和FMM都需要定期进行清洗，来确保其后续效能。
[0003]传统的坩埚和FMM上电极材料的清洗主要采用酸洗，其不仅具有很强的腐蚀性，而且产生的废酸难以处理，污染环境，造成了OLED显示器制备成本的提高。专利申请公布号CN本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物，其特征在于：按质量百分数之和为100%计，所述组合物中各组分及其含量为：0.1
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5%的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂，5
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20%无机强碱性物质，0.5
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20%有机助剂，0.1
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5%螯合剂，余量为高纯水；所述的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂选自结构为：表面活性剂中的至少一种，其中，n为2
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16之间的整数，R为甲基，乙基，正丙基，正丁基，正戊基中的一种。2.根据权利要求1所述的一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物，其特征在于：所述的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂的制备方法，包括如下步骤：1）将聚乙二醇1，环氧氯丙烷2，氢氧化钠按照摩尔比1:1.2:1加入到三口瓶中，加入50mL乙醇作为溶剂，40℃下反应10h，反应结束后，用水淬灭体系，用乙酸乙酯萃取，旋干溶剂后，用正己烷重结晶，得到白色固体缩水甘油醚3，其结构为： ，n为2
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16之间的整数；2）将缩水甘油醚3和N，N
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二甲基乙二胺4按照摩尔比2:1加入到含有10wt%氢氧化钠的乙醇溶液中，搅拌混合均匀并加热回流40h，待反应物冷却后，先抽滤除去无机盐，滤液减压蒸馏以脱除溶剂和未反应的N，N
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二甲基乙二胺原料，再用丙酮
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甲醇混合溶剂重结晶，得到中间体5，其结构式为：，n为2
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16之间的整数；3）将上述制得的中间体5，氯磺酸钠和氢氧化钠按照摩尔比1:2:1加入到反应瓶中，溶于50mL异丙醇
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水混合溶剂中并搅拌均匀，在45℃下，反应4h，随后升温至回流温度，继续反应60h，反应过程中需不断用饱和的碳酸钠溶液调节反应体系 pH=8
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【专利技术属性】
技术研发人员：刘小勇，李丛香，房龙翔，叶鑫煌，
申请(专利权)人：福建省佑达环保材料有限公司，
类型：发明
国别省市：