一种涂层红外发射率调控方法技术

本发明专利技术公开一种涂层红外发射率调控方法。将成膜树脂利用合适的有机溶剂稀释形成一个二元均相体系，并加入红外吸收材料进行喷涂初步得到红外吸收涂层。当通过调节外部温度和湿度以改变体系固化环境时，体系从热力学稳态变成非稳态，从而趋向于发生相分离以降低系统的自由能，形成高分子树脂富相和高分子树脂贫相，高分子树脂富相在固化过程中形成材料的孔壁，而高分子树脂贫相移除后留下的空间则在材料表面形成孔洞。涂层表面形成的孔隙具有与红外光波长相匹配的微米级孔洞，通过形成陷光效应有效提高涂层的红外吸收性能，从而获得高红外发射率涂层。外发射率涂层。外发射率涂层。

【技术实现步骤摘要】
一种涂层红外发射率调控方法


[0001]本专利技术涉及一种高红外发射率涂层的制备技术，具体涉及一种通过调控涂层表面多孔结构获得高红外发射率涂层的制备方法。

技术介绍

[0002]随着科技和工业的发展，具有高发射率的红外辐射材料的应用范围不断扩大，从最开始的红外干燥与加热已经逐步扩展应用到航天航空、工业窑炉、建筑涂层、冶金制造等各个领域。高发射率涂层作为一种具有红外辐射能力的新型耐热保护涂层，具有增大热辐射、强化传热的作用。可以应用到有发射率要求的仪器设备表面，对提高仪器设备的红外热源的辐出度具有明显效果。因此，高辐射涂层作为一种新型的多功能材料，在我国有着极其广泛的应用前景。然而，现有技术中，高红外发射率涂层的制备方法较为复杂，而且也很难通过工艺参数的改变来实现红外发射率调控。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种涂层红外发射率调控方法，其特征在于:制备涂层材料时，包括以下步骤：
[0004]1〕采用有机溶剂将成膜树脂稀释形成一个二元均相体系；
[0005]2〕向所述二元均相体系中加入红外吸收材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂层红外发射率调控方法，其特征在于:制备涂层材料时，包括以下步骤：1〕采用有机溶剂将成膜树脂稀释形成一个所述二元均相体系；2〕向所述二元均相体系中分别加入红外吸收材料，分散剂和固化剂，获得涂层材料；3〕向基材喷涂步骤2〕获得的涂层材料；4〕将喷涂有涂层材料的基材置于恒温恒湿条件下进行固化；通过调节温度和湿度，在固化过程中，涂层材料的二元均相体系发生相分离，富相在固化过程中形成材料的孔壁，贫相移除后留下的空间则在涂层表面形成孔洞，从而获得具有表面多孔结构的高红外发射率涂层。2.根据权利要求1所述的一种涂层红外发射率调控方法，其特征在于：步骤1〕中，成膜树脂与有机溶剂的重量比为：(30～39)∶(5～10)。3.根据权利要求1所述的一种涂层红外发射率调控方法，其特征在于：所述成膜树脂为有机硅树脂和氟碳树脂；所述有机溶剂为乙醇、异丙醇、丙二醇甲醚醋酸酯或者四氢呋喃。4.根据权利要求1所述的一种涂层红外发射率调控方法，其特征在于：步骤2〕中，成膜树脂与红外吸收材料的重量比为(30～39)∶(3～5)。5.根据权利要求1或2所述的一种涂层红外发射率调控方法，其特征在于：步骤2〕中，还向所述二元均相体系中加入了分散剂和固化剂；步骤2〕中，所述红外吸收材料为低维碳纳米材料；步骤2〕中，所述低维碳纳米材料为碳纳米管、二硫化钨或者石墨烯。6.根据权利要求4或5所述的一种涂层红外发射率调控方法，其特征在于：步骤2〕中，加入的分散剂为...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴明星，李朝龙，王啸，史浩飞，
申请(专利权)人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院，
类型：发明
国别省市：