一种软膜限定机构制造技术

本发明专利技术公开了一种软膜限定机构，包括压紧机构，包括分别位于软膜上方、下方的限位盘、托盘，限位盘的底部具备容纳软膜且开口向下的容纳坑；当软膜不受除重力之外的外力时，容纳坑的竖向投影面积大于的软膜的竖向投影面积，容纳坑的竖向投影轮廓与软膜的竖向投影轮廓形状相同，并且容纳坑的深度不小于软膜的厚度；容纳坑底部至限位盘的上表面之间为透明板，透明板与限位盘可拆卸地连接；活动机构，限位盘、托盘均具备竖向升降自由度，还具备沿同一水平方向的直线往复自由度；检视机构，限位盘的上方设有工作台，检视机构设置在工作台上。采用此发明专利技术能实现软膜的绷直，保证软膜尺寸精度，方便检视等工序。方便检视等工序。方便检视等工序。

【技术实现步骤摘要】
一种软膜限定机构


[0001]本专利技术涉及纳米压印设备领域，具体涉及一种软膜限定机构。

技术介绍

[0002]纳米压印领域会应用到硅胶质地的软膜，软膜如果不受力，放任其自身自重等原因，则会发生形变，所以需要一种设备对软膜的状态进行限定，好在压印时抵消软膜的自身形态的不利形变。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的问题在于提供一种，能实现软膜的绷直，保证软膜尺寸精度，方便检视等工序。
[0004]为解决上述问题，本专利技术提供一种，为达到上述目的，本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0005]一种软膜限定机构，包括：压紧机构，包括分别位于软膜上方、下方的限位盘、托盘，限位盘的底部具备容纳软膜且开口向下的容纳坑；当软膜不受除重力之外的外力时，容纳坑的竖向投影面积大于的软膜的竖向投影面积，容纳坑的竖向投影轮廓与软膜的竖向投影轮廓形状相同，并且容纳坑的深度不小于软膜的厚度；容纳坑底部至限位盘的上表面之间为透明板，透明板与限位盘可拆卸地连接；活动机构，限位盘、托盘均具备竖向升降自由度，还具备沿同一水平本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种软膜限定机构，其特征在于，包括：压紧机构，包括分别位于软膜上方、下方的限位盘、托盘，所述限位盘的底部具备容纳软膜且开口向下的容纳坑；当软膜不受除重力之外的外力时，所述容纳坑的竖向投影面积大于的软膜的竖向投影面积，所述容纳坑的竖向投影轮廓与软膜的竖向投影轮廓形状相同，并且容纳坑的深度不小于软膜的厚度；所述容纳坑底部至限位盘的上表面之间为透明板，所述透明板与限位盘可拆卸地连接；活动机构，所述限位盘、托盘均具备竖向升降自由度，还具备沿同一水平方向的直线往复自由度；检视机构，所述限位盘的上方设有工作台，所述检视机构设置在工作台上。2.根据权利要求1所述的软膜限定机构，其特征在于：所述托盘的下方依次设有竖向气缸、水平直线模组，所述限位盘通过第一水平滑轨连接有工作台，所述第一水平滑轨的长度方向与水平直线模组运动方向平行。3.根据权利要求2所述的软膜限定机构，其特征在于：所述限位盘的两侧分别设有与第一水平滑轨装配的升降气缸，所述容纳坑的竖向投影不与升降气缸重合。4.根据权利要求1所述的软膜限定机构，其特征在于：所述限位盘中具备水平的台阶面，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：史晓华，
申请(专利权)人：苏州光越微纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：