分子筛工艺条件的生成方法和系统技术方案

本发明专利技术提供了一种分子筛工艺条件的生成方法和系统。方法包括如下的步骤：S1：配置合成分子筛的工艺条件的多个初始参数以及所述分子筛的预期表征，并配置算法参数；S2：初始化种群以生成父代种群，并计算所述父代种群中每个个体的适应值；S3：生成变异种群和子代种群；S4：判断当前迭代次数是否达到最大附迭代次数；S5：计算所述子代种群中每个个体的适应值，并在所述父代种群和所述子代种群中选择新父代种群；以及S6：判断当前迭代次数是否达到最大主迭代次数直至输出所述最优工艺条件。本发明专利技术的一种分子筛工艺条件的生成方法和系统可以方便高效地获得符合预期的分子筛工艺条件。以方便高效地获得符合预期的分子筛工艺条件。以方便高效地获得符合预期的分子筛工艺条件。

【技术实现步骤摘要】
分子筛工艺条件的生成方法和系统


[0001]本专利技术主要涉及分子筛工艺领域，尤其涉及一种分子筛工艺条件的生成方法和系统。

技术介绍

[0002]分子筛常用在石油化工等领域，其特定的结构具有吸附、分离、催化等性能，可用于分离空气制氧等，外加其成本低廉与环保的特性，具有重大的实用价值。其中，分子筛合成的工艺条件对形成特定的分子筛具有重要意义。传统的对分子筛合成的工艺条件的探索，仅依靠专家经验，通过不断的实际实验进行验证和总结归纳。这种方式虽然只依靠尝试、构思简单，但是耗时较长、成本高且效率低下。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的技术问题是提供一种分子筛工艺条件生成方法和系统，可以方便高效地获得符合预期的分子筛工艺条件。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种分子筛工艺条件的生成方法，包括如下的步骤：S1：配置合成分子筛的工艺条件的多个初始参数以及所述分子筛的预期表征，并配置算法参数；S2：初始化种群以生成父代种群，并计算所述父代种群中每个个体的适应值；S3：根据至少两个变异策略和相应的变异因子对所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分子筛工艺条件的生成方法，其特征在于，包括如下的步骤：S1：配置合成分子筛的工艺条件的多个初始参数以及所述分子筛的预期表征，并配置算法参数；S2：初始化种群以生成父代种群，并计算所述父代种群中每个个体的适应值；S3：根据至少两个变异策略和相应的变异因子对所述父代种群中每个个体进行变异，以生成变异种群，并根据交叉策略和相应的交叉因子对所述变异种群和所述父代种群进行交叉，以生成子代种群；S4：判断当前迭代次数是否达到最大附迭代次数，若判断结果为是则执行步骤S5，否则重新执行步骤S3～S4；S5：计算所述子代种群中每个个体的适应值，并在所述父代种群和所述子代种群中选择新父代种群；以及S6：判断当前迭代次数是否达到最大主迭代次数，若判断结果为是，则输出符合所述预期表征的最优工艺条件，否则，重新执行步骤S3～S6直至输出所述最优工艺条件。2.如权利要求1所述的生成方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述工艺条件包括原材料、温度、搅拌速率和/或反应持续时间。3.如权利要求2所述的生成方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述多个初始参数包括种类、数值上限和/或数值下限。4.如权利要求1所述的生成方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述分子筛的预期表征包括X射线衍射图谱的表征。5.如权利要求4所述的生成方法，其特征在于，在所述步骤S2中，所述父代种群中每个个体的适应值体现为差值Error：其中，output为所述工艺条件到所述X射线衍射图谱的映射模型的输出，setvalue为所述X射线衍射图谱中的峰位置的数值，i为特征维度，以及num为所述峰位置的总数。6.如权利要求1所述的生成方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述算法参数包括最大主迭代次数T、种群大小N、变异策略M、变异因子F、交叉策略C和交叉因子Cr。7.如权利要求6所述的生成方法，其特征在于，所述主迭代次数T为所述多个初始参数的数量值的10000倍，且所述种群大小N为40。8.如权利要求6所述的生成方法，其特征在于，所述变异因子F的取值范围为0～1。9.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖鹏，辛佳德，杜文莉，韦章鹏，彭鑫，
申请(专利权)人：华东理工大学，
类型：发明
国别省市：