一种基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法技术

技术编号:30367796 阅读:24 留言:0更新日期:2021-10-16 17:41
本发明专利技术涉及一种基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法,该方法如下:将三步移相的三幅正弦光栅图像同时经投影仪投射到待测物体表面,相机同步采集经物体表面调制后的反射光栅图像;计算出包含物体三维信息的包裹相位和物体纹理强度图像;将包裹相位展开为连续的相对相位分布;利用物体纹理强度信息计算出物体横向尺寸参考值;将不同n值下的物体横向尺寸估计值分别与物体横向尺寸参考值相减再取绝对值得到差值,求得n的正确值n0;利用正确值n0将相对相位分布转化为绝对相位分布。本发明专利技术只需要投影三幅光栅图像就可以恢复物体的绝对相位分布,有效地提高了三维测量的速度使用于高速三维测量。于高速三维测量。于高速三维测量。

【技术实现步骤摘要】
一种基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法


[0001]本专利技术属于结构光三维测量
,特别涉及一种通过相移方法实现物体三维测量的基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法。

技术介绍

[0002]结构光三维测量技术具有测量速度快、精度高和非接触等优点,近年来已成为三维测量领域的热门技术。在结构光三维测量中,相位恢复精度是决定三维测量精度的关键因素之一。
[0003]现有的提取相位的方法有相移算法、傅里叶变换、小波变化等,但是这些方法得到的相位都是[

π,π]的包裹相位。因此,需要利用相位解包裹算法来实现包裹相位展开。传统的相位展开方法主要分为空间相位解包裹和时间相位解包裹两种类型。空间相位解包裹算法通过在包裹相位中选择一点作为起点,然后依次对相邻像素点上包裹相位实现相对相位展开。空间相位解包裹算法具有简单、方便等优点,但是由于在去包裹的过程中需要参考周围像素点的相位值,因此,在实际应用中它不能同时测量多个分离的物体。更重要的是,利用空间相位解包裹算法获得是物体的相对面型分布,并不是绝对面型分布。时间相位解包裹算法通过采集额外的光栅图像可实现对包裹相位的绝对相位展开。尽管时间相位解包裹方法解决了多个分离物体测量的问题,但是由于要采集额外的图像,不能有效地用于高速移动物体的测量。此外,对于不同周期的光栅图像,还需要考虑各自对应的曝光时间,以减少噪声的影响。因此,针对相位上述解包裹算法存在的问题,目前尚缺乏一种有效地获得绝对相位分布的方法。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是提供一种基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法,该方法只需投影三幅光栅图像即可实现高精度的三维面型绝对测量,可有效地提高三维测量的速度。
[0005]为了解决上述技术问题,本专利技术的基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法如下:
[0006]将三步移相的三幅正弦光栅图像同时经投影仪投射到待测物体表面,相机同步采集经物体表面调制后的反射光栅图像;基于反射光栅图像计算出包含物体三维信息的包裹相位和物体纹理强度图像;将包裹相位展开为连续的相对相位分布;利用物体纹理强度信息计算出物体横向尺寸参考值;根据不同n值下物体的三维数据分布计算出相应的不同n值下的物体横向尺寸估计值,将不同n值下的物体横向尺寸估计值分别与物体横向尺寸参考值相减再取绝对值得到差值,其中最小差值所对应的n值即为所求的n的正确值n0;利用确定出的n的正确值n0将相对相位分布转化为绝对相位分布;物体的相对相位分布与绝对相位分布关系式如下:
[0007]Φ
abs
(u,v)=Φ
rel
(u,v)+2πn,n∈Z
[0008]其中,Φ
abs
(u,v)表示绝对相位分布;Φ
rel
(u,v)表示相对相位分布。
[0009]所述的包裹相位和物体纹理强度信息由下式计算得到:
[0010][0011]其中,φ
w
(u,v)是

π到π的包裹相位;I
t
(u,v)是测量物体的纹理强度信息;I1(u,v)、I2(u,v)、I3(u,v)分别为三幅正弦光栅图像的光强分布。
[0012]所述的包裹相位采用空间相位解包裹算法展开为连续的相对相位分布。
[0013]所述的物体横向尺寸参考值为在x方向的横向尺寸参考值,物体的x方向的横向尺寸参考值由下式计算得到:
[0014][0015]其中L
x0
表示物体在x方向的横向尺寸参考值,N
x
表示物体成像在相机探测器x方向上的像素个数,δ是相机探测器像元的尺寸,s是物体到相机镜头的物距,f'表示相机的焦距。
[0016]所述的物体横向尺寸参考值还可以为在y方向的横向尺寸参考值。
[0017]所述的不同n值下物体的三维数据分布如下:
[0018][0019][0020][0021][0022]其中,和分别是相机在u和v方向上的焦距,u
p
为投影仪的像素坐标,(u
c
,v
c
)为相机的像素坐标,是相机的主点坐标;和分别是投影仪在u和v方向上的焦距,是投影仪的主点坐标;t
i
是平移矩阵的元素,r
ij
(其中i=1,2,3;j=1,2,3)是旋转矩阵的元素。
[0023]本专利技术与现有技术相比,其优点在于,只需要采集三幅图像,可有效地提高三维测量的速度;能够恢复出物体的绝对相位分布,对物体的面型实现绝对测量;不存在有限的测量深度问题,能够对大深度范围的物体进行测量。
附图说明
[0024]图1为本专利技术的流程图。
[0025]图2为本专利技术实施例中本专利技术提出的方法与传统的多频时间相位解包裹算法的对
比图。
[0026]图3为本专利技术实例中利用本专利技术获得的复杂物体的绝对相位恢复。
[0027]图4为本专利技术实例中利用本专利技术提出的方法获得物体的三维数据分布。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细说明,可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅用于解释本专利技术,而非对本专利技术的限定。另外还需说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0029]在本专利技术的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义的理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接连接,也可以通过中间媒介间接连接,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况具体理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0030]在本专利技术中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或者仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”、“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0031]在本实施例的描述中,术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述和简化操作,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分,并没有特殊的含义。
[0032]为了清楚的说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所附图作简单地介绍,显而易见本领域的一般技术人员可以利用本专利技术实施多种三维测量,因此,以下具体实施方式和附图仅仅是对本专利技术的技术方案的示例性说明,而不应该示为本专利技术的全部或者视本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法,其特征在于该方法如下:将三步移相的三幅正弦光栅图像同时经投影仪投射到待测物体表面,相机同步采集经物体表面调制后的反射光栅图像;基于反射光栅图像计算出包含物体三维信息的包裹相位和物体纹理强度图像;将包裹相位展开为连续的相对相位分布;利用物体纹理强度信息计算出物体横向尺寸参考值;根据不同n值下物体的三维数据分布计算出相应的不同n值下的物体横向尺寸估计值,将不同n值下的物体横向尺寸估计值分别与物体横向尺寸参考值相减再取绝对值得到差值,其中最小差值所对应的n值即为所求的n的正确值n0;利用确定出的n的正确值n0将相对相位分布转化为绝对相位分布;物体的相对相位分布与绝对相位分布关系式如下:Φ
abs
(u,v)=Φ
rel
(u,v)+2πn,n∈Z其中,Φ
abs
(u,v)表示绝对相位分布;Φ
rel
(u,v)表示相对相位分布。2.根据权利要求1所述的基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法,其特征在于所述的包裹相位和物体纹理强度信息由下式计算得到:述的包裹相位和物体纹理强度信息由下式计算得到:其中,φ
w
(u,v)是

π到π的包裹相位;I
t
(u,v)是测量物体的纹理强度信息;I1(u,v)、I2(u,v)、I3(u,v)分别为三幅正弦光栅图像的光强分布。3.根据权利要求1所述的基于物体横向尺寸辅助的绝对相位恢复方法,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩希珍曲锋孙金霞
申请(专利权)人:苏州东方克洛托光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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