可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法技术

本发明专利技术提供了一种可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法，即含苄基、烯丙基或炔丙基类保护基的底物，在酚催化剂、碱、氢源和光的作用下，通过自由基裂解反应，得到目标选择性脱保护基的产物；本方法操作简单，采用安全清洁的可见光或近可见光为激发条件，试剂便宜易得，反应产率高，反应的化学和区域选择性高，适用于各种底物中苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的选择性脱除。除。

【技术实现步骤摘要】
可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法


[0001]本专利技术属于化学合成方法领域，具体涉及一种可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法，即含苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的底物，在酚催化剂、碱氢源和可见光或近可见光的作用下，通过自由基裂解反应，得到选择性脱保护的目标产物。

技术介绍

[0002]苄基、烯丙基和炔丙基类保护基是合成化学中应用广泛的保护基，但此类保护基的选择性脱除仍然是一个富有挑战性的问题。目前，此类保护基的脱除通常需要使用过渡金属催化氢化以及伯奇还原的条件，上述方法在实际应用过程中存在金属残留、化学选择性差以及严重的安全隐患，迫切需要开发新的选择性脱除此类保护基的新方法。可见光或近可见光反应作为一种新型高效、绿色环保的合成策略，在引发机制与反应机理上与常规反应存在很大的差异性，因此在保护基的选择性脱除方面具有广泛的应用前景。但由于苄基、烯丙基和炔丙基类保护基保护的底物通常具有极低的还原电势，已超出目前已有的可见光或近可见光催化体系的还原能力，本专利技术通过具有超强还原性的新型酚本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法，其特征在于：酚催化剂在碱的作用下原位生成具有光催化活性的酚负离子，在可见光或近可见光光照条件下被激发得到激发态酚负离子，与苄基、烯丙基或炔丙基类保护基保护的底物发生单电子转移反应，生成底物的自由基负离子中间体和催化剂的酚氧自由基中间体；然后通过底物的自由基负离子中间体自身的裂解反应，得到选择性脱保护的目标产物和苄基、烯丙基或炔丙基类自由基中间体；并在氢源的作用下，实现苄基、烯丙基或炔丙基类自由基中间体的淬灭和酚催化剂的再生循环；其中：R1选自链烷基、环烷基、取代以及非取代烯基、取代以及非取代炔基、取代以及非取代芳基、取代以及非取代杂环芳基、酰基、酰氧基、酯基、酰胺基、羧基、碳酸酯基、氰基、氨基、取代氨基；R2选自氢、链烷基、环烷基、取代以及非取代烯基、取代以及非取代炔基、取代以及非取代芳基、取代以及非取代杂环芳基、酰基、酰氧基、酯基、酰胺基、碳酸酯基、氰基、磺酰基、氨基、取代氨基；R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
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、R
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、R
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、R3'、R4'、R5'、R6'、R7'、R3''、R4''、R5''相同或不同，其分别选自氢、链烷基、环烷基、取代以及非取代烯基、取代以及非取代炔基、取代以及非取代芳基、取代以及非取代杂环芳基、卤素、羟基、巯基、硝基、氰基、羧基、酯基、酰基、酰氧基、烷氧基、磺酰基、胺基、取代胺基、酰胺基；Ar选自苯、萘、蒽、菲、芴、吡啶、喹啉、异喹啉、吲哚、吡咯、吡嗪、嘧啶、呋喃、苯并呋喃、苯并噻唑、苯并噻吩、咔唑。2.根据权利要求1所述的可见光或近可见光引发的选择性脱除苄基、烯丙基和炔丙基类保护基的方法，其特征在于，具体步骤如下：（1）将苄基、烯丙基或炔丙基类保护基保护的底物、酚催化剂、碱、氢源溶于溶剂中，混匀后，将混合溶液在350nm～600nm波长的可见光或近可见光照射下进行反应；（2）待步骤（1）反应完全后，加水淬灭后用乙酸乙酯萃取，收集乙酸乙酯相，依次用水、饱和氯化钠水溶液洗涤，无水硫酸钠干燥后浓缩柱层析，得到选择性脱保护的目标产物。3.根据权利要求1或2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏成峰，梁康江，李希攀，
申请(专利权)人：云南大学，
类型：发明
国别省市：