电光装置和电子设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供可以确实地检查在保持电光物质的基板上形成的多个薄膜开关元件的电特性的电光装置、电子设备和电光装置的制造方法。在液晶装置的ＴＦＴ阵列基板１０中，在位于像素区域１０ａ的外周一侧的虚设像素１００ｄ的一个像素上形成检查用ＴＦＴ３０ｇ的同时，以连接到其漏极区域１ｅ上的像素电极９ａ为第１检查焊盘３１ｇ。在与之相邻的虚设像素中，以电连到从数据线６ａ延长出来的延长部分６ｇ上的像素电极９ａ为第２检查焊盘３２ｇ，以在另一个相邻的虚设像素中，对于从扫描线３ａ延长出来的延长部分３ｇ通过中继电极６ｈ进行电连的像素电极９ａ为第３检查焊盘３３ｇ。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

Electrooptical device and electronic equipment

The utility model provides an electro-optical device, an electronic device and a method for manufacturing an electro-optical device, which can be used to check the electrical characteristics of a plurality of thin film switch elements formed on a substrate which is used to keep the electro-optic material. The TFT array substrate of liquid crystal device 10, forming a check with TFT30g at the same time a dummy pixel pixel pixel region 10A 100D is located on the peripheral side, to connect to the pixel electrode of the drain region on 1E 9A for the first check pad 31g. In the dummy pixel adjacent, electrically coupled to the data line from 6A extended out the extension of the pixel electrode 9A part 6G for second inspection pad 32g, in the dummy pixel adjacent to one, for from the scan line 3A out the extension of extension of 3G through the relay electric pixel electrode 6h even the third electrode 9A inspection pad 33g.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及在保持电光物质的基板上形成有多个电气元件的电光装置、电子设备和电光装置的制造方法。更详细地说，涉及用来检查在基板上形成的电气元件的电特性的技术。
技术介绍
在液晶装置或有机电致发光装置等这类电光装置中，在保持电光物质的基板上，形成有多个开关元件。在这样的电光装置中，例如，在作为像素开关元件使用薄膜晶体管(以下，叫做TFT)的有源矩阵型的液晶装置中，在制造它时，如图20所示，在对大型基板10e形成多块的TFT阵列基板10的构成要素后，沿着预定切断线10f切断大型基板10e，得到在各个液晶装置中使用的TFT阵列基板10。在这里，对于被各个预定切断线10f夹在中间的区域来说，以往，一般如图21所示，被作为用来检查在TFT阵列基板10的像素区域10a上矩阵状地形成的多个像素开关用的TFT30、构成驱动电路101、104的多个驱动电路用TFT(未画出来)等的检查区域10g来利用。即，在TFT阵列基板10上，矩阵状地配置的多个像素的每一个像素内都形成有像素开关用TFT30，而且，在驱动电路内置型的TFT阵列基板10的情况下，驱动电路101、104虽然用TFT(未画出来)构成，但是，以前，不加变动地利用形成这些TFT的工序，在检查区域10g上，形成作为检查图案的检查用TFT30g’、电连到该检查用TFT30g’的漏极区域上的第1检查焊盘31g’、电连到检查用TFT30g’的源极区域上的第2检查焊盘32g’、和电连到检查用TFT30g’的栅极电极上的第3检查焊盘33g’。这样的工序，可在图20所示的大型基板10e的状态下进行，而且，对于1块TFT阵列基板10可以一对一的关系在其附近的检查区域10g上形成检查用TFT30g’。因此，在大型基板10e的状态下，使检查端子触碰到检查焊盘31g’、32g’、33g’上检查检查用TFT30g的电特性，如果在其结果中检查用TFT30g’的电特性是良好的，就将在与之对应的TFT阵列基板10上形成的像素开关用的TFT30等也看作是良好的，将该TFT阵列基板10应用于液晶装置的组装中去。另一方面，如果在检查用TFT30g’中存在着不合格，则就看作是在与之对应的TFT阵列基板10上形成的像素开关用的TFT30等中也存在着不合格，就废弃该TFT阵列基板10。因此，可以实质地提高液晶装置的成品率。此外，由于可以掌握究竟在大型基板10e的哪一个位置上易于发生不合格，故可以容易地将其结果反馈给制造工序。但是，以前，在大型基板10e中，即便是说在作为TFT阵列基板10被切出来的区域的附近形成检查用TFT30g’，但只要在切出TFT阵列基板10的区域之外形成检查用TFT30g’，形成像素开关用的TFT30或驱动电路用TFT的区域和形成检查用TFT30g’的区域就会分离开来。因此，在利用半导体工艺制造TFT时，归因于基板上的位置导致的TFT的特性不均一的影响，有时候用检查用TFT30g’进行检查的检查结果，和像素开关用TFT30或驱动电路用TFT的品质不一致。此外，在形成像素开关用的TFT30或驱动电路用TFT的区域和形成检查用TFT30g的区域中，由于图案密度显著地不同，故在利用半导体工艺形成TFT时，图案密度对曝光等所造成的影响，在形成像素开关用的TFT30或驱动电路用TFT的区域，和形成检查用TFT30g’的区域中是不同的。同样是归因于这样的理由，以前，用检查用TFT30g’进行的检查结果和像素开关用的TFT30或驱动电路用TFT的品质有时候也会不一致。
技术实现思路
鉴于以上的那些问题，本技术的目的在于提供可以确实地检查在保持电光物质的基板上形成的多个薄膜开关元件的电特性的电光装置、电子设备和电光装置的制造方法。为了解决上述课题，在本技术中，在保持电光物质的基板上已形成了具备多个薄膜开关元件的电气元件形成区域的电光装置中，其特征在于在上述电气元件形成区内，形成有用来检查上述薄膜开关元件的特性的检查图案，和与该检查图案进行电连的检查焊盘。此外，在本技术中，在保持电光物质的基板上已形成了具备多个薄膜开关元件的电气元件形成区域的电光装置的制造方法中，其特征在于，在上述基板的上述电气元件形成区域内形成上述薄膜开关元件时，在该电气元件形成区域内，预先形成用来检查上述薄膜开关元件的电特性的检查图案和与该检查图案电连接的检查焊盘，使检查用端子触碰到上述检查焊盘上来检查上述检查图案的电特性，使用该检查结果被判断为良好的上述基板，制造上述电光装置。在本技术中，由于要在电气元件形成区域中形成用来检查在电气元件形成区域内形成的薄膜开关元件的检查图案，故作为检查对象的薄膜开关元件和在实际的测试中使用的检查图案处于近的位置。因此，在利用半导体工艺在基板上形成TFT等的薄膜开关元件时，即便是归因于在基板上的位置而使得TFT的特性不均一的情况下，倘采用本技术，作为检查对象的薄膜开关元件的电学方面的特性和实际上已进行了测试的检查图案的电学方面的特性之间的对应关系就具有高的可靠性。此外，在电气元件形成区域内也形成有在实际的测试中使用的检查图案，故在形成作为检查对象的薄膜开关元件的区域和形成检查图案的区域中，图案密度等的条件也相等。因此，由于图案密度给曝光造成的影响等，在形成作为检查对象的薄膜开关元件的区域和形成检查图案的区域之间也相等，故倘采用本技术，作为检查对象的薄膜开关元件的电特性和实际上已进行了测试的检查图案的电特性之间的对应关系就具有高的可靠性。因此，可以确实地检查在保持电光物质的基板的电光元件形成区域中形成的薄膜开关元件的电特性。在本技术中，上述电气元件形成区，例如，是将具备用来驱动上述电光物质的像素电极，和作为用来驱动该像素电极的上述薄膜开关元件形成的像素开关用的有源元件的像素配置成矩阵状的像素区域。在该情况下，一般来说，由于在上述像素区域内，形成有矩阵状地具备用来显示图像的多个有效像素的有效像素区域，和具备在该有效像素区域的外周一侧用遮光部件覆盖起来对图像显示无直接贡献的多个虚设像素的虚设像素区域，故在本技术中，优选在上述虚设像素区域内形成上述检查图案和上述检查焊盘。即，在电光装置的制造方法中，在作为上述电气元件形成区域已形成了具备用来驱动上述电光物质的像素电极，和作为用来驱动该像素电极的上述薄膜开关元件形成的像素开关用的有源元件的像素配置成矩阵状的像素区域的情况下，优选在上述像素区域的外周区域上形成上述检查图案和上述检查焊盘。在该情况下，在用上述基板组装上述电光装置时，优选将上述像素区域的中央区域作为用来显示图像的多个有效像素配置成矩阵状的有效像素区域，将在上述像素区域内位于上述像素区域的外周一侧区域作为配置有对图像显示无直接贡献的多个虚设像素的虚设像素区域用遮光部件覆盖起来。如果象这样地构成，则作为本身为检查对象的薄膜开关元件的像素开关用TFT和实际的测试中使用的检查图案在近，而且，图案密度等相等的位置上形成。因此，由于本身为检查对象的像素开关用TFT的电特性和已进行了实际的测试的检查图案的电特性之间的对应的关系具有高的可靠性，故可以确实地检查在保持电光物质的基板的像素区域上形成的像素开关用TFT的电特性。此外，由于要在像素区域内的虚设像素区域内配置检本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电光装置，该装置是一种在保持电光物质的基板上，形成有具备多个薄膜开关元件的电气元件形成区域的电光装置，其特征在于：在上述电气元件形成区域内，形成有用来检查上述薄膜开关元件的特性的检查图案，和与该检查图案电连接的检查焊盘。

【技术特征摘要】
JP 2002-2-12 034708/20021.一种电光装置，该装置是一种在保持电光物质的基板上，形成有具备多个薄膜开关元件的电气元件形成区域的电光装置，其特征在于在上述电气元件形成区域内，形成有用来检查上述薄膜开关元件的特性的检查图案，和与该检查图案电连接的检查焊盘。2.根据权利要求1所述的电光装置，其特征在于上述电气元件形成区域，是将具备用来驱动上述电光物质的像素电极，和为了驱动该像素电极作为上述薄膜开关元件被形成的像素开关用有源元件的像素配置成矩阵状的像素区域，在上述像素区域内，形成有矩阵状地具备用来显示图像的多个有效像素的有效像素区域，和具备在该有效像素区域的外周一侧用遮光部件覆盖起来对图像的显示无直接贡献的多个虚设像素的虚设像素区域，上述检查图案和上述检查焊盘形成于上述虚设像素区域内。3.根据权利要求2所述的电光装置，其特征在于在每一个上述有效像素区域和上述虚设像素区域中，作为上述像素开关用有源元件，形成有具备与数据线电连接的源极区域、与上述像素电极电连接的漏极区域、和隔着绝缘膜与栅极电极对峙的沟道区域的像素开关用薄膜晶体管，在上述多个虚设像素的至少一个虚设像素中，作为上述检查图案形成有结构和尺寸与上述像素开关用薄膜晶体管相同的检查用薄膜晶体管的同时，在上述虚设像素区域中，在已形成了上述检查用薄膜晶体管的第1检查像素内形成有与该检查用薄膜晶体管的漏极区域电连接的第1检查焊盘，在与上述第1检查像素相邻的第2检查像素内形成有与...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤田伸，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：实用新型
国别省市：JP[日本]