本发明专利技术揭示一种显示器，其形成有复数个布置成一曲线状构造的反射性显示像素及复数个电极，其中每一电极均电耦接至两个或两个以上反射性显示像素。在某些实施例中，所述阵列至少部分为曲线状。所述反射性显示像素包含干涉式调制器。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术的
涉及微机电系统(MEMS)。更具体而言，本申请案涉及非矩形阵列形式的干涉式显示像素。
技术介绍
微机电系统(MEMS)包括微机械元件、激励器及电子元件。微机械元件可采用沉积、蚀刻或其他可蚀刻掉衬底及/或所沉积材料层的若干部分或可添加若干层以形成电和机电装置的微机械加工工艺制成。一种类型的MEMS装置被称为干涉式调制器。在本文中所使用的术语干涉式调制器或干涉式光调制器是指一种利用光学干涉原理有选择地吸收及/或反射光的装置。在某些实施例中，一干涉式调制器可包含一对导电板，其中之一或二者均可全部或部分地透明及/或为反射性，且在施加适当的电信号时能够相对运动。在一特定的实施例中，一个板可包含一沉积在一衬底上的静止层，另一个板可包含一通过一气隙与该静止层隔开的金属薄膜。一个板相对于另一个板的位置可改变入射于所述干涉式调制器上的光的光学干涉，在本文中将对此进行更加详细的描述。上述装置具有广泛的应用范围，且在此项技术中，利用及/或修改这些类型装置的特性、以使其性能可用于改善现有产品及制造目前尚未开发的新产品将颇为有益。
技术实现思路
本专利技术的系统、方法及装置均具有多个方面，任一单个方面均不能单独决定其所期望特性。现在，对其更主要的特性进行简要论述，此并不限定本专利技术的范围。在查看这一论述，尤其是在阅读了标题为“具体实施方式”的部分之后，人们即可理解本专利技术的特征如何提供优于其他显示装置的优点。在某些实施例中，一种设备包含一显示器。所述显示器包括复数个布置成一至少部分地呈曲线状的构造的干涉式调制器。所述显示器进一步包括复数个电极。每一电极均电耦接至两个或两个以上干涉式调制器。在某些实施例中，一种显示器包括复数个布置成一至少部分地呈曲线状的构造的干涉式调制器。所述显示器进一步包括一电耦接至一第一干涉式调制器群组的第一电极。所述显示器进一步包括一电耦接至一第二干涉式调制器群组的第二电极。所述第一干涉式调制器群组及所述第二干涉式调制器群组中每一群组均含有至少一个共有的干涉式调制器并含有至少一个不共有的干涉式调制器。在某些实施例中，一种设备包含一显示器。所述显示器包括复数个用于以干涉方式调制光的构件。所述显示器进一步包括复数个用于导电的构件，其中每一导电构件均电耦接至两个或两个以上调制构件。在某些实施例中，一种方法形成一显示装置。所述方法包括在衬底上形成复数个干涉式调制器。所述干涉式调制器布置成一至少部分地呈曲线状的构造。所述方法进一步包括在所述衬底上形成复数个电极。每一电极均电耦接至两个或两个以上干涉式调制器。在某些实施例中，一种方法显示一图像。所述方法包括提供一显示器，所述显示器包括复数个布置成一至少部分地呈曲线状的构造的干涉式调制器。所述显示器进一步包括复数个电极。每一电极均电耦接至两个或两个以上干涉式调制器。所述方法进一步包括选择性地向所述复数个电极施加信号，以激活所述复数个干涉式调制器中所选的干涉式调制器。在某些实施例中，一种显示器包括复数个布置成一至少部分地呈曲线状构造的干涉式调制器。所述显示器进一步包括一观察表面，所述观察表面包含复数个区域。每一区域均包含一光学活性面积及一光学非活性面积。每一区域均具有一定的所述光学活性面积对所述光学非活性面积的比率。任一个大于一指定的表面积的第一区域的所述比率均基本上与所述显示器的任一大于所述指定的面积的第二区域的所述比率相同。在某些实施例中，一种显示器包括用于以干涉方式调制光的构件，所述调制构件布置成一至少部分地呈曲线状的构造。所述显示器进一步包括用于观察一图像的构件。所述观察构件包含复数个区域。每一区域均包含一光学活性面积及一光学非活性面积。每一区域均具有一定的所述光学活性面积对所述光学非活性面积的比率。任一个大于一指定的表面积的第一区域的所述比率均基本上与所述显示器的任一大于所述指定的面积的第二区域的所述比率相同。在某些实施例中，一种方法形成一显示装置。所述方法包括形成复数个布置成一至少部分地呈曲线状的构造的干涉式调制器。所述方法进一步包括形成一包含复数个区域的观察表面。每一区域均包含一光学活性面积及一光学非活性面积。每一区域均具有一定的所述光学活性面积对所述光学非活性面积的比率。任一个大于一指定的表面积的第一区域的所述比率均基本上与所述显示器的任一大于所述指定的面积的第二区域的所述比率相同。在某些实施例中，一种方法显示一图像。所述方法包括提供一显示器，所述显示器包括复数个布置成一至少部分地呈曲线状的构造的干涉式调制器。所述显示器进一步包括一观察表面，所述观察表面包含复数个区域。每一区域均包含一光学活性面积及一光学非活性面积。每一区域均具有一定的所述光学活性面积对所述光学非活性面积的比率。任一个大于一指定的表面积的第一区域的所述比率均基本上与所述显示器的任一大于所述指定的面积的第二区域的所述比率相同。所述方法进一步包括选择性地激活所述复数个干涉式调制器中所选的干涉式调制器。在某些实施例中，一种显示器具有一至少部分地呈曲线状的边缘。所述显示器包括复数个布置成一至少部分地呈曲线状的像素构造的干涉式调制器。所述像素形成一边界，其中所述边界对应于所述边缘。在某些实施例中，一种显示器具有一至少部分地呈曲线状的边缘。所述显示器包括复数个用于以干涉方式调制光的布置成一至少部分地呈曲线状的像素构造的构件。所述像素形成一边界，其中所述边界对应于所述边缘。在某些实施例中，一种方法形成一显示装置。所述方法包括形成复数个布置成一至少部分地呈曲线状的像素构造的干涉式调制器。所述像素形成一边界，其中所述边界对应于所述显示器的一至少部分地呈曲线状的边缘。在某些实施例中，一种方法显示一图像。所述方法包括提供一显示器，所述显示器包括复数个布置成一至少部分地呈曲线状的像素构造的干涉式调制器。所述像素形成一边界，其中所述边界对应于所述显示器的一至少部分地呈曲线状的边缘。所述方法进一步包括选择性地激活所述复数个干涉式调制器中所选的干涉式调制器。附图说明图1为一等轴图，其显示一干涉式调制器显示器的一实施例的一部分，其中一第一干涉式调制器的一可移动反射层处于一释放位置，且一第二干涉式调制器的一可移动反射层处于一受激励位置。图2为一系统方框图，其显示一包含一3×3干涉式调制器显示器的电子装置的一实施例。图3为图1所示干涉式调制器的一实例性实施例的可移动镜位置与所施加电压的关系图。图4为一组可用于驱动干涉式调制器显示器的行和列电压的示意图。图5A显示在图2所示的3×3干涉式调制器显示器中的一个实例性显示数据帧。图5B显示可用于写入图5A所示帧的行信号及列信号的一个实例性时序图。图6A为一图1所示装置的剖面图。图6B为一干涉式调制器的一替代实施例的一剖面图。图6C为一干涉式调制器的另一替代实施例的一剖面图。图7为一绘示一手表的立体图，其中对该手表表盘上所使用的非矩形像素阵列进行了放大显示。图8为一其中每一像素均具有基本相同的面积的非矩形阵列的示意图。图9A为一其中每一像素均包含单个干涉式调制器的非矩形像素阵列的示意图。图9B为一其中每一像素均包含四个具有基本相同形状的干涉式调制器的非矩形像素阵列的示意图。图9C为一其中每一像素均包含多个具有基本相同的尺寸及基本相同的形状的干涉式调制器的非矩形像本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种设备，其包括：复数个布置成一至少部分地呈曲线状的构造的干涉式调制器；及复数个电极，其中每一电极均电耦接至所述复数个干涉式调制器中的至少两个干涉式调制器。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：克拉伦斯徐，
申请(专利权)人：IDC公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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