防眩光玻璃制品及用于制造防眩光玻璃制品的方法技术

本发明专利技术总体上涉及玻璃制品、优选防眩光玻璃制品以及制造优选防眩光玻璃制品的方法。璃制品以及制造优选防眩光玻璃制品的方法。璃制品以及制造优选防眩光玻璃制品的方法。

【技术实现步骤摘要】
防眩光玻璃制品及用于制造防眩光玻璃制品的方法


[0001]本专利技术总体涉及玻璃制品、优选地防眩光玻璃制品，以及用于制造优选地防眩光玻璃制品的方法。

技术介绍

[0002]对于例如在显示器中的应用，需要具有尽可能低的可见光反射的表面。为此，通常使用抗反射涂层。
[0003]例如，Cao等人提出了纳米沸石基涂层(Microporous and Mesoporous Materials 263(2018)，62
‑
70)。该涂层具有防雾性并且也是抗反射的、即减少反射(reflexionsmindernd)的。该涂层通过浸渍施加。
[0004]Zhang等人提出了一种也设计为减少反射的防雾层(Journal of Colloid and Interface Science 374(2012)，89
‑
95)。该涂层通过旋涂施加。
[0005]Arabatzis等人提出了一种用于光伏应用的光催化、自清洁且减少反射的涂层(Solar Energy 159(2018)，251
‑
259)。
[0006]还已知用于在衬底上产生光学涂层的气相涂覆。
[0007]Bruns等人提出了通过溅射在蓝宝石上产生耐磨单层的减少反射的涂层(Surface&Coatings Technology 290(2016)，10
‑
15)。
[0008]Chen等人提出了制备防雾、减少反射且自清洁的透明SiO2层(Colloids and Surfaces A:Physicochem.Eng.Aspects 509(2016)，149
‑
157)。在此，利用7.5小时和10小时的涂覆时间获得了关于减少反射的良好结果。
[0009]因此，现有技术已知的涂层尤其设计为减少反射的涂层，其中，这种定向反射减少不必关系到或并不关系到增加漫反射光，而是通过提高透射来减少反射。
[0010]然而，这些抗反射表面的缺点在于，当用于显示器、例如电子书阅读器、智能电话或平板计算机中时，它们经常暴露于磨损负荷，随时间推移导致抗反射涂层的磨损。
[0011]还已经表明，与这些抗反射涂层相关的反射减少时常不足以清楚地感知所显示内容的显示。原因在于，虽然这种抗反射涂层(或防反射涂层)减少了表面上的反射，但通过增加透射实现。这种防反射涂层通常取决于入射波长和入射角。如果存在反射，例如光以平角入射，仍会发生干扰性的、眩目的反射。
[0012]此时，所谓的防眩光表面具备优势。这种防眩光表面是通过增加漫反射来减少表面的定向反射或镜面反射的表面。
[0013]防眩光表面通常是指哑光表面。它是不反射入射到其上的光或至少非全镜面反射而是漫反射光的表面。通常，防眩光表面也可以描述为哑光的或无光泽的。这种表面通常称为“抗眩光的”表面。
[0014]这种防眩光表面对于例如显示器应用至关重要。如果显示器屏幕设计为防眩光，则提高了显示器所显示的内容的可见性。因此，这种防眩光表面对于电子设备、如电子书阅读器、智能电话或计算机是重要的。
[0015]此外，从现有技术中还已知，表面结构化可以增加表面的哑光性。
[0016]例如，US 2010/0246016 A1描述了一种具有防眩光表面的玻璃制品。该表面的DOI小于95并且散射度(“雾度”)小于或等于50％。这通过这样的方法实现，其中首先将晶体沉积到制品表面上，然后进行湿法化学蚀刻，其中，在晶体周围蚀刻，随后去除晶体以获得防眩光表面。
[0017]US 2012/0134024 A1描述了一种用于产生防眩光表面的表面处理以及通过这种处理制备的制品。该表面处理规定，将可变形的颗粒沉积到至少一个玻璃表面的至少一个区域上。然后使可变形的颗粒变形，使得它们粘附到玻璃表面，随后进行蚀刻步骤，其中，对玻璃表面未被颗粒覆盖的区域进行蚀刻。蚀刻尤其是可以通过常规的玻璃蚀刻方法进行。
[0018]这种用于蚀刻玻璃的常规方法涉及使用HF或含HF的水溶液。
[0019]例如，Park等人给出了应用于薄膜硅太阳能电池领域的玻璃的湿法化学蚀刻的概述(Current Photovoltaic Research 5(3)2017，75
‑
82)。Park等人还特别说明了含HF的缓冲溶液的蚀刻速率高于纯HF。
[0020]湿法化学蚀刻导致形成球形的结构，其也可以描述为玻璃表面中近球形或圆顶状的突起。Park等人也说明了这种现象。
[0021]Nielsen等人(J.Electrochem.Soc.:Solid State Science and Technology，130(1983)708
‑
711)和Zhu等人(Journal of Micromechanics and Microengineering，19(2009)，Characterization of deep wet etching of fused silica glass for single cell and optical sensor deposition)还提出了通过HF或含HF的溶液蚀刻SiO2的机理。
[0022]用于玻璃表面的湿法化学蚀刻方法不仅必须借助对健康和环境有害因此是不希望的物质，而且还需要长的工艺时间。
[0023]Hein等人描述了玻璃表面的等离子蚀刻(Journal of Nanophotonics，5(2011)，Lithographiy
‑
free glass surface modification by self
‑
masking during dry etching)。
[0024]然而，等离子蚀刻是一种工艺时间很长的方法。在此还需要进行掩蔽。通常，在此使用光刻过程，在复杂的方法中必须应用蚀刻掩模。这种方法不仅复杂，而且成本高。
[0025]还已知用于结构化表面的机械方法，例如喷砂。虽然这些方法可以快速进行，但是例如会导致玻璃板的强度明显降低。这些方法还经常具有这样的缺点，即产生的表面结构有差别，也就是说例如产生线性的表面纹理。
[0026]还已知可以进行反应性离子束蚀刻，其中通过自组织进行掩蔽，从而可以省略光刻过程。在此情况下，在待蚀刻的表面上产生粘附于表面的粒子簇。然而，用这种方法产生的表面就光学性质、尤其是所产生的哑光性而言是不够的。
[0027]从现有技术还已知具有防眩光表面的玻璃制品。
[0028]US 8778496 B2描述了一种化学强化的玻璃板，其包括具有第一较低粗糙度的第一侧和具有第一较高粗糙度的第二侧。玻璃板的两侧具有基本上相同的应力值。特别地，描述了可以通过湿法化学蚀刻进行粗糙化。
[0029]US 8598771 B2描述了一种具有至少一个粗糙化的表面的玻璃制品，其中，玻璃制品的DOI小于90并且透射中的散本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种片状玻璃制品(1)，包括至少一个表面(11)，所述表面具有的至少一个区域(101)的粗糙度RMS为10nm至1000nm，优选地DOI为30至70，60
°
视角下的光泽度值小于40，其中，在所述至少一个表面(11)的区域(101)所布置的区域(110)中测定，所述玻璃制品(1)以透射率确定的雾度值小于3％，其中，所述至少一个表面(11)的至少一个区域(101)在大于0.1mm2且小于3mm2的测量面积内确定的Spk与Svk之比等于1
±
0.1。2.一种片状玻璃制品(1)，特别是根据权利要求1所述的片状玻璃制品(1)，包括至少一个表面(11)，所述表面具有的至少一个区域(101)的粗糙度RMS为10nm至1000nm，优选地DOI为30至70，60
°
视角下的光泽度值小于40，其中，在所述至少一个表面(11)的区域(101)所布置的区域(110)中测定，所述玻璃制品(1)以透射率确定的雾度值小于3％，其中，所述玻璃制品(1)的至少一个表面(11)的至少一个区域(101)确定的Ssk值大于0，优选地在大于0.1mm2且小于3mm2的测量面积内确定。3.一种片状玻璃制品(1)，特别是根据权利要求1或2所述的片状玻璃制品(1)，包括至少一个表面(11)，所述表面具有的至少一个区域(101)的粗糙度RMS为10nm至1000nm，DOI为30至70，60
°
视角下的光泽度值小于40，其中，在所述至少一个表面(11)的区域(101)所布置的区域(110)中测定，所述玻璃制品(1)以透射率确定的雾度值小于3％，其中，所述至少一个表面(11)的至少一个区域(101)在0.33mm*0.33mm面积的均方根斜率平均值Sdq为至少50μm/mm、优选地至少75μm/mm，和/或在1.6mm*1.6mm面积的均方根斜率平均值Sdq为至少70μm/mm、优选地至少90μm/mm、特别优选地至少100μm/mm。4.根据权利要求1至3中任一项所述的片状玻璃制品(1)，其中，所述至少一个表面(11)的至少一个区域(101)的表面形貌设置为使得表面(11)的至少一个区域(101)的偏斜度或斜度Ssk取值大于0、优选地大于1，同时在大于0.1mm2且小于3mm2的测量面积内，所述至少一个表面(11)的至少一个区域(101)的Spk与Svk之比等于1
±
0.1。5.根据权利要求1至4中任一项所述的片状玻璃制品(1)，其中，190DPI的显示器所确定的闪光小于0.1、优选地至多0.09或更小。6.根据权利要求1至5中任一项所述的片状玻璃制品(1)，其中，对所述玻璃制品(1)进行强化、优选地化学强化。7.根据权利要求1至6中任一项所述的片状玻璃制品(1)，其中，所述玻璃制品(1)的厚度在0.1mm至8mm之间。8.根据权利要求1至7中任一项所述的片状玻璃制品(1)，其中，所述玻璃制品(1)包含按wt.％计的以下组分：SiO2ꢀꢀ
50
–
80Al2O
3 0
–
30B2O3ꢀꢀ0–
20Li2O
ꢀꢀ0–
15Na2O
ꢀꢀ0–
20K2O
ꢀꢀ0–
20CaO
ꢀꢀ0–
15BaO
ꢀꢀ0–
10。9.一种用于制造片状玻璃制品(1)、优选地根据前述权利要求中任一项所述的玻璃制
品(1)的方法，所述片状玻璃制品(1)包括至少一个表面(11)，所述表面具有的至少一个区域(101)的粗糙度RMS为10nm至1000nm，优选地DOI为30至70，60
°
视角下的光泽度值小于40，其中，在所述至少一个表面(11)的区域(101)所布置的区域(110)中测定，所述玻璃制品(1)以透射率确定的雾度值小于3％，其中优选地，所述至少一个表面(11)的至少一个区域(...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：肖特股份有限公司，
类型：发明
国别省市：