光掩模、显示装置以及该显示装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光掩模、显示装置以及该显示装置的制造方法。根据示例性实施例的光掩模包括：掩模基板；以及沿掩模基板的第一边缘设置的第一测试图案和第二测试图案，其中第一测试图案具有第一外部形状和第一内部形状，第二测试图案具有第二外部形状，并且第二测试图案的第二外部形状大于第一测试图案的第一内部形状，并且小于第一测试图案的第一外部形状。并且小于第一测试图案的第一外部形状。并且小于第一测试图案的第一外部形状。

【技术实现步骤摘要】
光掩模、显示装置以及该显示装置的制造方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2020年3月25日提交至韩国知识产权局的第10
‑
2020
‑
0036267号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的公开通过引用整体合并于此。


[0003]本公开涉及光掩模、使用该光掩模的显示装置的制造方法以及根据该制造方法制造的显示装置。

技术介绍

[0004]显示装置包括液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)显示器等。显示装置用于在各种电子装置(诸如移动电话、导航装置、数码相机、电子书、便携式游戏机和各种显示终端)中显示图像。
[0005]显示装置可以包括在制造工艺期间设置在不同的层中的各种布线。例如，可以通过诸如沉积工艺、光工艺和蚀刻工艺的工艺来形成布线。光工艺包括曝光工艺和显影工艺，并且光掩模可以在曝光工艺期间使用。预定图案形成在光掩模中。光可以不穿过光掩模的在其中形成有预定图案的一部分，而光可以穿过在其中不形成预定图案的一部分。
[0006]在制造大型显示装置时，布线可以通过使用与显示装置的尺寸相对应的光掩模或者通过移动小于显示装置的光掩模并多次执行曝光工艺来形成。光掩模的未对齐可以与布线的最初的设计形状不同地形成被放置在曝光区之间的边界处的布线。
[0007]本
技术介绍
部分中公开的以上信息仅仅用于加深对本公开的背景的理解，并且因此以上信息可以包含不形成本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

[0008]本公开的示例性实施例是提供能够在移动光掩模和执行曝光工艺的工艺中检查光掩模是否未对齐的光掩模、使用该光掩模的显示装置的制造方法以及根据该制造方法制造的显示装置。
[0009]根据本公开的示例性实施例的光掩模包括：掩模基板；以及沿掩模基板的第一边缘设置的第一测试图案和第二测试图案，其中第一测试图案具有第一外部形状和第一内部形状，第二测试图案具有第二外部形状，并且第二测试图案的第二外部形状大于第一测试图案的第一内部形状，并且小于第一测试图案的第一外部形状。
[0010]第一测试图案的第一外部形状、第一测试图案的第一内部形状和第二测试图案的第二外部形状中的每个可以具有正方形形状，并且第二测试图案的第二外部形状的一侧的第一长度可以比第一测试图案的第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比第一测试图案的第一外部形状的一侧的第三长度短。
[0011]第二测试图案可以进一步具有第二内部形状，并且第二测试图案的第二内部形状可以小于第一测试图案的第一内部形状。
[0012]第一测试图案的第一外部形状、第一测试图案的第一内部形状、第二测试图案的第二外部形状和第二测试图案的第二内部形状中的每个可以具有正方形形状，第二测试图案的第二外部形状的一侧的第一长度可以比第一测试图案的第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比第一测试图案的第一外部形状的一侧的第三长度短，并且第二测试图案的第二内部形状的一侧的第四长度可以比第一测试图案的第一内部形状的一侧的第二长度短。
[0013]根据示例性实施例的光掩模进一步包括：沿面对掩模基板的第一边缘的第二边缘设置的第三测试图案和第四测试图案，第一测试图案和第三测试图案可以被设置在与连接掩模基板的第一边缘和第二边缘的第三边缘平行地延伸的第一假想线上，并且第二测试图案和第四测试图案可以被设置在与第三边缘平行地延伸的第二假想线上。
[0014]第三测试图案可以具有与第一测试图案基本相同的形状，并且第四测试图案可以具有与第二测试图案基本相同的形状。
[0015]第一测试图案和第三测试图案在与第一假想线垂直的方向上移动，第一测试图案可以与第二测试图案至少部分地重叠，并且第三测试图案可以与第四测试图案至少部分地重叠。
[0016]根据本公开的示例性实施例的显示装置的制造方法包括：在基板上形成金属层和光刻胶；对齐在基板上的光掩模并且将光照射到光掩模上；重复移动光掩模并且将光照射到光掩模上的工艺；通过显影光刻胶在显示装置上形成测试抗蚀剂图案；基于测试抗蚀剂图案的形状确定光掩模的对齐误差，并且基于对齐误差的确定重复形成、对齐、照射、移动和显影的工艺；并且通过使用光刻胶作为掩模刻蚀金属层，其中测试抗蚀剂图案包括：沿基板的第一边缘设置的第一测试抗蚀剂图案、第二测试抗蚀剂图案和第三测试抗蚀剂图案，第三测试抗蚀剂图案被设置在第一测试抗蚀剂图案与第二测试抗蚀剂图案之间，第一测试抗蚀剂图案具有第一外部形状和第一内部形状，第三测试抗蚀剂图案具有第三外部形状和第三内部形状，并且第二测试抗蚀剂图案具有第二外部形状。
[0017]第二测试抗蚀剂图案的第二外部形状可以大于第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状，并且小于第一测试抗蚀剂图案的第一外部形状。
[0018]第三测试抗蚀剂图案的第三外部形状可以与第二测试抗蚀剂图案的第二外部形状相同，并且第三测试抗蚀剂图案的第三内部形状可以与第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状相同。
[0019]基板可以包括沿基板的第一边缘设置的多个标记，并且多个标记中的每个可以被设置在第一测试抗蚀剂图案、第二测试抗蚀剂图案和第三测试抗蚀剂图案中。
[0020]第一测试抗蚀剂图案的第一外部形状、第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状和第二测试抗蚀剂图案的第二外部形状中的每个可以具有正方形形状，并且第二测试抗蚀剂图案的第二外部形状的一侧的第一长度可以比第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比第一测试抗蚀剂图案的第一外部形状的一侧的第三长度短。
[0021]第二测试抗蚀剂图案可以进一步具有第二内部形状，并且第二测试抗蚀剂图案的第二内部形状可以小于第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状。
[0022]第一测试抗蚀剂图案的第一外部形状、第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状、第二测试抗蚀剂图案的第二外部形状和第二测试抗蚀剂图案的第二内部形状中的每个可以
具有正方形形状，第二测试抗蚀剂图案的第二外部形状的一侧的第一长度可以比第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比第一测试抗蚀剂图案的第一外部形状的一侧的第三长度短，并且第二测试抗蚀剂图案的第二内部形状的一侧的第四长度可以比第一测试抗蚀剂图案的第一内部形状的一侧的第二长度短。
[0023]金属层的刻蚀可以包括：形成具有与第一测试抗蚀剂图案基本相同的形状的第一测试金属图案、具有与第二测试抗蚀剂图案基本相同的形状的第二测试金属图案以及具有与第三测试抗蚀剂图案基本相同的形状的第三测试金属图案。
[0024]测试抗蚀剂图案可以包括多个第三测试抗蚀剂图案。
[0025]第四测试抗蚀剂图案、第五测试抗蚀剂图案和第六测试抗蚀剂图案可以沿面对基板的第一边缘的第二边缘被设置，第六测试抗蚀剂图案可以被设置在第四测试抗蚀剂图案与第五测试抗蚀剂图案之间，第四测试抗蚀剂图案可以具有与第一测试抗蚀剂图案基本相同的形状，第五测试抗蚀剂图案可以具有与第二测试抗蚀剂图案基本相同的形状，并且第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光掩模，包括：掩模基板；以及沿所述掩模基板的第一边缘设置的第一测试图案和第二测试图案，其中所述第一测试图案具有第一外部形状和第一内部形状，其中所述第二测试图案具有第二外部形状，并且其中所述第二测试图案的所述第二外部形状大于所述第一测试图案的所述第一内部形状，并且小于所述第一测试图案的所述第一外部形状。2.根据权利要求1所述的光掩模，其中：所述第一测试图案的所述第一外部形状、所述第一测试图案的所述第一内部形状和所述第二测试图案的所述第二外部形状中的每个具有正方形形状，所述第二测试图案的所述第二外部形状的一侧的第一长度比所述第一测试图案的所述第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比所述第一测试图案的所述第一外部形状的一侧的第三长度短。3.根据权利要求1所述的光掩模，其中：所述第二测试图案进一步具有第二内部形状，并且所述第二测试图案的所述第二内部形状小于所述第一测试图案的所述第一内部形状。4.根据权利要求3所述的光掩模，其中：所述第一测试图案的所述第一外部形状、所述第一测试图案的所述第一内部形状、所述第二测试图案的所述第二外部形状和所述第二测试图案的所述第二内部形状中的每个具有正方形形状，所述第二测试图案的所述第二外部形状的一侧的第一长度比所述第一测试图案的所述第一内部形状的一侧的第二长度长，并且比所述第一测试图案的所述第一外部形状的一侧的第三长度短，并且所述第二测试图案的所述第二内部形状的一侧的第四长度比所述第一测试图案的所述第一内部形状的一侧的所述第二长度短。5.根据权利要求1所述的光掩模，进一步包括：第三测试图案和第四测试图案，沿面对所述掩模基板的所述第一边缘的第二边缘设置，所述第一测试图案和所述第三测试图案被设置在与连接所述掩模基板的所述第一边缘和所述第二边缘的第三边缘平行地延伸的第一假想线上，并且所述第二测试图案和所述第四测试图案被设置在与所述第三边缘平行地延伸的第二假想线上。6.根据权利要求5所述的光掩模，其中：所述第三测试图案具有与所述第一测试图案相同的形状，并且所述第四测试图案具有与所述第二测试图案相同的形状。7.根据权利要求5所述的光掩模，其中：所述第一测试图案和所述第三测试图案在与所述第一假想线垂直的方向上移动，所述第一测试图案与所述第二测试图案至少部分地重叠，并且所述第三测试图案与所述第四测试图案至少部分地重叠。
8.一种显示装置的制造方法，包括：在基板上形成金属层和光刻胶；对齐在所述基板上的光掩模并且将光照射到所述光掩模上；重复移动所述光掩模并且将所述光照射到所述光掩模上的工艺；通过显影所述光刻胶在所述显示装置上形成测试抗蚀剂图案；基于所述测试抗蚀剂图案的形状确定所述光掩模的对齐误差，并且基于所述对齐误差的确定而重复形成、对齐、照射、移动和显影的工艺；并且通过使用所述光刻胶作为掩模刻蚀所述金属层，其中所述测试抗蚀剂图案包括：沿所述基板的第一边缘设置的第一测试抗蚀剂图案、第二测试抗蚀剂图案和第三测试抗蚀剂图案，所述第三测试抗蚀剂图案被设置在所述第一测试抗蚀剂图案与所述第二测试抗蚀剂图案之间，所述第一测试抗蚀剂图案具有第一外部形状和第一内部形状，所述第三测试抗蚀剂图案具有第三外部形状和第三内部形状，并且所述第二测试抗蚀剂图案具有第二外部形状。9.根据权利要求8所述的制造方法，其中：所述第二测试抗蚀剂图案的所述第二外部形状大于所述第一测试抗蚀剂图案的所述第一内部形状，并且小于所述第一测试抗蚀剂图案的所述第一外部形状。10.根据权利要求9所述的制造方法，其中：所述第三测试抗蚀剂图案的所述第三外部形状与所述第二测试抗蚀剂图案的所述第二外部形状相同，并且所述第三测试抗蚀剂图案的所述第三内部形状与所述第一测试抗蚀剂图案的所述第一内部形状相同。11.根据权利要求10所述的制造方法，其中：所述基板包括沿所述基板的所述第一边缘设置的多个标记，并且所述多个标...

【专利技术属性】
技术研发人员：申东熹，李根虎，李龙熙，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：