【技术实现步骤摘要】
speices)和荚膜红细菌(Rhodobacter capsulatus)在 降解DMSO方面已经显示阳性结果。此外,MEA可以常常通过多种多样 的对于胺和醇常见的反应降解,并且可以水合为氨和乙酸酯。然而,唑和 唑相关化合物以及TMAH的降解特别成问题,因为多种多样的三唑和唑
‑ꢀ
化合物的存在(伴有TMAH或单独存在),对硝化活性具有有害和抑制影响。 具体地,已经显示,三唑类可以以大于1mg/升的水平抑制硝化。
[0009]因此,需要用于处理由TFT
‑
LCD的生产产生的废水的系统和方法(其 有效地去除三唑类以及COD和总氮)。
技术实现思路
[0010]根据本专利技术的一些实施方案的方面可以包括用于废水的化学处理系 统,所述系统包括:氧化模块(oxidation module),所述氧化模块接收作为 输入的废水并且输出流出物(effluent);其中所述氧化模块从输入的废水去 除唑类化合物;并且其中所述流出物具有大于百分之九十(90%)的唑类化 合物的减少。
[0011]根据本专利技术的一些实施 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于废水的化学处理系统,所述系统包括:氧化模块,所述氧化模块接收作为输入的废水并且输出流出物;其中所述氧化模块从所述输入的废水去除唑类化合物;并且其中所述流出物具有大于百分之九十(90%)的唑类化合物的减少。2.权利要求1所述的系统,其中所述废水接收自半导体制造过程。3.权利要求2所述的系统,其中所述半导体制造过程包括化学机械抛光(CMP)。4.权利要求1所述的系统,其中所述唑类化合物包括唑化合物和它们的衍生物,其包括苯并三唑、吡唑、4
‑
甲基
‑
l
‑
H
‑
苯并三唑、5
‑
甲基
‑
l
‑
H
‑
苯并三唑、咪唑、1,2,4 1H
‑
三唑、3
‑
氨基三唑、四唑、唑、噻唑、二唑、1,2,3
‑
噻二唑。5.权利要求1所述的系统,其中所述流出物具有大于百分之九十五(95%)的唑类化合物的减少。6.权利要求1所述的系统,其中所述氧化模块接收作为另外的输入的臭氧气体。7.权利要求1所述的系统,其中所述氧化模块是用于减少唑类化合物的唯一处理。8.权利要求1所述的系统,其中所述废水可以包含固体和液体组分,并且其中所述氧化模块是用于减少唑类化合物的唯一处理。9.权利要求1所述的系统,其中所述氧化模块去除具有化学需氧量(COD)的有机物质。10.权利要求1所述的系统,其中通过所述氧化模块处理的废水包含过氧化氢(H2O2)。11.权利要求1所述的系统,其中不需要所述铁处理或固液分离作为...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。