半导体工艺设备及其门阀中位调节装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于半导体工艺设备的门阀中位调节装置，半导体工艺设备包括工艺腔室和门阀组件，门阀组件包括阀板和中位调节件，中位调节件用于通过转动来调节阀板处于中位状态时出气口的开度，门阀中位调节装置包括套筒和调节杆，套筒套设在调节杆上，调节杆的第一端用于与中位调节件连接并带动中位调节件绕调节杆的轴线转动；套筒能够在调节杆转动时沿调节杆的轴向进行直线运动，且套筒与调节杆沿轴向的相对位置的变化量与调节杆的旋转角度成正比，门阀中位调节装置上具有位置标识图案，用于量化套筒与调节杆之间相对位置的变化量。本发明专利技术提供的门阀中位调节装置能够提高调节工艺腔室压力的调节效率及精确性。本发明专利技术还提供一种半导体工艺设备。提供一种半导体工艺设备。提供一种半导体工艺设备。

【技术实现步骤摘要】
半导体工艺设备及其门阀中位调节装置


[0001]本专利技术涉及半导体工艺设备领域，具体地，涉及一种用于半导体工艺设备的门阀中位调节装置以及一种包括该门阀中位调节装置的半导体工艺设备。

技术介绍

[0002]高真空门阀(Gate Valve)被广泛使用在物理气相沉积(PVD，Physical Vapor Deposition)设备中，用于实现物理气相沉积设备中工艺腔的高真空隔离和小范围压力控制。
[0003]典型的门阀组件通常包括阀板和阀板控制机构，其中，阀板用于与工艺腔的出气口匹配设置，该阀板控制机构用于控制阀板的位置，以使得阀板开启该出气口(即开位，Open Position)封闭该出气口(即关位，Closed Position)或者部分封闭该出气口(即中位，Intermediate Position)。该门阀组件还包括中位调节件，中位调节件用于微调该阀板处于中位状态时的位置。在阀板进入关位时，工艺腔为封闭状态，气压不变，在阀板进入开位时，可以对工艺腔进行全速抽气，只有在阀板进入中位时，可以通过旋转中位调节件调节出气口的开口大小，实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体工艺设备的门阀中位调节装置，其特征在于，所述半导体工艺设备包括工艺腔室和用于控制所述工艺腔室的出气口开度的门阀组件，所述门阀组件包括阀板和中位调节件，所述中位调节件用于通过转动来调节所述阀板处于中位状态时所述出气口的开度，所述门阀中位调节装置包括套筒和调节杆，所述套筒套设在所述调节杆上，所述调节杆的第一端用于与所述中位调节件连接并带动所述中位调节件绕所述调节杆的轴线转动；所述套筒能够在所述调节杆转动时沿所述调节杆的轴向进行直线运动，且所述套筒与所述调节杆沿轴向的相对位置的变化量与所述调节杆的旋转角度成正比，所述门阀中位调节装置上具有位置标识图案，所述位置标识图案用于量化所述套筒与所述调节杆之间的相对位置的变化量。2.根据权利要求1所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述套筒的内壁上形成有内螺纹，所述调节杆包括螺纹段，且所述螺纹段的外周壁形成有外螺纹，所述外螺纹与所述内螺纹相配合。3.根据权利要求2所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述门阀组件还包括阀板控制机构，所述阀板控制机构用于调节所述阀板的状态，所述门阀中位调节装置还包括固定座，所述固定座用于与所述阀板控制机构固定连接，所述套筒活动设置在所述固定座上，且所述套筒能够带动所述调节杆相对于所述固定座沿所述调节杆的轴线方向运动，以使所述调节杆的第一端与所述中位调节件对接或脱离所述中位调节件。4.根据权利要求3所述的门阀中位调节装置，其特征在于，所述固定座包括固定筒和沿所述调节杆的轴线方向设置在所述固定筒上的直线导轨，所述固定筒环绕所述调节杆设置，所述套筒朝向所述调节杆的第一端的端面上形成有相互连通的环形槽和导轨槽，所述固定筒的一端设置在所述环形槽中，所述直线导轨的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：耿宏伟，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：