一种像素界定层、显示基板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:30161707 阅读:40 留言:0更新日期:2021-09-25 15:15
本发明专利技术提供一种像素界定层、显示基板及显示装置,该像素界定层的结构相当于扩大了除最靠近基底的子界定层以外的其余各子界定层的开口区域面积,在通过喷墨打印工艺形成多层有机功能层时,每层子界定层的高度对应一层有机功能层产生的攀爬,这样可以增大各有机功能层对应的有效发光区域的均匀性,进而有效地提高了墨水在子像素区域内的成膜均一性,进而提高了像素内亮度的均匀性。并且,为了提高器件发光效率,不同颜色子像素区域对应的各有机功能层的厚度会有差异,因此相应的子界定层的厚度也应有所差异,因此,本发明专利技术实施例通过将不同颜色的子像素区域对应的子界定层的厚度设置成不完全相同,可以提高像素发光效率,进而提高面板良率。高面板良率。高面板良率。

【技术实现步骤摘要】
一种像素界定层、显示基板及显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
,特别是涉及一种像素界定层、显示基板及显示装置。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(英文:Organic Light

Emitting Diode;简称:OLED)像素界定层包括阳极、有机发光层和阴极等。其中,有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光材料层、电子传输层和电子注入层等,有机发光层可以使用喷墨打印技术制造而成。在使用喷墨打印技术制造有机发光层时,需要先在玻璃基板上形成像素界定层,然后将溶解有机发光层的材料的溶液喷到形成有像素界定层的玻璃基板上,以形成有机发光层。
[0003]目前,使用喷墨打印工艺制备有机发光层中,由于墨水在像素界定层侧壁的攀爬,很容易引起panel(面板)子像素内发光不均匀,子像素内四周发光较暗,进而引起panel发光效率较低,极大影响显示效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供了一种像素界定层、显示基板及显示装置,用于解决
技术介绍
中的问题。
[0005]因此,本专利技术实施例提供了一种像素界定层,包括依次层叠设置在基底上的至少三个子界定层,每两个相互接触的子界定层中,远离所述基底的子界定层在所述基底上的正投影位于靠近所述基底的子界定层在所述基底上的正投影内,且各所述子界定层在所述基底上的正投影的边缘不重合;其中,
[0006]所述至少三个子界定层限定出多个不同颜色的子像素区域,在至少一个子界定层中,不同颜色的子像素区域对应的所述子界定层的厚度不完全相同。
[0007]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,各所述子界定层中,不同颜色的子像素区域对应的所述子界定层的厚度各不相同。
[0008]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,所述子像素区域包括红色子像素区域、绿色子像素区域和蓝色子像素区域,所述像素界定层包括依次层叠设置在所述基底上的三个子界定层;其中,
[0009]在最靠近所述基底的子界定层中,所述绿色子像素区域、所述红色子像素区域和所述蓝色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小;
[0010]在最远离所述基底的子界定层中,所述蓝色子像素区域、所述红色子像素区域和所述绿色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小;
[0011]在中间子界定层中,所述蓝色子像素区域、所述红色子像素区域和所述绿色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小。
[0012]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,所述像素界定层中远离所述基底的表面上的各点到所述基底顶面的距离相同。
[0013]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,各所述子像素区域周围的子
界定层两两之间具有填充部;
[0014]所述填充部与所述子界定层为一体结构;或所述填充部与所述子界定层为独立的结构,且所述填充部的材料与所述子界定层的材料相同。
[0015]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,各所述子界定层在所述基底上的正投影的中心重合。
[0016]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,每两个相互接触的子界定层中,远离所述基底的子界定层在所述基底上的正投影面积为靠近所述基底的子界定层在所述基底上的正投影面积的60%~95%。
[0017]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,各所述子界定层均包括含氟材料,且沿所述基底表面指向远离所述基底表面的方向上,各所述子界定层包括的含氟材料的比例依次增大。
[0018]可选地,在本专利技术实施例提供的上述像素界定层中,所述含氟材料包括以下至少之一:多氟苯类,氯氟苯类,溴氟苯类,碘氟苯类,氟硝基苯类,氟苯胺类,氟苯酚类,氟苯甲醛类,氟苯丙酮类,氟苯甲酸类,苯甲酚氯类,氟甲苯类,单三氟甲苯类,双三氟甲苯类,氟吡啶类,三氟甲基吡啶类。
[0019]相应地,本专利技术实施例还提供了一种显示基板,包括:基底以及设置在所述基底上的像素界定层,所述像素界定层为本专利技术实施例提供的上述像素界定层。
[0020]可选地,在本专利技术实施例提供的上述显示基板中,还包括:设置在所述基底和所述像素界定层之间的阳极,以及设置在所述阳极远离所述基底一侧的至少三个有机功能层;所述像素界定层包括的子界定层的个数与所述有机功能层的个数相同。
[0021]可选地,在本专利技术实施例提供的上述显示基板中,除最远离所述基底的子界定层之外,其余各所述子界定层远离所述基底的表面到所述基底顶面的高度大于或等于对应的所述有机功能层的边缘最高点到所述基底顶面的高度。
[0022]可选地,在本专利技术实施例提供的上述显示基板中,最远离所述基底的子界定层的表面到所述基底顶面的高度大于最远离所述阳极的有机功能层的边缘最高点到所述基底顶面的高度。
[0023]可选地,在本专利技术实施例提供的上述显示基板中,所述阳极上依次设置有三个有机功能层,最靠近所述阳极的有机功能层为空穴注入层,最远离所述阳极的有机功能层为发光层,位于所述空穴注入层和所述发光层之间的有机功能层为空穴传输层。
[0024]相应地,本专利技术实施例还提供了一种显示装置,包括本专利技术实施例提供的上述任一项所述的显示基板。
[0025]本专利技术实施例的有益效果如下:
[0026]本专利技术实施例提供的上述像素界定层、显示基板及显示装置,该像素界定层包括依次层叠设置在基底上的至少三个子界定层,每两个相互接触的子界定层中,远离基底的子界定层在基底上的正投影位于靠近基底的子界定层在基底上的正投影内,且各子界定层在基底上的正投影的边缘不重合,本专利技术实施例提供的像素界定层的结构相当于扩大了除最靠近基底的子界定层以外的其余各子界定层的开口区域面积,在通过喷墨打印工艺形成多层有机功能层时,每层子界定层的高度对应一层有机功能层产生的攀爬,这样可以增大各有机功能层对应的有效发光区域的均匀性,进而有效地提高了墨水在子像素区域内的成
膜均一性,进而提高了像素内亮度的均匀性。并且,为了提高器件发光效率,不同颜色子像素区域对应的各有机功能层的厚度会有差异,因此相应的子界定层的厚度也应有所差异,因此,本专利技术实施例通过将不同颜色的子像素区域对应的子界定层的厚度设置成不完全相同,可以提高像素发光效率,进而提高面板良率。
附图说明
[0027]图1为本专利技术实施例提供的一种像素界定层的结构示意图之一;
[0028]图2为本专利技术实施例提供的一种像素界定层的结构示意图之二;
[0029]图3为本专利技术实施例提供的一种像素界定层的结构示意图之三;
[0030]图4为本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图;
[0031]图5为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
[0032]为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种像素界定层,其特征在于,包括依次层叠设置在基底上的至少三个子界定层,每两个相互接触的子界定层中,远离所述基底的子界定层在所述基底上的正投影位于靠近所述基底的子界定层在所述基底上的正投影内,且各所述子界定层在所述基底上的正投影的边缘不重合;其中,所述至少三个子界定层限定出多个不同颜色的子像素区域,在至少一个子界定层中,不同颜色的子像素区域对应的所述子界定层的厚度不完全相同。2.如权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,各所述子界定层中,不同颜色的子像素区域对应的所述子界定层的厚度各不相同。3.如权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,所述子像素区域包括红色子像素区域、绿色子像素区域和蓝色子像素区域,所述像素界定层包括依次层叠设置在所述基底上的三个子界定层;其中,在最靠近所述基底的子界定层中,所述绿色子像素区域、所述红色子像素区域和所述蓝色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小;在最远离所述基底的子界定层中,所述蓝色子像素区域、所述红色子像素区域和所述绿色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小;在中间子界定层中,所述蓝色子像素区域、所述红色子像素区域和所述绿色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小。4.如权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,所述像素界定层中远离所述基底的表面上的各点到所述基底顶面的距离相同。5.如权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,各所述子像素区域周围的子界定层两两之间具有填充部;所述填充部与所述子界定层为一体结构;或所述填充部与所述子界定层为独立的结构,且所述填充部的材料与所述子界定层的材料相同。6.如权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,各所述子界定层在所述基底上的正投影的中心重合。7.如权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,每两个相互接触的子界定层中,远离所述基底的子界定层在所述基底上的正投影面积为靠近所述基底的子界定层...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡月廖金龙王欣欣张美秀
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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