基片处理装置和基片处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够维持生产率并且检查传送带的状态的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：对基片实施规定处理的处理单元；输送单元，其具有保持基片的保持部及包括传送带并且通过使该传送带移动来使保持部在第1方向上移位的驱动部；能够获取与因保持部的移位而产生的传送带的振动相应的振动信号的测量单元；和控制单元。控制单元包括：实施工艺处理的处理控制部，工艺处理包括用处理单元对包含基片的多个基片依次实施规定处理的第1处理及用输送单元进行对处理单元的多个基片各自的送入送出的第2处理；从测量单元获取振动信号的信号获取部；和基于振动信号来判断传送带的状态的状态判断部。信号获取部在执行工艺处理时获取振动信号。艺处理时获取振动信号。艺处理时获取振动信号。

【技术实现步骤摘要】
基片处理装置和基片处理方法


[0001]本专利技术涉及基片处理装置和基片处理方法。

技术介绍

[0002]专利文献1中公开了一种带状板的张力测定方法，其包括：测定通过带状板的振动而产生的空气的压力变动的第1工序；提取带状板的固有频率的第2工序；和基于所提取的固有频率求取带状板的张力的第3工序。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2005
‑
337846号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]在对基片进行规定的处理的基片处理装置中，存在利用具有传送带的输送单元进行基片的输送的情况。本专利技术提供能够维持生产率并且检查传送带的状态的基片处理装置和基片处理方法。
[0008]用于解决技术问题的技术方案
[0009]本专利技术的一个方面的基片处理装置包括：对基片实施规定的处理的处理单元；输送单元，其具有保持基片的保持部、和包括传送带并且通过使该传送带移动来使保持部在第1方向上移位的驱动部；测量单元，其以靠近传送带的状态设置，能够获取与因保持部的移位而产生的传送带的振动相应的振动信号；以及控制处理单元、输送单元和测量单元的控制单元。控制单元包括：执行工艺处理的处理控制部，该工艺处理包括通过处理单元对包含基片在内的多个基片依次实施规定的处理的第1处理、和通过输送单元进行对处理单元的多个基片的每个基片的送入送出的第2处理；从测量单元获取振动信号的信号获取部；以及基于振动信号来判断传送带的状态的状态判断部。信号获取部在工艺处理的执行期间中获取振动信号。
[0010]专利技术效果
[0011]依照本专利技术，能够提供能够维持生产率并且检查传送带的状态的基片处理装置和基片处理方法。
附图说明
[0012]图1是示意性地表示基片处理系统的一例的立体图。
[0013]图2是表示涂敷显影装置的一例的示意图。
[0014]图3是示意性地表示输送单元的一例的平面图。
[0015]图4是示意性地表示输送单元的一例的侧面图。
[0016]图5的(a)是表示水平驱动部的内部的一例的示意图。图5的(b)是表示测量单元的
一例的示意图。
[0017]图6的(a)是表示升降驱动部的内部的一例的示意图。图6的(b)是表示水平驱动部的内部的一例的示意图。
[0018]图7是表示控制装置的功能构成的一例的框图。
[0019]图8是表示控制装置的硬件构成的一例的框图。
[0020]图9是表示基片处理方法的一例的流程图。
[0021]图10是表示输送动作和传送带检查的处理时序的一例的图。
[0022]图11是表示传送带检查方法的一例的流程图。
[0023]图12的(a)是表示与传送带的振动相应的振动信号的一例的图表。图12的(b)是表示振动信号的频谱分析结果的一例的图表。
[0024]附图标记说明
[0025]2……
涂敷显影装置，30
……
水平驱动部，36a、36b、36c、36d
……
滑轮，38
……
传送带，50
……
水平驱动部，56a、56b
……
滑轮，58
……
传送带，62
……
电动机，70
……
升降驱动部，76a、76b
……
滑轮，78
……
传送带，82
……
电动机，100
……
控制装置，130、150、170
……
测量单元，202
……
处理控制部，212
……
信号获取部，220
……
状态判断部，222
……
输出部、W
……
工件，U1
……
液处理单元，U2
……
热处理单元，A3
……
输送单元。
具体实施方式
[0026]下面，对各种例示的实施方式进行说明。
[0027]一个例示的实施方式的基片处理装置包括：对基片实施规定的处理的处理单元；输送单元，其具有保持基片的保持部、和包括传送带并且通过使该传送带移动来使保持部在第1方向上移位的驱动部；测量单元，其以靠近传送带的状态设置，能够获取与因保持部的移位而产生的传送带的振动相应的振动信号；以及控制处理单元、输送单元和测量单元的控制单元。控制单元包括：执行工艺处理的处理控制部，该工艺处理包括通过处理单元对包含基片在内的多个基片依次实施规定的处理的第1处理、和通过输送单元进行对处理单元的多个基片的每个基片的送入送出的第2处理；从测量单元获取振动信号的信号获取部；以及基于振动信号来判断传送带的状态的状态判断部。信号获取部在工艺处理的执行期间中获取振动信号。
[0028]在该基片处理装置中，在工艺处理的执行期间中获取与传送带的振动相应的振动信号，基于该振动信号判断传送带的状态。在该装置中，不需要为了判断传送带的状态而使由基片处理装置进行的工艺处理停止，因此能够维持生产率并且检查传送带的状态。
[0029]也可以为，上述基片处理装置还包括输出部，该输出部根据状态判断部的判断结果，输出表示传送带的状态不正常的信号。在该情况下，当判断为传送带的状态不正常时，能够执行与传送带的状态正常的情况不同的处理。
[0030]也可以为，处理控制部在第2处理中通过驱动部执行使保持部沿第1方向移位的移位处理。也可以为，信号获取部在移位处理结束后，获取与因该移位处理中的移位而产生的传送带的振动相应的振动信号。通过在移位处理结束后获取振动信号，能够降低该振动信号中包含的外部干扰的影响。
[0031]也可以为，状态判断部基于从移位处理结束起经过了规定时间后的与传送带的振
动相应的振动信号，来判断传送带的状态。在该情况下，能够进一步降低振动信号中包含的外部干扰的影响。
[0032]也可以为，驱动部还包括传送带的至少一部分架设于其上的2个滑轮。也可以为，测量单元靠近传送带中的配置在2个滑轮之间的部分地设置。也可以为，规定时间是根据2个滑轮中的距测量单元较近一个滑轮与测量单元之间的距离设定的。因为直至传送带的振动平息为止的时间取决于固定端与测量单元的靠近位置之间的传送带的长度，所以在上述构成中，能够根据传送带的振动来恰当地判断状态。
[0033]也可以为，驱动部还包括：传送带的至少一部分架设于其上的第1滑轮和第2滑轮；以及使第1滑轮旋转以使传送带移动的电动机。也可以为，测量单元配置在第1滑轮的附近。也可以为，处理控制部在移位处理中通过驱动部使保持部在从第2滑轮去往第1滑轮的方向移位。在该情况下，对连结于保持部的部件与第1滑轮之间的传送带的一部分，伴随着保持部的停止而施加压缩的力。因此，在上述传送带的一部分振动变大，容易获取振动信号。
[0034]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：对基片实施规定的处理的处理单元；输送单元，其具有：保持所述基片的保持部；和驱动部，其包括传送带并且通过使该传送带移动来使所述保持部在第1方向上移位；测量单元，其以靠近所述传送带的状态设置，能够获取与因所述保持部的移位而产生的所述传送带的振动相应的振动信号；以及控制所述处理单元、所述输送单元和所述测量单元的控制单元，所述控制单元包括：执行工艺处理的处理控制部，所述工艺处理包括：第1处理，其通过所述处理单元对包含所述基片在内的多个基片依次实施所述规定的处理；和第2处理，其通过所述输送单元进行对所述处理单元的所述多个基片的每个基片的送入送出；从所述测量单元获取所述振动信号的信号获取部；以及基于所述振动信号判断所述传送带的状态的状态判断部，所述信号获取部在所述工艺处理的执行期间中获取所述振动信号。2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：还包括输出部，其根据所述状态判断部的判断结果，输出表示所述传送带的状态不正常的信号。3.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：所述处理控制部在所述第2处理中执行通过所述驱动部使所述保持部沿所述第1方向移位的移位处理，所述信号获取部在所述移位处理结束后，获取与因该移位处理中的移位而产生的所述传送带的振动相应的所述振动信号。4.如权利要求3所述的基片处理装置，其特征在于：所述状态判断部基于从所述移位处理结束起经过了规定时间后的与所述传送带的振动相应的所述振动信号，来判断所述传送带的状态。5.如权利要求4所述的基片处理装置，其特征在于：所述驱动部还包括所述传送带的至少一部分架设于其上的2个滑轮，所述测量单元靠近所述传送带中的配置在所述2个滑轮之间的部分地设置，所述规定时间是根据所述2个滑轮中的距所述测量单元较近一个滑轮与所述测量单元之间的距离设定的。6.如权利要求3所述的基片处理装置，其特征在于：所述驱动部还包括：所述传送带的至少一部分架设于其上的第1滑轮和第2滑轮；以及使所述第1滑轮旋转以使所述传送带移动的电动机，所述测量单元配置在所述第1滑轮的附近，所述处理控制部在所述移位处理中通过所述驱动部使所述保持部在从所述第2滑轮去往所述第1滑轮的方向移位。7.如权利要求6所述的基片处理装置，其特征在于：所述驱动部还包括与所述保持部一起移动的滑块，所述滑块以能够在所述第1滑轮与所述第2滑轮之间移动的方式连接于所述传送带，
所述第1滑轮、所述测量...

【专利技术属性】
技术研发人员：牧准之辅，寺本聪宽，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：