【技术实现步骤摘要】
用于准备和/或执行基板元件的分离的方法以及基板子元件
[0001]本专利技术涉及一种用于准备和/或执行沿着分离面将基板元件分离成至少两个基板子元件的方法,还涉及尤其是利用和/或能够利用根据本专利技术的所述方法制造的基板子元件。
技术介绍
[0002]在玻璃制造和加工中,以及在相关领域中,通常需要沿着精确限定的分离面分离基板元件,例如玻璃元件,尤其是玻璃板。例如,为了使在与其他部件分离之后得到的基板子元件能够互相兼容,保持先前限定的分离面的轮廓至关重要。
[0003]除了干净的分离面以外,规格还经常规定分离面(例如边缘)的高强度的要求。这么做的原因是基板子元件、例如特别是玻璃子元件总体上对外部影响的敏感度更低,因为这些子元件的分离面具有高强度。这样一来,在某种程度上可以完全或者至少部分地避免界面受到外部的损坏,并且完全或者至少部分地避免可能存在的任何缺陷传播到材料内部。
[0004]此处,本领域技术人员已知以下用于进行分离工艺的常用方法:例如,通过使用CO2激光器进行的热激光束分离(TLS)、机械划片、激光划片或基于激光的热切割(基于激光的热冲击切割)。后者旨在通过通常由CO2激光器产生的热机械应力在基板元件中继续产生初始裂纹。然而,所有这些方法的共同之处在于均不能控制或只能不够充分地控制材料内的裂纹的轮廓。
[0005]本领域技术人员还已知一种激光穿孔方法,其利用超短脉冲激光器(USP)工艺的框架中的激光器,沿着期望的分离面去除待分离的基板元件的各个区域。
[0006]图1a以俯视图示 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于准备和/或执行沿着分离面将基板元件(101)分离成至少两个基板子元件的方法,所述方法包括下述步骤:提供所述基板元件(101),所述基板元件(101)包括至少一个基板主体(103),所述基板主体(103)包括至少一种基板材料;以此方式将至少一个线状焦点(107)控制在所述基板主体(103)内,使得所述基板主体(103)的基板材料至少以分段的方式沿着所述分离面至少局部地被去除和/或被移位,其中所述线状焦点(107)表示为至少一条光束的至少一个焦点,其中所述光束以不对称的光束供给的光束形式至少形成在所述线状焦点的区域中。2.根据权利要求1所述的方法,其中利用所述不对称的光束供给,(i)不对称地供给能量,并且优选地设计能量使得:在先前未被改性的基板材料的区域中,即,优选在背离上一个空腔的侧面上,能量分布的区域质心位于至少一个与发生光束传播的平面垂直的平面中;(ii)所述光束的部分光束(109)仅从半空间的一半或其一部分入射;(iii)所述光束的极角p为0
°
<p<90
°
,和/或所述光束的部分光束在小于180
°
的方位角范围内、优选在85
°
到100
°
之间的方位角范围内、特别是在90
°
到95
°
之间的方位角范围内;(iv)所述光束的部分光束(109)仅从被选择的方向入射,使得所述光束的部分光束(109)不会传播穿过所述基板主体(103)的基板材料已经被去除和/或被移位和/或基板材料已经被压缩的区域;(v)所述光束具有至少一个与发生光束传播的平面平行的镜面;(vi)术语“不对称的”应当被理解为“非旋转对称的”,也就是说,特别是不排除其他对称方式;和/或(vii)在与所述基板元件的至少一个表面平行的每个平面中和/或在与所述光束的光轴垂直的每个平面中,所述光束的部分光束(109)仅从一个象限或仅从两个象限入射。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述光束包括至少一个激光束,至少在所述线状焦点的区域内所述光束被形成为艾里光束或形成为贝塞尔光束,和/或激光能量沿着所述线状焦点(107)的焦线聚焦。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中控制所述线状焦点(107)包括:在所述基板材料的不同局部区域中相继形成所述线状焦点(107),因此这些局部区域的各个局部区域中的基板材料被分别去除和/或移位,特别是所述基板材料被压缩到围绕各个局部区域的所述基板主体的一部分中;其中优选地各个局部区域、特别是在所述基板元件(101)的至少一个第一特定横截面中沿着直线路径延伸,所述第一特定横截面优选是垂直于所述分离面延伸、垂直于所述光束的光轴延伸和/或平行于所述基板元件(101)的至少一个第一表面延伸的平面,优选地,其中所述线状焦点和/或所述局部区域被选择为使得:所述第一特定横截面中的局部区域的最大延展尺寸在0.2μm到200μm之间、优选地在0.2μm到100μm之间、更优选地在0.2μm到50μm之间、甚至更优选地在0.3μm到20μm之间、甚至更优选地在0.3μm到10μm之间、以及最优选地为0.7μm,优选地,其中所述第一特定横截面中的各个相邻的局部区域、特别是沿着所述路径的彼此中心到中心的距离对应于所述第一特定横截面中的局部区域的最大延展尺寸的1到
500倍之间、优选为1到100倍之间、甚至更优选为1到50倍之间、甚至更优选为1到10倍之间、甚至更优选为1.1到5倍之间,和/或该中心到中心的距离在0.1μm到500μm之间、优选地在0.2μm到400μm之间、更优选地在0.2μm到200μm之间、甚至更优选地在0.2μm到100μm之间、甚至更优选地在0.2μm到50μm之间、更优选地在0.4μm到20μm之间、甚至更优选地1μm到7μm之间、以及最优选地1μm到3μm之间。5.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法,其中控制所述线状焦点(107)包括:在所述基板元件(101)、特别是在所述基板主体(103)的不同的有效区域中相继产生所述线状焦点(107),使得布置在这些有效区域中的基板材料被去除和/或被移位,特别是所述基板材料被压缩到围绕各个有效区域的所述基板主体的一部分中,以及其中,各个有效区域的距离被选择为使得至少紧邻的有效区域至少部分地重叠,从而在所述基板材料中沿着所述分离面形成不含所述基板材料的连续通道;其中优选地各个有效区域、特别是在所述基板元件(101)的至少一个第二特定横截面中沿着直线路径延伸,所述第二特定横截面是优选垂直于所述分离面延伸、垂直于所述光束的光轴延伸和/或平行于所述基板元件(101)的至少一个第二表面延伸的平面,优选地,其中所述线状焦点(107)和/或所述有效区域被选择为使得:所述第二特定横截面中的有效区域的最大延展尺寸在0.2μm到200μm之间、优选地在0.2μm到100μm之间、更优选地在0.2μm到50μm之间、甚至更优选地在0.3μm到20μm之间、甚至更优选地在0.3μm到10μm之间、以及最优选地为0.7μm,优选地,其中所述第二特定横截面中的各个相邻的有效区域、特别是沿着所述路径的彼此中心到中心的距离对...
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