具有至少一个气缸的内燃机制造技术

本发明专利技术涉及一种气缸盖(1)，用于有至少一个自上而下的冷却系统的气缸(16)的内燃机，该气缸盖(1)包括界定中间板(4)并与燃烧室相距一定距离的第一子冷却室(2)，以及界定隔热板(5)并靠近燃烧室的第二子冷却室(3)，其中中间板(4)布置在第一子冷却室(2)和第二子冷却室(3)之间，且其中优选为环形的、在第一子冷却室(2)和第二子冷却室(3)之间的至少一个第一传送开口(11)布置在用于喷射或点火装置的中心接纳空间(10)的区域中，其中中心接纳空间(10)优选地相对于气缸的气缸轴线(16a)同心地形成。为了改善对具有高水平热应力的气缸盖(1)的部件的冷却，根据本发明专利技术，将第一子冷却室(2)和第二子冷却室(3)之间的至少一个第二传送开口(12a、12b、12c、12d)布置于在两个相邻的气体交换阀(7a、7b、7c、7d)之间的至少一个阀桥(8a、8b、8c、8d)的区域中。8d)的区域中。8d)的区域中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有至少一个气缸的内燃机
[0001]本专利技术涉及一种用于内燃机的气缸盖，该内燃机具有带有自上而下的冷却系统的至少一个气缸，该气缸盖包括邻接中间板并远离燃烧室的第一室子冷却室，以及邻接隔热板并靠近燃烧室的第二室子冷却室，其中中间板布置在第一子冷却室和第二子冷却室之间，并且其中优选为环形的至少一个第一传送开口布置在第一子冷却室和第二子冷却室之间的、用于喷射或点火装置的中心接纳部的区域中，其中该中心接纳部优选地相对于气缸的气缸轴线同心地形成。此外，本专利技术涉及一种用于冷却气缸盖的方法。
[0002]有具有一个布置在另一个上方的两个冷却室的气缸盖中，自上而下的冷却是一种冷却概念，其中，冷却剂从上冷却室通过传送开口流入下冷却室，其中冷却剂的进口布置在上冷却室的区域中，冷却剂的出口布置在下冷却室的区域中。
[0003]根据自上而下的冷却概念来操作的气缸盖例如从US 10047660 B2、WO 2012/004340 A1或WO 2018/037368 A1已知。
[0004]公开物US 6 681 727 B2和US 6 899 063 B2描述了具有上和下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于内燃机的气缸盖(1)，所述内燃机具有带有自上而下的冷却系统的至少一个气缸(16)，所述气缸盖具有邻接中间板(4)并远离燃烧室的第一子冷却室(2)，以及邻接隔热板(5)并靠近所述燃烧室的第二子冷却室(3)，其中所述中间板(4)布置在所述第一子冷却室(2)和所述第二子冷却室(3)之间，并且其中优选为环形的至少一个第一传送开口(11)布置在用于喷射装置或点火装置的中心接纳部(10)的区域中、在所述第一子冷却室(2)和所述第二子冷却室(3)之间，其中所述中心接纳部(10)优选地设计为相对于所述气缸的气缸轴线(16a)同心，其特征在于，在所述第一子冷却室(2)和所述第二子冷却室(3)之间的至少一个第二传送开口(12a、12b、12c、12d)布置在两个相邻的气体交换阀(7a、7b、7c、7d)之间的至少一个阀桥(8a、8b、8c、8d)的区域中。2.根据权利要求1所述的气缸盖(1)，其特征在于，所述第一子冷却室(2)布置在所述第二子冷却室(3)上方，使得冷却剂从所述第一子冷却室(2)经由在相邻两个所述气体交换阀(7a、7b、7c、7d)之间的区域中的所述第一传送开口(11)以及至少一个所述第二传送开口(12a、12b、12c、12d)流入所述第二子冷却室(3)中。3.根据权利要求1或2所述的气缸盖，其特征在于，在所述第二子冷却室(3)的方向上形成具有特别地连续的渐缩部的所述第一传送开口(11)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的气缸盖，其特征在于，所述第二传送开口(12a、12b、12c、12d)在所述阀桥(8a、8b、8c、8d)中的所述冷却剂的流动方向上倾斜，其中倾斜部自气缸轴线偏离约0
°
至约45
°
，特别是约15
°
和约30
°
。5.根据权利要求1至4中任一项所述的气缸盖(1)，其特征在于，至少一个所述第二传送开口(12a、12b、12c、12d)布置在所述隔热板(5)的热点(15)上方，其中所述第二传送开口(12a、12b、12c、12d)优选地指向所述热点(15)。6.根据权利要求1至5中任一项所述的气缸盖(1)，其特征在于，至少一个所述第二传送开口(12a、12b、12c、12d)大致平行于所述气缸轴线(16a)布置。7.根据权利要求1至6中任一项所述的气缸盖(1)，其特征在于，至少一个所述第二传送开口(12a、12b、12c、12d)...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：AVL李斯特有限公司，
类型：发明
国别省市：