在固体表面,特别是金属表面上施加硅烷基涂层的改进方法技术

技术编号:30135522 阅读:34 留言:0更新日期:2021-09-23 14:37
本发明专利技术涉及一种将硅烷基涂层施加于固体表面,特别是金属表面的改进方法,其中将固体表面,特别是任选地经阳极化或转化涂层涂覆的金属表面,i)任选地清洁、蚀刻和/或去污,ii)与至少一种未水解的硅烷接触,使得在固体表面上形成未水解的硅烷层,iii)与水接触,使得硅烷层至少部分水解,iv)至少部分干燥,使得水和链烷醇的残留物至少部分由固体表面移除,v)任选地加热,使得经至少部分水解和至少部分干燥的硅烷层固化,和vi)在进行步骤v)的情况下,任选地涂漆。本发明专利技术还涉及一种相应的含硅烷的组合物和具有相应的硅烷基涂层的固体表面,特别是金属表面,及其在运输工业或导电装配领域中的用途。用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在固体表面,特别是金属表面上施加硅烷基涂层的改进方法
[0001]本专利技术涉及一种将硅烷基涂层施加于固体表面,特别是金属表面的改进方法和相应的含硅烷的组合物,以及具有硅烷基涂层的固体表面,特别是金属表面,及其在运输工业或导电装配领域中的用途。
[0002]在金属表面处理领域中,硅烷基腐蚀防护性涂层是熟知的。而且,硅烷通常用于在金属表面上形成仅数纳米的非常薄的层。该层一方面显现出与金属表面和另一方面漆的聚合链的交联,提供良好的漆粘合力,由此提供良好的腐蚀防护性。例如美国专利No.7,011,719B2中公开了相应的施加硅烷基涂层的现有技术方法。
[0003]然而,所述薄层不能用于保护不含漆的金属,即为金属提供空白耐腐蚀性(blank corrosion resistance)。为了实现后者,非常必需的是在金属表面上形成厚硅烷层。通常该层应具有数微米的厚度,这对硅烷基涂层而言是非常厚的。此外,所述厚层是有利的,因为它们可能包括缓蚀剂且不仅提供隔离保护(barrier protection),而且还提供积极的腐蚀防护性和自修复(self

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种将硅烷基涂层施加于固体表面,特别是金属表面的方法,其特征在于将固体表面,特别是任选地经阳极化或转化涂层涂覆的金属表面:i)任选地清洁、蚀刻和/或去污,ii)与至少一种未水解的硅烷接触,使得在固体表面上形成未水解的硅烷层,iii)与水接触,使得硅烷层至少部分水解,iv)至少部分干燥,使得水和链烷醇的残留物至少部分由固体表面移除,v)任选地加热,使得经至少部分水解和至少部分干燥的硅烷层固化,和vi)在进行步骤v)的情况下,任选地涂漆。2.根据权利要求1的方法,其特征在于至少一种未水解的硅烷选自由含硫的硅烷组成的组,优选由多硫烷硅烷和巯基硅烷组成的组,更优选由多硫烷硅烷组成的组。3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于至少一种未水解的硅烷在水基溶液中根本不稳定且仅在有机溶剂基溶液中稳定。4.根据前述权利要求中任一项的方法,其特征在于将至少一种未水解的硅烷与至少一种缓蚀剂,优选与苯并三唑混合,然后与至少一种缓蚀剂一起施加于固体表面。5.根据前述权利要求中任一项的方法,其特征在于将至少一种未水解的硅烷施用于固体表面之前,将至少一种未水解的硅烷与至少一种不含水和不溶于水的导电粉末混合,所述导电粉末优选含有或甚至由石墨、石墨烯、氧化锆、氧化钛、氧化硅、碳化硅和/或氧化铝组成。6.根据前述权利要求中任一项的方法,其特征在于不将至少一种未水解的硅烷与有机溶剂混合。7.根据前述权利要求中任一项的方法,其特征在于在步骤iii)中,通过将固体表面浸入水中而使固体表面与水接触。8.根据前述权利要求中任一项的方法,其特征在于步骤iii)中的接触时间为8

【专利技术属性】
技术研发人员:I
申请(专利权)人:凯密特尔有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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